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阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

2 月 23 日消息，据路透社今日报道，阿斯麦（ASML）的研究人员表示，他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法，到 2030 年可将芯片产量提高多达 50%。阿斯麦极紫外（EUV）光源首席技术官迈克尔・珀维斯（M...

阿斯麦 ASML 2026-02-24

阿斯麦将极紫外光刻机光源功率提升至1000瓦，助力提升芯片良率、降低制造成本

阿斯麦（ASML）宣布将极紫外光刻（EUV）设备的核心光源功率提升至1000 瓦，这一技术突破将直接推动先进制程芯片的生产良率提升，同时有效降低单颗芯片的制造成本，成为先进半导体制造领域的又一重要技术进展。在极紫外光刻技...

阿斯麦极紫外光刻机 2026-02-24

国产半导体设备加速崛起

据《日经亚洲》报道，日本研究机构Global Net数据显示，2025年全球芯片设备厂商前20强中有3家中国企业，较2022年美国出口限制前新增2家。这三家公司分别是北方华创、中微公司和上海微电子。值得注意的是，若将范围...

半导体设备 ASML 2026-02-03

ASML计划裁员4%，简化技术部门内的决策流程

全球最大的先进芯片荷兰制造商ASML在公布其销售额连续第十三年实现增长后，CEO克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在声明中表示，计划裁减约1700个工作岗位，作为其技术和IT运营重组的一部分。此次裁...

ASML DUV 2026-01-29

三星首次引入紫外层薄膜是在美国泰勒工厂

三星电子将首次在美国泰勒晶圆厂推出“极紫外（EUV）薄膜”，这是一种提升先进半导体工艺生产力的关键组件。此前尚不清楚是否会引入，但通过订购关键设备几乎确认了申请。根据22日的行业报道，三星电子已在美国德克萨斯州泰勒工厂订...

三星紫外层薄膜 2026-01-26

中国EUV技术实现突破，半导体竞赛格局生变

随着计算技术的进步，越来越多的先进芯片应运而生。最新一代 3 纳米和 2 纳米制程芯片的尺寸极小，传统光源波长已无法在如此精细的尺度上实现可靠的图形光刻。这一挑战并非新题 —— 半导体行业长期以来一直使用深紫外光刻（DU...

EUV 半导体 2025-12-25

据报道，中国利用较旧的ASML组件制造EUV原型机，Eyes 2028芯片制造

中国朝向国产紫外真空光刻能力的漫长进程似乎正在缩小，近期发展显示进展速度超乎预期。据路透社报道，消息人士称中国已组装了一台使用旧ASML系统组件的EUV原型机。正如报道所示，消息人士称中国政府目标是在2028年前生产使用...

ASML EUV 2025-12-19

ASML CEO警告：过度封锁或加速中国技术自主

全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）首席执行官克里克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在专访时，谈到了被禁止向中国出口所有EUV设备及最先进的深紫外（DUV）光刻设备，就当前西方对华光刻机出口限制政策，抛...

ASML DUV 2025-12-16

使用电子噪声和抗蚀剂模糊模型预测随机EUV缺陷密度

近年来，首次直接解决了EUV光刻中二次电子噪声的统计及其对缺陷概率的影响[1]。在本文中，我们将考虑一些更新的 EUV 抗蚀剂模糊模型，包括化学放大（CAR）和金属氧化物（MOR）类型。首先，让我们回顾一下推导 ...

电子噪声抗蚀剂 2025-11-10

4亿美元太贵！台积电仍拒绝购买ASML的High-NA EUV设备

目前，生产尖端半导体必不可少的EUV（极紫外）光刻设备由荷兰ASML独家供应，而台积电2nm工艺就是利用现有的EUV设备实现晶圆的大规模量产，并保持较高的良率。但随着推进到更先进的次2nm节点 —— 即1.4nm与1nm...

台积电 ASML 2025-10-23

ASML警告中国销量下降或加剧26年增长担忧

荷兰半导体设备巨头、芯片制造光刻机的主要供应商 ASML Holding NV 于 2025 年 10 月 15 日发布了 2025 年第三季度财报。结果显示，在人工智能需求的推动下，订单量强劲，但也对 2026 年对中...

ASML EUV 2025-10-16

三星购买了两款ASML高数值孔值EUV工具

据《韩国经济日报》报道，据报道，三星将于今年晚些时候收到其首款高数值孔径（high-NA） EUV 扫描仪——Twinscan EXE：5200B，随后将于 2026 年上半年推出第二台扫描仪。报告补充说，虽然该公司已...

三星 ASML 2025-10-16

ASML警告明年来自中国的需求可能大幅下滑

荷兰半导体设备制造商ASML第三季订单表现优于分析师预期，并表示明年销售额将至少与2025年持平，主要受惠于全球企业大规模投资AI领域、对芯片制造设备的需求。同时，ASML也警告说，明年来自中国的需求可能大幅下滑。ASM...

ASML 财报 2025-10-16

台积电加速自研EUV光罩保护膜，单片晶圆生产效率提升了4.5倍

据Tom's hardware报道，台积电（TSMC）作为全球最大的先进制程晶圆代工厂，不仅拥有着全球最先进的制程工艺，也拥有着数量最多的ASML极紫外光（EUV）光刻机。2019年首次于华为麒麟9000处理器导入EUV...

台积电 EUV 2025-09-23

三星据报道首次外包光掩模，着眼于新的 EUV 光掩模技术

根据 The Elec 报道，援引行业消息人士称，三星首次外包光掩模——芯片制造中至关重要的组件。报道称，三星据说正在外包低端光掩模用于内存芯片，这表明其策略是将资源转向 ArF 和 EUV 掩模生产...

EUV 光刻机 2025-09-18

台积电重新利用旧晶圆厂，将 EUV 薄膜生产引入内部

台积电正在重新利用其位于新竹科学园的旧的、已折旧的 8 英寸 Fab 3 来生产极紫外薄膜，并将这种生产引入内部。EUV 薄膜是一种薄而高度透明的薄膜，拉伸在光掩模上方，以防止颗粒在 EUV 暴露期间接触掩模。它旨在承受...

台积电旧晶圆厂 2025-09-14

ASML 和 SK hynix 在韩国的工厂组装了业界首个“商用”High NA EUV 系统

ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配备 0.55 NA 镜头，实现 8 纳米分辨率——而当前 Low-NA EUV 工具的分辨率仅为 13 纳米——使得单次曝光下晶体管尺寸缩小 1.7 倍，晶体管密度提...

EUV 光刻机 2025-09-04

美国、日本领导政府支持的光刻机(EUV)推广，韩国据报道落后

根据韩国媒体 outlet ETNews 的报道，美国和日本正积极通过政府主导的举措将极紫外(EUV)光刻机引入公共研究机构。相比之下，韩国政府在这一领域的推动工作落后于美国和日本，报道暗示。美国 –...

EUV 光刻机 2025-07-02

半导体巨头对high-NA EUV态度分化

据外媒报道，近期，一位匿名英特尔高层提出一种颇具争议的观点：未来晶体管设计，例如GAAFET和CFET架构，可能会降低芯片制造对先进光刻设备的依赖，尤其是对EUV光刻机的需求。这一观点无疑对当前芯片制造技术的核心模式提出...

半导体 high-NA EUV 2025-07-01

台积电重申1.4nm级工艺技术不需要高数值孔径EUV

台积电在阿姆斯特丹举行的欧洲技术研讨会上重申了其对下一代高数值孔径 EUV 光刻工具的长期立场。该公司的下一代工艺技术不需要这些最高端的光刻系统，包括 A16（1.6 纳米级）和 A14（1.4 纳米级）工艺技...

台积电 1.4nm 2025-05-29

台积电保持观望 ASML最新EUV机台只卖了5台

荷兰阿斯麦（ASML）全新机台却让台积电望之却步！英媒指出，尽管阿斯麦最新一代的高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）微影设备性能强大，但因这款机台单价高达4亿美元，台积电高层表示，目前「找不到非用不可的理由」...

台积电 ASML 2025-05-29

三星外包低端光掩模，将资源集中在ArF和EUV上

据 The Elec 报道，三星计划外包用于存储芯片制造的光掩模的生产。到目前为止，该公司一直在内部生产所有光掩模，以防止技术泄漏。Elec 表示，据报道，三星正在评估低端光掩模的潜在供应商，例如 i...

三星低端光掩模 2025-05-15

三星被曝将首次外包芯片“光掩模”生产，聚焦ArF和EUV等先进技术

5 月 14 日消息，光掩模（版）系生产集成电路所需之模具，是用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，其原理类似于冲洗相片时利用底片将影像复制到相片上。韩国科技媒体 TheElec 今日报道称，三星电子正计划将内存芯片制...

三星外包芯片 2025-05-14

ASML计划在荷兰大规模扩张，助力EUV设备交付

据荷兰媒体报道，ASML计划在2028年前将其员工迁入位于荷兰埃因霍温附近的全新Brainport产业园区。这一消息是在ASML与埃因霍温市政府官员共同介绍城市发展计划初步草案时透露的。这一扩张计划引发了全球晶圆制造行业...

EUV 光刻机 2025-05-09

ASM宣布将启动美国本土生产以应对关税压力

据媒体报道，荷兰半导体设备制造商ASM International（简称“ASM”）在2025年第一季度财报电话会议上宣布，将立即启动在美国本土的生产计划，以应对美国近期实施的关税政策。今年4月初，美国总统特朗普签署了一...

ASML EUV 2025-05-06

台积电避免使用高NA EUV光刻技术

根据台积电北美技术研讨会的报告，代工台积电不需要使用高数值孔径极紫外光刻工具在其 A14 （1.4nm）工艺上制造芯片。该公司在研讨会上介绍了 A14 工艺，称预计将于 2028 年投产。之前已经说过，A16 工艺将于...

台积电高NA 2025-04-30

地都卖了，三星电子与ASML半导体研发合作还能继续吗？

三星电子和ASML曾于2023年12月宣布共同投资7亿欧元（约1万亿韩元），在大都市地区建立极紫外（EUV）研究中心，致力于打造面向未来的半导体制造设备以保持三星在先进工艺制程技术的领先性。针对这次合作，ASML特别与韩...

三星电子 ASML 2025-04-23

前英特尔CEO加入光刻技术初创公司

近日，英特尔前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，担任董事会执行董事长，xLight官网上个月也公布了这一消息。xLight是一家面向极紫外（EUV）光刻机开发基于直线电子加速器的自由电...

英特尔 EUV 2025-04-15

三星已组建专注于1nm芯片开发的团队量产目标定于2029年

2nm GAA 工艺进展被传顺利，但三星的目标是通过推出自己的 1nm 工艺来突破芯片开发的技术限制。一份新报告指出，该公司已经成立了一个团队来启动这一工艺。然而，由于量产目标定于 2029 年，我们可能还需要一段时间才...

三星 1nm 2025-04-10

ASML计划在日本扩增五倍EUV芯片工具员工

近日，荷兰半导体设备制造商ASML宣布，计划在日本将其先进的极紫外光（EUV）芯片工具的员工人数扩增五倍，这一举措旨在加强其在全球半导体市场的竞争力。随着全球对高性能芯片需求的激增，ASML的这一决策不仅能提升其在日本的...

ASML EUV 2025-04-03

EUV的未来看起来更加光明

对支持一切 AI 的先进节点芯片的需求迅速增长，这给该行业满足需求的能力带来了压力。从为大型语言模型提供支持的超大规模数据中心，到智能手机、物联网设备和自主系统中的边缘 AI，对尖端半导体的需求正在加速。但制造这些芯片在...

EUV AI芯片 2025-03-18

芯片巨头，盯上EUV

除了 ArF 空白掩膜，三星还在加大力度将其他高度依赖日本的材料本地化。...

三星电子 EUV 2025-03-05

英特尔：ASML首批两台High-NA EUV设备已投产

据路透社报道，半导体大厂英特尔近日表示，半导体设备大厂阿斯麦（ASML）的首批两台尖端高数值孔径（High NA）光刻机已在其工厂正式投入生产，且早期数据显示，这些设备的性能比之前的机型更可靠。报道称，英特尔资深首席工程...

英特尔 ASML 2025-02-26

英特尔两台High NA EUV光刻机已投产，单季完成3万片晶圆

据路透社2月24日报道，英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产，早期数据表明它们的可靠性大约...

英特尔 High NA EUV 2025-02-26

英特尔：首批两台High-NA EUV 设备已投产

英特尔24日表示，ASML首批的两台先进曝光机已投产，早期数据显示比之前机型更可靠。英特尔资深首席工程师 Steve Carson 指出，英特尔用ASML 高数值孔径（High NA）曝光机一季内生产 3 万片晶圆，即生...

英特尔 High-NA 2025-02-25

英特尔拿到的ASML高数值孔径EUV已投入生产

《科创板日报》25日讯，英特尔周一表示，去年率业界之先接收的两台ASML高数值孔径极紫外光EUV已投入生产。英特尔资深总工程师卡森表示，ASML这两台尖端机器已生产了3万片晶圆。...

英特尔 ASML 2025-02-25

EUV光刻，新的对手

最近，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥（BAT）激光器，这种激光器比现在行业内的标准 CO2 激光器将 EUV 光源提高约 10 倍。这一进步，可能为新一代「超越 EUV」的光刻系统...

EUV 2025-01-15

纳米压印光刻技术旨在挑战EUV

9 月，佳能推出了这项技术的第一个商业版本，有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片的制造。它被称为纳米压印光刻（NIL），能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，使逻辑芯片能够与目前正在量产的 Intel、AMD 和 N...

纳米压印光刻技术 EUV 2025-01-03

中芯没EUV是好事？外媒爆自产DUV大突破

荷兰芯片设备制造巨擘ASML执行长福克（Christophe Fouquet）表示，尽管中国大陆企业如中芯国际近年来在半导体领域有显着进展，但由于无法取得最先进的极紫外光微影设备（EUV），芯片制程技术仍落后台积电、三星...

EUV DUV 2024-12-30

ASML净销售额75亿欧元，净利润为21亿欧元，预计2024年全年净销售额约为280亿欧元

阿斯麦（ASML）近日发布2024年第三季度财报。2024年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元2，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。A...

ASML EUV 2024-10-16