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芯片良率 文章 进入芯片良率技术社区

泛林集团推出全球首个晶圆边缘沉积解决方案以提高芯片良率

  • 近日,泛林集团 (Nasdaq: LRCX) 推出了Coronus DX产品,这是业界首个晶圆边缘沉积解决方案,旨在更好地应对下一代逻辑、3D NAND和先进封装应用中的关键制造挑战。随着半导体芯片关键尺寸的不断缩小,其制造变得越来越复杂,在硅晶圆上构建纳米级器件需要数百个工艺步骤。仅需一个工艺步骤,Coronus DX 可在晶圆边缘的两侧沉积一层专有的保护膜,有助于防止在先进半导体制造过程中经常发生的缺陷和损坏。这一强大的保护技术提高了良率,并使芯片制造商能够实施新的前沿工艺来生产下一代芯片。Coron
  • 关键字: 泛林集团  晶圆边缘沉积  芯片良率  
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