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EUV资讯
中国EUV技术实现突破,半导体竞赛格局生变
EDA/PCB
EUV
半导体
ASML
蔡司
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2025-12-25
据报道,中国利用较旧的ASML组件制造EUV原型机,Eyes 2028芯片制造
国际视野
ASML
EUV
光刻
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2025-12-19
ASML CEO警告:过度封锁或加速中国技术自主
ASML
DUV
EUV
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2025-12-16
使用电子噪声和抗蚀剂模糊模型预测随机EUV缺陷密度
EDA/PCB
电子噪声
抗蚀剂
模糊模型
EUV
缺陷密度
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2025-11-10
4亿美元太贵!台积电仍拒绝购买ASML的High-NA EUV设备
台积电
ASML
High-NA
EUV
2nm
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2025-10-23
ASML警告中国销量下降或加剧26年增长担忧
EDA/PCB
ASML
EUV
芯片工具
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2025-10-16
三星购买了两款ASML高数值孔值EUV工具
EDA/PCB
三星
ASML
高数值孔值
EUV
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2025-10-16
ASML警告明年来自中国的需求可能大幅下滑
ASML
财报
EUV
|
2025-10-16
台积电加速自研EUV光罩保护膜,单片晶圆生产效率提升了4.5倍
台积电
EUV
晶圆
Pellicle
光罩保护膜
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2025-09-23
三星据报道首次外包光掩模,着眼于新的 EUV 光掩模技术
EDA/PCB
EUV
光刻机
掩膜
三星
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2025-09-18
台积电重新利用旧晶圆厂,将 EUV 薄膜生产引入内部
EDA/PCB
台积电
旧晶圆厂
EUV
薄膜生产
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2025-09-14
ASML 和 SK hynix 在韩国的工厂组装了业界首个“商用”High NA EUV 系统
EDA/PCB
EUV
光刻机
ASML
海力士
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2025-09-04
美国、日本领导政府支持的光刻机(EUV)推广,韩国据报道落后
EDA/PCB
EUV
光刻机
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2025-07-02
半导体巨头对high-NA EUV态度分化
EDA/PCB
半导体
high-NA EUV
|
2025-07-01
台积电重申1.4nm级工艺技术不需要高数值孔径EUV
EDA/PCB
台积电
1.4nm
高数值孔径
EUV
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2025-05-29
台积电保持观望 ASML最新EUV机台只卖了5台
EDA/PCB
台积电
ASML
EUV
机台
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2025-05-29
三星外包低端光掩模,将资源集中在ArF和EUV上
EDA/PCB
三星
低端光掩模
ArF
EUV
|
2025-05-15
三星被曝将首次外包芯片“光掩模”生产,聚焦ArF和EUV等先进技术
EDA/PCB
三星
外包芯片
光掩模
ArF
EUV
半导体
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2025-05-14
ASML计划在荷兰大规模扩张,助力EUV设备交付
EDA/PCB
EUV
光刻机
ASML
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2025-05-09
ASM宣布将启动美国本土生产以应对关税压力
EDA/PCB
ASML
EUV
芯片工具
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2025-05-06
台积电避免使用高NA EUV光刻技术
EDA/PCB
台积电
高NA
EUV
光刻技术
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2025-04-30
地都卖了,三星电子与ASML半导体研发合作还能继续吗?
EDA/PCB
三星电子
ASML
EUV
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2025-04-23
前英特尔CEO加入光刻技术初创公司
英特尔
EUV
ASML
xLight
LPP
FEL
光刻
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2025-04-15
三星已组建专注于1nm芯片开发的团队 量产目标定于2029年
EDA/PCB
三星
1nm
芯片
台积电
NA EUV
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2025-04-10
ASML计划在日本扩增五倍EUV芯片工具员工
EDA/PCB
ASML
EUV
芯片工具
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2025-04-03
EUV的未来看起来更加光明
EDA/PCB
EUV
AI芯片
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2025-03-18
芯片巨头,盯上EUV
EDA/PCB
三星电子
EUV
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2025-03-05
英特尔:ASML首批两台High-NA EUV设备已投产
EDA/PCB
英特尔
ASML
High-NA
EUV
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2025-02-26
英特尔两台High NA EUV光刻机已投产,单季完成3万片晶圆
EDA/PCB
英特尔
High NA EUV
光刻机
晶圆
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2025-02-26
英特尔:首批两台High-NA EUV 设备已投产
EDA/PCB
英特尔
High-NA
EUV
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2025-02-25
英特尔拿到的ASML高数值孔径EUV已投入生产
EDA/PCB
英特尔
ASML
EUV
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2025-02-25
EUV光刻,新的对手
EDA/PCB
EUV
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2025-01-15
纳米压印光刻技术旨在挑战EUV
EDA/PCB
纳米压印光刻技术
EUV
佳能
新芯片制造系统
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2025-01-03
中芯没EUV是好事?外媒爆自产DUV大突破
EDA/PCB
EUV
DUV
ASML
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2024-12-30
ASML净销售额75亿欧元,净利润为21亿欧元,预计2024年全年净销售额约为280亿欧元
EDA/PCB
ASML
EUV
光刻机
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2024-10-16
英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心
EDA/PCB
英特尔
AIST
芯片
EUV
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2024-09-03
imec采用High-NA EUV技术 展示逻辑与DRAM架构
EDA/PCB
imec
High-NA
EUV
DRAM
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2024-08-13
极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效
EDA/PCB
EUV
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2024-08-12
台积电不用当盘子了?日本开发出更便宜EUV 撼动芯片业
EDA/PCB
台积电
EUV
ASML
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2024-08-08
价值3.83亿美元!Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机
EDA/PCB
Intel
High NA EUV
光刻机
晶圆
8纳米
|
2024-08-07
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