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在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。 极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13。5nm，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。查看更多>>

  • EUV资讯

ASML意外大裁员的背后是对半导体发展失衡的担忧

ASML 裁员 2026-03-20

EUV光刻机将成为算力扩张的下一个瓶颈

EUV 光刻机 2026-03-17

阿斯麦宣布裁员 1700 名管理人员七周后，员工仍不知情

阿斯麦 ASML 2026-03-16

IMEC研发新型曝光后烘烤工艺，提速EUV设备并提升先进芯片产能

IMEC 曝光后烘烤 2026-02-28

气体控制技术提升极紫外光刻（EUV）晶圆产能

气体控制技术 极紫外光刻 2026-02-27

阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

阿斯麦 ASML 2026-02-24
  • EUV专栏

非常需要大陆 ASML执行长急疯了！

ASML EUV 2024-07-10

ASML：我们有五个EUV光刻机客户

EUV 2023-05-12

EUV替代品？佳能新一代光刻机将推出

EUV 2022-12-14

EUV光刻太贵，替代方案被考虑

EUV 2022-11-09

42台EUV光刻机狂赚450亿！ASML年度成绩单来了

EUV 2022-01-21

下一代EUV光刻机即将爆发

EUV 2021-12-28
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