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EUV

在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。 极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13。5nm，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。

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