台积电保持观望 ASML最新EUV机台只卖了5台
荷兰阿斯麦(ASML)全新机台却让台积电望之却步! 英媒指出,尽管阿斯麦最新一代的高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)微影设备性能强大,但因这款机台单价高达4亿美元,台积电高层表示,目前「找不到非用不可的理由」,因此暂时没有计画在A14及其后续制程中导入。
本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/202505/470939.htm路透27日报导,这款先进机台价格逼近4亿美元,几乎是晶圆厂现有最昂贵设备的两倍。 目前,各家芯片制造商正在仔细评估,这款设备在曝光速度以及分辨率上面的提升,是否真的符合如此高昂的价格。
台积电技术开发资深副总经理张晓强表示,即便不使用High-NA EUV设备,A14制程仍能实现显著的技术升级。 「因此,我们的技术团队将持续专注于微缩(scaling)效益的开发,并致力于延长现有Low-NA EUV(低数值孔径极紫外光)微影设备的使用寿命。」
张晓强坦言:「只要我们能持续找到替代方案,就没有必要采用这款昂贵的设备。」事实上,早在去年,张晓强就曾公开表示,他对High-NA EUV技术抱持肯定态度,但对其价格感到却步。
相较之下,台积电竞争对手英特尔,已经计划在未来制程「14A」当中,使用High-NA EUV机台,并且试图藉此来振兴晶圆代工事业,提升对台积电的竞争力。 然而,英特尔也强调,客户仍然可以选择使用旧款且经过验证的技术。
阿斯麦执行长福凯特(Christophe Fouquet)日前在法说会上提到,预计客户将于2026年至2027年间进行高NA设备的量产准备测试,届时业界才有可能考虑在最先进的制程中全面导入。
目前,阿斯麦已向三家客户交付总共5台高NA设备,包括英特尔、台积电以及韩国三星。 这机台重达180吨、体积如同双层巴士,堪称全球最昂贵的半导体制造设备之一。
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