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EUV

在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。 极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13。5nm，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。查看更多>>

  • EUV资讯

Imec演示high-NA EUV单次曝光实现22nm节距工艺

Imec high-NA 2026-09-18

High NA‑EUV 从实验走向量产

High NA‑EUV ASML 2026-09-09

通过底层膜工艺优化降低EUV曝光剂量

底层膜工艺 EUV 2026-08-25

英特尔与台积电在High-NA EUV 光刻上走出两条差异化路线

英特尔 台积电 2026-08-14

DRAM的十字路口：押注EUV，还是押注键合？

DRAM EUV 2026-08-11

ASML计划上调其芯片制造设备价格

ASML DUV 2026-07-24
  • EUV专栏

非常需要大陆 ASML执行长急疯了！

ASML EUV 2024-07-10

ASML：我们有五个EUV光刻机客户

EUV 2023-05-12

EUV替代品？佳能新一代光刻机将推出

EUV 2022-12-14

EUV光刻太贵，替代方案被考虑

EUV 2022-11-09

42台EUV光刻机狂赚450亿！ASML年度成绩单来了

EUV 2022-01-21

下一代EUV光刻机即将爆发

EUV 2021-12-28
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