据韩媒报道，称三星电子在生产 3D NAND 闪存方面取得重大突破，在其中光刻工艺中大幅缩减光刻胶（PR）用量，降幅达到此前用量的一半。报道称，此前每层涂层需要7-8cc的光刻胶，而三星通过精确控制涂布机的转速（rpm）以及优化PR涂层后的蚀刻工艺，现在只需4-4.5cc。此外，三星使用了更厚的氟化氪（KrF）光刻胶，通常情况下一次工艺形成1层涂层，而使用更厚的光刻胶，三星可以一次形成多个层，从而提高工艺效率，但同时也有均匀性问题。东进半导体一直是三星KrF光刻胶的独家供应商，为三星第7代（11微米）和第
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三星 光刻胶 3D NAND
据中国光谷官微消息，近日，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。据悉，该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。据了
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10 月 15 日消息，据武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）今日消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。中国光谷官方介绍称：“该产品对标国际头部企业主流 KrF 光刻胶系列。相较于被业内称之为‘妖胶’的国外同系列产品 UV1610，T150 A 在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到 120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚
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复旦大学报道功能性半导体光刻胶。
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光刻胶
4月25日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司（以下简称“芯源微”）广州子公司——广州芯知科技有限公司半导体设备光刻胶泵及高纯供液系统研发及产业化项目开工仪式在广州举行。据官网介绍，芯源微成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于提供半导体装备与工艺整体解决方案。芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产
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近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。在半导体制造环节，光刻胶是不可或缺的材料，其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下，如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。为此，华中科技大学与九峰山实验室联合研究团队通过巧妙的化
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4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。据介绍，该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶。且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶质量
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光刻胶
日本芯片材料厂商Resonac的首席执行官Hidehito Takahashi正在为日本分散的芯片材料行业的另一轮整合做准备，并表示公司可能会出手收购JSR的关键股份。source：ResonacHidehito
Takahashi表示，JIC（日本投资公司）斥60亿美元收购全球最大光刻胶制造商JSR，这将促进日本供应链急需的变革。他说，Resonac是由Showa
Denko （昭和电工）和Hitachi Chemical （日立化成）合并而成的化学品集团，正在考虑如何在JSR的未来中发挥积极作
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光刻胶
JSR捷时雅株式会社自1979年4月开始销售光刻胶，至今向半导体行业供应光刻材料、CMP材料和封装材料等已有四十余载。日本JSR、东京日化、信越化工几近掌握着全球EUV光刻胶的市场份额。此次JSR如若成功被收购，或将对全球光刻胶市场带来重要影响。看重JSR这块香饽饽，JIC准备收购6月24日，日经新闻报道，日本政府支持的日本投资公司（JIC）正商谈以1万亿日元收购JSR。日本投资公司计划最早今年提出初步收购意向。如果进展顺利，JSR可能会在2024年被东京证交所摘牌。官方资料显示，JSR成立于1957年，
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JSR 光刻胶
据报道，三星首次引入韩国本土公司东进世美肯（Dongjin Semichem）研发的EUV光刻胶（EUV PR）进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。在2019年经历与日本的光刻胶等关键原料的供应风波之后，三星就在尝试将关键原料的供应本土化，经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产。在日本限制出口、三星尝试重构EUV光刻胶的供应链之后，东进世美肯就已开始研发EUV光刻胶，并在去年通过了三星的可靠性测试，随后不到一年就被应用于三星的大规模生产线。不过，EUV光刻胶可用于3-50道程序，目前
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12 月 4 日消息，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及 OLED 面板原材料，经过三年的努力，韩国实现了光刻
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3月3日消息，日媒报道，当地时间3月1日14时，位于日本宫崎县延冈市水尻町的旭化成集团“Kayak Japan”东海工厂突然发生爆炸和火灾。目前已确认，事故造成至少一人受伤、一人失踪。据旭化成延冈分公司透露，该工厂主要制造炸隧道、矿山等工程、国防用的火药材料，爆炸发生实验设施内，具体愿意还在调查中。旭化成（Asahi
Kasei）成立于1922年，总部位于日本东京，是日本排名前三位的综合性化工企业集团，集团下设化学、建筑、电子、医疗四大业务板块，年销售额约合1200亿元人民币。目前旭化成是世界最大
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日本 光刻胶
什么是光刻胶？为什么它在半导体领域如此之重要？光刻胶又叫光致抗蚀剂，制造一块芯片往往要对硅片进行数十次光刻，除了用到光刻机，还要添加光刻胶作为抗腐蚀涂层。这是一种高频刚需的材料，光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。说到材料就进入了今天的主题，我们不得不接受一个残酷的现实，中国大陆不仅造不出光刻机、光刻胶领域也被卡脖子了。今年五月份，日本对中国光刻胶提出了断供，直接导致国内多家晶圆厂将会面临大缺货的处境，按照工艺的先进程度，光刻胶依次分为G线、I线、
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光刻胶
最近，关于日本光刻胶或断供部分国内芯片企业的消息，不时地传出。原因在于日本的光刻胶产能没有提升，且全球第五大光刻胶生产企业信越化学（日本企业）KrF光刻胶福岛工厂关闭，产能受限，但全球芯片的产能在不断的提升，于是光刻胶也开始供不应求了。 相应的，这些光刻胶厂商肯定优先供应大客户，中国的这些小客户自然优先级排在后面，所以也就有可能面临断供的风险。 很多人表示，断供能够逼着我们的光刻胶前进，话是这样没错，但说实话，目前国内光刻胶技术与日本或者说国际领先水平差太远，一旦断供，国产顶不上，影响还是很大的。
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2019年5月份时，美国将华为列入到所谓的实体名单，之后在2020年，又对华为进行了两次无理的打压，使得华为在芯片方面难以得到供应，甚至连芯片代工也无法实现。正是因此，华为在2020年11月份，将荣耀整体出售，而华为的手机业务也受到很大的影响，因为芯片供应短缺，使得华为的手机市场份额，已经不再世界前五。不过我们看到，华为已经找到了新的赛道，那就是智能电动汽车领域，华为给自己的定位，是成为该领域的增量部件提供商，这与手机业务的市场策略很不一样。在智能手机上，华为的角色是一家整机厂商，其定位是产业链的下游；而
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光刻胶介绍
光刻胶-正文 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理， [
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