据路透社消息，全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯于当地时间周二在比利时微电子研究中心（imec）举办的行业会议上公开表示，公司预计未来数月内，将迎来首批采用新款高数值孔径（High-NA）EUV光刻机生产的芯片产品，覆盖逻辑芯片与存储芯片两大核心领域。富凯在会议中明确指出，High-NA EUV光刻机作为面向2nm以下（1.8nm/1.4nm及更先进节点）制程的核心图形化设备，核心价值在于降低顶尖芯片电路光刻成型成本，同时适配AI芯片、HBM/DRAM等高端存储芯片的制造需
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阿斯麦
光刻机
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High-NA EUV
美国两党多名参议员联合提出一项新法案，拟近乎全面禁止向敌对国家特定实体出口先进晶圆制造设备（WFE），该法规将补充现有以晶圆厂为目标的禁令。
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光刻机
刻蚀设备
随着AI投资狂潮席卷科技行业，真正限制算力扩张的环节在哪里？半导体研究机构SemiAnalysis创始人给出的答案是：瓶颈一直在变。SemiAnalysis是一家近年来在科技和投资圈迅速走红的半导体研究机构，其研究广泛被AI公司、云计算厂商以及对冲基金使用。近日，在一次播客访谈中，SemiAnalysis创始人Dylan Patel系统解释了AI算力扩张背后的供应链逻辑。他指出，过去几年AI算力的限制因素不断变化，就像打地鼠一样，一个瓶颈被解决，新的瓶颈就会出现。算力扩张的瓶颈不断变化Dylan Pate
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EUV
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算力
ASML
根据 The Elec 报道，援引行业消息人士称，三星首次外包光掩模——芯片制造中至关重要的组件。报道称，三星据说正在外包低端光掩模用于内存芯片，这表明其策略是将资源转向 ArF 和 EUV 掩模生产。本月早些时候，三星据报道向美国光掩模制造商 Photronics 的子公司 PKL 订购了用于内存生产的 i-line 和 KrF 光掩模。报道补充说，日本的 Tekscend Photomask 也在评估中，预计很快将收到订单。报道指出，由于这些是低端芯片的掩模，三星认为它们泄露技术的
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EUV
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掩膜
三星
随着中国通过增加国内 AI 芯片来对抗 NVIDIA 推动半导体独立，据报道，中国正朝着自力更生迈出另一大步，因为 SMIC 据报正在测试由本地初创公司 Yuliangsheng 开发的深紫外（DUV）光刻机。SiCarrier 通常以中国标志性的山命名其设备，包括用于蚀刻机的武夷和用于外延产品的峨眉，TechPowerUp 报道。有趣的是，金融时报披露，这次最新的 EUV 计划，据熟悉情况的人士称，拥有雄心勃勃的内部代号“珠穆朗玛峰”。消息人士称，SMIC 正在测试的机器使用与 ASML 系统类似的全浸
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中芯国际
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光刻机
ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配备 0.55 NA 镜头，实现 8 纳米分辨率——而当前 Low-NA EUV 工具的分辨率仅为 13 纳米——使得单次曝光下晶体管尺寸缩小 1.7 倍，晶体管密度提高 2.9 倍。虽然 Low-NA 工具可以通过昂贵的多重图形匹配来达到这一效果，但 High-NA EUV 简化了光刻步骤，尽管这带来了新的技术挑战。鉴于 High-NA EUV 机器的能力，芯片制造商可以避免双重或三重 EUV 图形匹配，因此 NXE:5200B 将首先用于快速推进下一
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光刻机
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海力士
8 月 21 日， 尼康宣布计划于 9 月 30 日关闭其横滨工厂。据日经报道，截至 7 月底，该设施雇佣了约 350 人。这些员工将留在公司，随着工厂的运营转移到东京品川的尼康总部以及神奈川县的其他地点，他们将搬迁到接收站点。据日经新闻补充，横滨工厂一直从事生物显微镜、工业设备和平板显示器（FPD）光刻设备的开发与制造。公司表示，该工厂的关闭已经计入其截至2026年3财年的合并业绩预测中，并指出总体影响将有限。据报告称，尼康公司旨在通过整合设施来削减成本。尼康光刻业务：历史作用与当前衰退该工厂
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尼康
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晶圆代工
8月13日，我国首台自主研发的商用电子束光刻机“羲之”在浙江余杭正式揭幕。根据杭州政府网站的报道，这台机器是浙江大学技术转化基地签署的第一个项目之一。它已经在客户现场进行了测试，精度与主流国际设备相当。这一里程碑标志着量子芯片研发现在有了自己的“中国刻刀。”研发团队的一名成员解释说，西驰专注于量子芯片和下一代半导体研究的核心阶段。它使用高能电子束在硅基板上“手绘”电路，实现0.6纳米的精度和8纳米的线宽。其设计可以灵活修改，无需掩模，就像用纳米级的画笔直接在芯片上绘画一样——特别适合芯片开发早期阶段所需的
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光刻机
工艺制程
电子束光刻机
（图片来源：ASML）美国总统和欧洲委员会主席本周早些时候签署的贸易协议对几乎所有在欧洲制造并运往美国的商品征收 15%的关税，但有几类产品将免税，包括半导体生产设备，这些设备将享受零关税。因此，像 ASML 这样的公司生产的工具在美国不会变得更贵。欧洲委员会的一份声明称：“我们还就一些战略产品达成了零关税的协议。” 声明中写道。“这包括所有飞机及其零部件、某些化学品、某些通用药品、半导体设备、某些农产品、自然资源和关键原材料。我们将继续努力将更多产品添加到这个清单中。”如果美国对 ASML 生
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光刻机
关税
根据路透社报道，ASML 今日发布了其 2025 年第二季度的财务业绩。虽然第二季度订单量超出了市场预期，但该公司警告称，2026 年的增长可能将达不到预期。如其 新闻稿所述，ASML 指出，虽然人工智能客户的基本面在进入 2026 年时保持强劲，但宏观经济和地缘政治因素的上升不确定性使得目前难以确认 2026 年的增长。如果这种情况发生，2026年将成为自2012年以来首次没有收入增长的一年——路透社指出，打破了不间断增长的记录。同时，ASML 表示，现在预计 2025 年全年净销售
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ASML
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财报
根据韩国媒体 outlet ETNews 的报道，美国和日本正积极通过政府主导的举措将极紫外(EUV)光刻机引入公共研究机构。相比之下，韩国政府在这一领域的推动工作落后于美国和日本，报道暗示。美国 – 国家半导体技术中心加速 EUV 技术采用报告援引行业消息人士称，美国国家半导体技术中心（NSTC）已在纽约的阿尔巴尼纳米技术园区完成了 EUV 光刻设备的安装，并计划从 2025 年 7 月开始为企业提供服务。报告还指出，据称 NSTC 计划在 2026 年推出高 NA EUV 设备——
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光刻机
据外媒报道，ASML正与蔡司（Carl Zeiss）合作，启动研发分辨率可达5纳米的Hyper NA光刻机设备。ASML技术执行副总裁Jos Benschop表示，这种新型光刻机将满足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML刚刚开始出货最先进的光刻机，其单次曝光分辨率可达8纳米，相比旧款设备需要多次曝光才能实现类似效果。Benschop还提到，ASML正与蔡司进行设计研究，目标是开发数值孔径（NA）达到0.7或更高的系统。数值孔径是衡量光学系统聚焦能力的重要指标，直接影响光刻分辨率。NA越高，光波长
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ASML
5纳米
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光刻机
据荷兰媒体报道，ASML计划在2028年前将其员工迁入位于荷兰埃因霍温附近的全新Brainport产业园区。这一消息是在ASML与埃因霍温市政府官员共同介绍城市发展计划初步草案时透露的。这一扩张计划引发了全球晶圆制造行业的广泛关注。据Tom's Hardware报道，台积电、英特尔和三星电子等半导体巨头或将从中受益。ASML的扩张如果能按计划推进，将有助于满足全球对极紫外光（EUV）光刻设备的迫切需求，从而加速先进制程的开发与应用。Brainport产业园区的扩张计划大约在一年前首次公开。据荷兰消
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快科技4月3日消息，据NRC报道，一名43岁的俄罗斯工程师German A.，被指控从ASML阿斯麦、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC台积电窃取机密技术信息，从而帮助俄罗斯建立了自己的28nm晶圆厂。根据指控，他偷窃了ASML 105份内部文件、台积电88份内部文件，涉及半导体生产、各种芯片制造设备的信息。文件中并没有设计和建造晶圆厂的完整蓝图，后者更高级的技术，但仍被视为机密，足以支撑建立完整的28nm级工艺生产线，军用等领域足够了。调查称，German A.通过网盘、社交应用
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俄罗斯
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光刻机
3月25日消息，据俄罗斯卫星通讯社报道，莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁近日在其 “电报” 频道的账号上发文称，莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已完成了俄罗斯首台350nm光刻机的研发工作，这是生产微芯片的关键设备。在俄乌冲突爆发后，美西方对俄罗斯实施了更为严厉的出口管制措施，其中半导体芯片及光刻机等半导体设备成为了限制的重点，这也迫使俄罗斯开始研发自主设计的国产光刻机。2023年，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）在接受媒体采访时就曾表示，2024年俄罗斯将开始生产35
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俄罗斯
光刻机
3月7日消息，ASML公开表示，会继续在中国市场提供维修服务。之前ASML表示在北京新建维修中心，而他们也是调整了这个说法。“我们不是要在2025年新建一个北京本地维修中心，而是今年会在原有基础上进行升级、扩建。”之前曾有消息称，在ASML某些在中国提供服务和备件的许可证于去年年底到期后，现在的荷兰首相很可能不再为其续期，而相关决定是在美国施加一定压力后做出的。目前的情况是，ASML的销售额中，约有一半来自中国（最新的财报显示，中国大陆2024年为ASML贡献了101.95亿欧元收入，约合人民币797.7
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ASML
光刻机
2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中。Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。Steve Carson还强调，完成同样的工作，新款光刻机
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英特尔
据路透社2月24日报道，英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产，早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的两倍。Steve
Carson指出，新的High NA
EUV光刻机能以更少曝光次数完成与早期设备相同的工作，从而节省时间和成本。英特尔工厂的早期结果显示，High NA EUV
机器只需要一次曝光和“个位数”的处理步骤，即可完成早期机器需要三次曝光和约40个处
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英特尔
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晶圆
阿斯麦（ASML）近日发布2024年第四季度及全年财报。2024年第四季度，ASML实现净销售额93亿欧元，毛利率为51.7%，净利润达27亿欧元。2024年第四季度的新增订单金额为71亿欧元2，其中30亿欧元为EUV光刻机订单。2024年全年净销售额达283亿欧元，毛利率为51.3%，净利润为76亿欧元。ASML预计2025年第一季度净销售额在75亿至80亿欧元之间，毛利率介于52%至53%；2025年全年净销售额在300亿至350亿欧元之间，毛利率介于51%至53%。（除非特别说明，数字均以百万欧元为
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2024年财报
1月24日消息，据国内媒体报道称，荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。“美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了相当大的压力，预计特朗普政府将延续这一策略。“我认为，我们自行决定实施什么样的政策非常重要。”按照斯霍夫日的预想，接下来ASML的光刻机怎么卖给中国厂商，卖多少都应该是荷兰说了算。去年第三季度数据显示，阿斯麦在中国市场销售额达到27.9亿欧元，几乎是其总销售额的一半。这家企业预计，今年中国市场
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据外媒报道，荷兰政府决定，将光刻机巨头阿斯麦的对华销售情况，排除在敏感商品出口信息的披露范围之外。报道称，经荷兰外交部证实，荷兰政府从2023年9月起不公开披露阿斯麦在中国的大部分销售情况，而该政策此前从未被报道过。据了解，荷兰2023年在美国政府施压下，出台了一份具有军事意义的“两用”商品清单，重点针对阿斯麦的深紫外光刻机（DUV），规定该设备需要申请许可才能出口，最先进的极紫外光刻机（EUV）则一直需要出口许可。尽管欧盟要求披露敏感商品如EUV光刻机的许可证授予情况，但这一要求并不适用于新清单上的DU
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光刻机
12月25日消息，据媒体报道，全球光刻机巨头阿斯麦ASML富凯（Christophe Fouquet）近期接受荷兰媒体访问时，谈到半导体产业的发展。至于美国是否低估半导体技术的疑问，富凯指出，不仅美国，所有人都低估了打造成功半导体厂的要素，“需要的不光是金钱，还必须投资研发，持续学习与尝试，即使初期屡屡失败，因此需要长年的努力”他认为在半导体产业，来自中国台湾的台积电是全球最成功的企业之一，对于台积电规模庞大且全球依赖台积电芯片的现况，富凯直言，若产业内仅剩少数大厂，反倒能推动创新。他表示三星电子将会好转
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ASML
光刻机
12月16日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯最大的芯片制造商之一Angstrom-T因无力偿还990万美元（约合人民币7200万元）债务而宣布破产。Angstrem-T工厂于2007年开始兴建，位于有俄罗斯硅谷之称的泽列诺格勒，该工厂由前通信部长Leonid Reiman管理。报道中提到，Angstrem-T还与M+W Germany GmbH签订合约金额为1.5亿欧元，其任务是按计划在2008年底前建造和启动Angstrem-T工厂，用于生产130nm~90nm芯片。由于财务状况困难和资金不足，该公司年复
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据日媒报道，日本半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。据Rapidus高管此前透露，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。按Rapidus此前的规划，该公司计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备。根据千岁市当地政府的说法，Rapidus 的 IIM-1 晶圆厂截至上月底已完成63%的
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台积电公开称，高雄晶圆厂兴建工程按照计划进行，并且进展良好，2nm将如期于2025年量产。此前有消息称，高雄厂第一座2纳米厂将于11月26日举行进机典礼，并自12月1日展开装机。ASML也已经向台积电交付了NAEUV光刻机，该光刻机是生产制造2nm及以下工艺芯片的最佳设备。台积电明年量产2nm芯片，还是在高雄工厂，这说明魏哲家说的没错，台积电根留台湾，最先进的技术，也留在了台湾省。芯片规则修改后，美明确想要台积电最先进的芯片技术，还要求更多芯片在本土制造。台积电就加速在美建厂，连续投资超650亿美元，建设
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7nm LPP EUV实际产品中EUV和ArFi的对比1. 实际的光刻机简要系统2. 7LPP是什么意思？台积电的"7LPP"中"LPP"代表"Low Power Plus"，即"低功耗增强版"。7LPP是台积电7纳米工艺的一个变种，主要特点是在保持高性能的同时，进一步优化了功耗表现。7LPP工艺通过改进晶体管设计和制程技术，实现了比前代7纳米工艺更低的功耗和更高的晶体管密度。具体来说，台积电的7LPP工艺相较于10纳米工艺，
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光刻机
10月17日消息，由于业绩暴雷，这导致光刻机龙头ASML股价暴跌，而两天时间股价已跌超20%。据官方公布的数据看，阿斯麦（ASML）今年第三季度接到的订单大幅减少，总订单金额约为26亿欧元，不到上一季度近56亿欧元的一半。消费者新闻与商业频道当天在报道中表示，由于美国和荷兰相关出口限制措施，阿斯麦在其中国市场的增长前景引发投资者担忧。阿斯麦此前一个季度财报数据显示，这家企业49%的销售额来自中国市场。另外，投资人士分析报道，美国主导的对华出口限制导致阿斯麦来自中国的订单有所减少。之前ASML曾表示，也希望
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阿斯麦（ASML）近日发布2024年第三季度财报。2024年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元2，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2024年第四季度的净销售额在88亿至92亿欧元之间，毛利率介于49%到50%，2024年全年的净销售额约为280欧元。ASML还预计，2025年的净销售额在300亿至350亿欧元之间，毛利率介于51%到53%。ASML 2024年第三季度财报一览（除非特别说明，数字均以百万欧元
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据外媒报道，近日，俄罗斯政府已拨款超过2400亿卢布（约合人民币175亿元）支持国产半导体制造所需设备、CAD工具及原材料研发，目标是到2030年实现对于国外约70%的半导体设备和材料的国产替代。该计划已经启动了41个研发项目，并计划在未来几年内再启动43个新项目，共计110个研发项目。这些项目将覆盖从180nm到28nm的微电子、微波电子、光子学和电力电子等多个技术领域，为俄罗斯微电子产业的发展奠定坚实基础。据悉，该计划由俄罗斯工业部、贸易部、俄罗斯国际科学技术中心 （ISTC）MIET 电子工程部制定
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据外媒报道，高通近期与英特尔就整体收购事宜一事进行了接触，尚不清楚双方磋商细节，交易细节还远未确定，也并未提出正式报价。值得注意的是，即使英特尔接受高通的收购要约，这种规模的交易也会招致多国政府以及欧盟方面的反垄断审查，也就是交易仍存在很大的变数。
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英特尔
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光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
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