- 阿斯麦 (ASML) 今日发布2025年度报告（以下简称“年报”）。ASML 2025年报以“携手推进技术向新”为主题，着重阐述了ASML通过技术发展推动创新的承诺——依托这些技术能够制造出性能更强大、能耗更少的芯片，从而帮助解决人类面临的诸多严峻挑战。ASML的持续创新有赖于全球半导体生态系统的密切合作，致力于携手打造可持续的解决方案并支持人工智能（AI）的进一步发展。2025年报回顾了ASML的商业模式及战略、公司治理、可持续发展以及财务表现情况。本次年报还按照欧洲可持
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- 2 月 23 日消息，据路透社今日报道，阿斯麦（ASML）的研究人员表示，他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法，到 2030 年可将芯片产量提高多达 50%。阿斯麦极紫外（EUV）光源首席技术官迈克尔・珀维斯（Michael Purvis）在接受采访时表示：“这不是花拳绣腿，也不是那种只能在极短时间内演示可行的东西，这是一个能在客户实际生产环境的所有相同要求下，稳定输出 1000 瓦功率的系统。”报道称，随着周一公布的这一技术进步，阿斯麦旨在通过改进光刻机中技术难度最高的部分，进一步拉开与所有潜在
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- 阿斯麦（ASML）宣布将极紫外光刻（EUV）设备的核心光源功率提升至1000 瓦，这一技术突破将直接推动先进制程芯片的生产良率提升，同时有效降低单颗芯片的制造成本，成为先进半导体制造领域的又一重要技术进展。在极紫外光刻技术中，光源功率是决定光刻机生产效率与芯片良率的核心指标之一。更高的光源功率能够让光刻机在晶圆曝光过程中，实现更快的光刻速度与更稳定的图案转移效果：一方面，更高的功率可缩短单晶圆的曝光时间，提升光刻机的单位时间产能；另一方面，稳定的高功率光源能减少光刻过程中的图案偏差、线宽不均匀等问题，大幅
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- 据《日经亚洲》报道，日本研究机构Global Net数据显示，2025年全球芯片设备厂商前20强中有3家中国企业，较2022年美国出口限制前新增2家。这三家公司分别是北方华创、中微公司和上海微电子。值得注意的是，若将范围扩大至排名前30名的企业，还将新增两家中国企业：盛美上海和华海清科。北方华创、中微、上海微、盛美上海、华海清科上榜TOP30这一变化既展现了国产设备凸显群体崛起态势，也印证了美国出口管制未达遏制目的，反而倒逼中国半导体供应链自主化加速，激发了本土产业韧性。北方华创具体排名中，北方华创的排名
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- ASML Holding NV 交出 2025 年创纪录财务业绩，印证了先进光刻设备需求的持续旺盛，以及市场对人工智能驱动的半导体领域投资信心的不断提升。这家荷兰半导体设备巨头公布，2025 年全年净营收达 327 亿欧元，净利润为 96 亿欧元。对于读者而言，这份业绩数据具有重要参考意义 —— 不仅因为 ASML 处于全球芯片制造生态的核心位置，更因其发展前景往往是欧洲及全球各地半导体行业资本支出、极紫外光刻（EUV）技术普及进度与技术路线图的领先指标。极紫外光刻业务增长，推动全年业绩创纪录ASML20
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- 全球最大的先进芯片荷兰制造商ASML在公布其销售额连续第十三年实现增长后，CEO克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在声明中表示，计划裁减约1700个工作岗位，作为其技术和IT运营重组的一部分。此次裁员人员主要涉及管理层，人数约占员工总数的4%，大部分裁员将在荷兰进行，美国也有部分职位被裁减。ASML表示，一些领导职位可能不再需要，同时将创建新的工程职位以支持正在进行和未来的项目。“虽然这将使一些受影响的同事能够转移到新的岗位，但我们必须承认，有些人将因此离开阿斯麦公司”。此举旨在加强
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- 阿斯麦（ASML）近日发布2025年第四季度及全年财报。2025年第四季度，ASML实现净销售额97亿欧元，毛利率为52.2%，净利润达28亿欧元；第四季度的新增订单金额为132亿欧元，其中74亿欧元为EUV光刻机订单。ASML 2025年全年净销售额达327亿欧元，毛利率为52.8%，净利润为96亿欧元。截至2025年底，ASML的未交付订单金额为388亿欧元。ASML预计2026年第一季度净销售额在82亿至89亿欧元之间，毛利率介于51%至53%；2026年全年净销售额预计在340亿至390亿欧元之间
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- ASML成为第三家市值突破5000亿美元的欧洲公司，主要客户TSMC给出了超出预期的2026年展望。这家荷兰半导体设备制造商周四在阿姆斯特丹股价上涨了最高7.6%，创下历史新高，并将年初至今涨幅扩大到24%。这使得ASML的市值达到约4530亿欧元（5270亿美元）。此前只有奢侈品集团LVMH和丹麦制药公司诺和诺德A/S达到过这一里程碑。ASML在台积电周四预测2026年资本支出将达到高达560亿美元，超出预期后，ASML突破象征性水平，显示出这家芯片制造商正从人工智能热潮中获益。巴克莱集团策略师Emma
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- 随着计算技术的进步，越来越多的先进芯片应运而生。最新一代 3 纳米和 2 纳米制程芯片的尺寸极小，传统光源波长已无法在如此精细的尺度上实现可靠的图形光刻。这一挑战并非新题 —— 半导体行业长期以来一直使用深紫外光刻（DUV）技术在硅片上进行光刻加工。但要实现最先进芯片设计的纳米级精度，就需要波长更短的光源。这种光源及对应的光刻技术被称为极紫外光刻（EUV）。中国 EUV 原型机提前问世图注：更短、更精准、更纤薄：技术的巨大飞跃，蔡司（ZEISS）数据显示，EUV 技术制造的结构精度达 13.5 纳米，比人
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- 在美国的限制下，中国推进半导体设备自给自足，紫外真空是相较于ASML光刻技术的关键瓶颈。ASML的极紫外光刻（EUV）技术被广泛认为是现代工业的皇冠明珠。中国试图通过投入资源实现类似“曼哈顿计划”的努力，但真正的障碍不仅仅在于设备复制，更在于全球供应链以及ASML三十多年来构建的高量制造（HVM）数据反馈循环。为什么中国的逆向工程在面对EUV时失败？答案可能在于曝光波长的演变。在半导体制造中，光刻机作为光刻工艺的核心设备。它通过图案化的光掩膜和光刻胶将预设计的电路图案光学转移到晶圆表面，其精度和通量直接决
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- 中国朝向国产紫外真空光刻能力的漫长进程似乎正在缩小，近期发展显示进展速度超乎预期。据路透社报道，消息人士称中国已组装了一台使用旧ASML系统组件的EUV原型机。正如报道所示，消息人士称中国政府目标是在2028年前生产使用该原型机的实用芯片，尽管2030年被视为更现实的目标。原型机的存在表明，中国距离半导体自给自足可能比此前预期的更近数年。报道援引消息人士称，原型机于2025年初完成，目前正在进行测试。报告补充说，虽然该机器已运行并具备极紫外光的能力，但尚未生产出可工作的芯片。据报道，前ASML工程师参与了
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- 2007 年，克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）应聘 ASML 时，提出了一个不同寻常的要求：能否接受比这家荷兰公司提供的职位低一级的职位？他想深入了解 ASML 向英特尔和三星电子等科技巨头出售的新型芯片制造设备的技术细节。第二年入职后，他花了数周时间仔细研读产品目录，直到能够背诵出所有关键特性。「即使是今天，当我与客户会面时，我们也会讨论非常具体的事情，」这位 52 岁的首席执行官说道，他于 2024 年接任 ASML 首席执行官一职。「你需要了解他们的业务。你需要能够解释你正在
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- 全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）首席执行官克里克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在专访时，谈到了被禁止向中国出口所有EUV设备及最先进的深紫外（DUV）光刻设备，就当前西方对华光刻机出口限制政策，抛出了一番充满矛盾的“技术制衡论”，引发行业广泛关注。眼下，阿斯麦正面临严苛的出口管制约束：被禁止向中国出口所有极紫外（EUV）光刻设备，以及技术最先进的深紫外（DUV）光刻设备。他重申其观点，认为“应向中国适度输出技术以防其自主研发形成竞争力”；同时，在他看来在对华技术出口限制问题上，西方
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- 半导体行业的领先供应商ASML（阿斯麦）将于11月5日至10日参加第八届中国国际进口博览会（以下简称“进博会”）。在本届进博会上，ASML将以“积纳米之微，成大千世界”为主题，亮相技术装备展区4.1展馆集成电路专区A1-03展台。ASML在2025年进博会的展台在今年进博会上，ASML将通过短片形式分享其对AI（人工智能）时代下半导体行业所面临机遇和挑战的全球洞察：AI正在深刻影响社会与生活的方方面面，驱动全球对不同制程节点芯片需求的激增。这一趋势加速了创新步伐，也带来算力和能源方面的挑战。推动摩尔定律持
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- 关于网红半导体工艺公司Substrate，Semianalysis给出了基于所谓内部资料的分析报告，我们一起来看看他们的工艺是否能颠覆ASML和台积电？
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