- 据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大多数会被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴
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极紫外光刻 半导体制造 标准界限
- 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多个行业的生产、消费都受到影响了,半导体行业也不例外。ASML公司今天宣布下调Q1季度营收预期,同时暂停股票回购,不过他们没公布EUV光刻机出货量是否受影响了。今年1月份ASML公司发布了2019年Q4及全年财报,2019年交付了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前预计营收31到33亿欧元之间,毛利率46%到47%之间,研发费用约为5.5亿欧
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阿斯麦 光刻机 极紫外光刻
- 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
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光刻机 极紫外光刻
- 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
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光刻机 极紫外光刻
- 在半导体工艺进入10nm节点之后，制造越来越困难，其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了，而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机，日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题，EUV技术研发步入正轨。前不久有消息称ASML停止对中芯国际供应EUV光刻机，随后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。中芯国际董事长周子学日前在韩国访问，韩媒报道称周子学表态已经解决了与ASML之间就光刻机供应存在的问题，强调中芯国际在先进
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光刻机 极紫外光刻
- 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
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阿斯麦 极紫外光刻 EUV
- 新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代 ...
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光刻胶 极紫外光刻
极紫外光刻介绍
目录
1 定义
2 概述
3 背景
4 展望
定义
极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的软x 射线。
概述
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能 [
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