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ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?

  • ASML首席财务官达森(Roger Dassen)表示,EUV技术路线发展受欧美限制,且光刻机已接近技术极限,此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随?还是将资源另辟蹊径寻找新的技术路径?将面临艰难的抉择。 据《芯智讯》报导,台积电已经订购了High NA EUV(高数值孔径极紫外光)光刻机,ASML与台积电的商业谈判即将结束,预计在第2季度或第3季度开始获得大量 2nm芯片制造相关设备订单。ASML预测其设备的市场需求有望一路走强至2026年,这主要是受益于各国
  • 关键字: ASML  EUV  光刻机  

台积电今年将拿到最新款光刻机

  • 6月6日消息,据外媒报道称,ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。报道中提到,ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师,公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。英特尔此前已经订购了最新的高NA EUV设备,第一台设备已于12月底运往俄勒冈州的一家工厂。目前尚不清楚ASML最大的EUV客户台积电何时会收到设备。据悉,这些机器每台造价3.5亿欧元(3.8亿美元),重量相当于两架空中客车A
  • 关键字: ASML  光刻机  高NA EUV  

EUV光刻机“忙疯了”

  • 据市场消息,目前,ASML High NA EUV光刻机仅有两台,如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。当地时间6月3日,全球最大的半导体设备制造商阿斯麦(ASML)宣布,携手比利时微电子研究中心(IMEC),在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab),并由双方共同运营。推动摩尔定律关键因素:High NA EUV技术据业界信息,High NA EUV技术是
  • 关键字: EUV  光刻机  EDA设计  

ASML和IMEC启用联合High-NA EUV光刻实验室

  • 自ASML官网获悉,6月3日,比利时微电子研究中心(imec)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab),由ASML和imec共同运营。声明中称,经过多年的构建和集成,该实验室已准备好为领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪(TWINSCAN EXE:5000)以及周围的处理和计量工具。据悉,该联合实验室的开放是High-NA EUV大批量生
  • 关键字: 阿斯麦  ASML  EUV  

台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?

  • 5月26日,台积电举办“2024年技术论坛台北站”的活动,台积电CEO魏哲家罕见的没有出席,原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的ASML总部,以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源设备供应商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通过社交媒体透露了魏哲家秘密出访的行踪。Christophe Fouquet表示他们向魏哲家介绍了最新的技术和新产品,包括High-NA EUV设备将如何实现未来
  • 关键字: 台积电  ASML  High-NA  EUV  光刻机  

美光计划投资约300亿元在日本新建DRAM厂

  • 据日媒报道,美光科技计划投入6000亿-8000亿日圆(约合人民币277-369亿元)在日本广岛县兴建新厂,用于生产DRAM芯片。这座新厂房将于2026年初动工,并安装极紫外光刻(EUV)设备。消息称最快2027年底便可投入营运。报道称,此前,日本政府已批准多达1920亿日圆补贴,支持美光在广岛建厂并生产新一代芯片。去年,日本经济产业省曾表示,将利用这笔经费协助美光科技生产芯片,这些芯片将是推动生成式AI、数据中心和自动驾驶技术发展的关键。
  • 关键字: 美光  DRAM  日本  EUV  

High-NA EUV光刻机或将成为英特尔的转机

  • 上个月英特尔晶圆代工宣布完成了业界首台High-NA EUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤,为未来工艺路线图的生产做好准备。
  • 关键字: High-NA  EUV  光刻机  英特尔  芯片  半导体  

台积电美国设厂贵又慢?工程师揭关键:EUV机台组装超乎想象

  • 台积电熊本厂已在2月底开幕,美国亚利桑那州新厂却从2024年递延至2025年量产,美国一名结构工程师撰文指出,在美国盖晶圆厂的速度比世界其他地方慢,建造成本也比世界其他地区高出30%到4倍。而盖晶圆厂比想象中复杂,以ASML的一台先进EUV曝光机为例,可能装在40个货柜中,需要漫长而仔细的组装过程。美国进步中心(Institute of Progress)学者、结构工程师波特(Brian Potter)以如何建造一座价值200亿美元的半导体厂为题撰文指出,随着摩尔定律的发展,芯片已变得越来越小、越来越便宜
  • 关键字: 台积电  美国设厂  EUV  机台  

财经专家揭秘台积电「抗震神器」:1铃声预告出大事

  • 花莲外海3日上午发生规模7.2大地震,台积电昨晚间发声明,震后10小时内,晶圆厂设备的复原率已超过70%,虽少数设备受损并影响部分产线生产,但主要机台包含所有极紫外(EUV)光刻设备皆无受损。对此,财经专家黄世聪表示,台积电晶圆厂的机台,使用的是美国航天等级、连美军都在用的阻尼器,且下方还有抗震减压的机台,把地震影响降到最小,且台积电工程师训练有素,只要发生地震、听到公司手机响起台积电之歌的铃声,就知道出大事、要赶回公司。台积电产能牵动全球科技业,强震后外界关注影响。台积电昨晚发布声明,在3日地震发生后仅
  • 关键字: 台积电  抗震神器  EUV  强震  

台积电曝EUV主要机台没受损 美媒示警:强震后面临考验

  • 昨日花莲发生规模7.2地震,外媒高度关注是否对中国台湾护国神山台积电造成影响,台积电表示,部分厂区的少数设备受损,但所有极紫外(EUV)光刻设备等主要机台皆无受损。《华尔街日报》撰文指出,台积电坐落在世界上最大地震热点之一的中国台湾,在昨日强震后将受到考验。报导指出,在此次地震中台积电是幸运的,因为其主要设施地点位在北、中、南部,与东部的震央距离相对较远,这次台积电新竹、龙潭和竹南等科学园区的最大震度为5级 ,台中和台南科学园区的最大震度4级。虽然台积电工厂建筑物完好无损,但用于制造半导体的设备和材料非常
  • 关键字: 台积电  EUV  强震  

中国台湾地震影响全球半导体业 一文看懂如何撼动芯片供应链

  • 3日早上7点58分左右,中国台湾花莲发生规模7.2地震,扰乱台积电在内的公司营运,台积电对此表示,虽然部分厂区的少数设备受损并影响部分产线生产,但主要机台包含所有极紫外(EUV)光刻设备皆无受损。许多外媒则示警,这凸显了台积电和全球芯片供应链处在地震的风险与威胁之中。 根据《商业内幕》报导,这场7.2强震凸显了全球芯片供应链和台积电的脆弱性,台积电是世界上最大的芯片制造商,全球大约90%的最先进处理器芯片都是台积电生产,而且中国台湾也是小型芯片生产商的所在地。报导示警,如果大地震能够扰乱台积电,那么更具破
  • 关键字: 半导体  芯片供应链  台积电  EUV  

High-NA EUV光刻机入场,究竟有多强?

  • 光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机(DUV)起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;再到后来的极紫外光刻机(EUV)以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径光刻机(High-NA)正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官网显示,其组装了两个 TWINSCAN EXE:5000 高数值孔径光刻系统。其中一个由 ASM 与 imec 合作开发,将于 2024 年安装在 A
  • 关键字: High-NA EUV  

ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术

  • 3 月 27 日消息,据荷兰媒体 Bits&Chips 报道,ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻机的技术,运行效率得以提升。根据IT之家之前报道,NXE:3800E 光刻机已于本月完成安装,可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量,相较以往机型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技术 High-NA(高数值孔径) EUV 采用了更宽的光锥,这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽,会导致影响晶圆吞吐量的光损失。
  • 关键字: ASM  NXE:3800E EUV  光刻机  High-NA  

ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解

  • 据路透社报道,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划将公司搬离荷兰。荷兰政府紧急成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组,由首相马克·吕特亲自领导,以确保ASML继续在荷兰发展。消息还称,ASML已向荷兰政府提出了意向,表示将有可能在其他地方扩张或迁移,法国或是选择之一。针对最近“搬离荷兰”等传言,ASML发言人对媒体称他们在考虑公司的未来,但没有透露具体的想法。ASML为何要搬离荷兰?凭借先天的地理位置及海港内陆网络,荷兰一直为欧洲的交通枢纽,国家经济高度依赖国际贸易,2022年最新出口额占全国GDP之比超
  • 关键字: ASML  荷兰  EUV  佳能  光刻机  

韩国芯片巨头SK海力士计划升级在华工厂

  • 据韩媒报道,韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外(EUV)光刻机出口相关限制,对其中国半导体工厂进行技术提升改造。这被外界解读为,随着半导体市场的复苏以及中国高性能半导体制造能力提升,一些韩国芯片企业准备采取一切可以使用的方法来提高在华工厂制造工艺水平。韩国《首尔经济》13日的报道援引韩国业内人士的话称,SK海力士计划今年将其中国无锡工厂的部分动态随机存取存储器(DRAM)生产设备提升至第四代10纳米工艺。对于“无锡工厂将技术升级”的消息,SK海力士方面表示“无法确认工厂的具体运营计划”。无锡工厂
  • 关键字: SK海力士  芯片  EUV  
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euv介绍

在半导体行业,EUV一般指EUV光刻,即极紫外光刻。 极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 根据瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),这么短的波长可以提供极高 [ 查看详细 ]

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