- 荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）1月20日发布了2020年Q4和全年财报，这位世界光刻机霸主去年共出货了31台EUV光刻机，中国大陆由于种种原因没有买到其中任何一台。 有人说阿斯麦是唯一一个能让台积电折腰的公司，这一点也不夸张。阿斯麦所生产的光刻机，是半导体工厂生产芯片的最关键工具。毕竟，没有刀，再好的师傅也雕不出来花。 如果有任何厂商的光刻机设备需要维修，阿斯麦的工程师从登上飞机那一刻，厂商就要付给他们以小时计的美金。 曾经，某上市公司的光刻机出问题后，排了3年队才等到阿斯麦的工程师。结果阿斯麦的
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- 拜登上任在即，他会缓解紧张的中美科技局势吗？近期，全球最大光刻机制造商ASML的CEO表示，即使总统换届，两国在包括光刻机在内的半导体领域，仍将出现进一步的对抗。也有人发表看法，发展芯片，开源指令集架构RISC-V可能会让中国芯片自主「弯道超车」？ 离美国新任总统拜登的上任越来越近了。 在过去川普任职期内，中美之间的贸易战让不少科技公司都卷入其中，总部位于荷兰的光刻机制造商ASML也是其中之一。 由于美国政府的压力，其最新价值约2亿美元的光刻机已停止向中国销售。 由于川普的举动常常出其不意而且疯狂
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- 14日讯，《科创板日报》记者从ASML获悉，其公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。
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- 虽然将会有更多用于EUV光刻的光刻胶制造商。但是目前这个市场是日本公司垄断的。目前只有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，但是毫无疑问，这就是光刻技术的未来。与任何未来一样，它为一些光刻材料市场开拓者提供了在新市场中建立自己的机会。尤其是目前由两家日本公司生产使用EUV光刻机所使用的技术处理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士胶片公司。富士胶片控股公司和住友化学将在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这可能有助于减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，并使它们更加节能。这
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- 9月30日讯，此前有媒体报道，由于先进制程推进顺利和订单量扩大，台积电将加大EUV光刻机的采购力度，预计到2021年底采购量为55台左右。台积电方面回复称：公司不评论市场传闻。据了解，一台EUV光刻机售价近8亿元，55台EUV光刻机价值约440亿元。相关阅读：台积电明年底前将累计采购55台EUV光刻机：花费超440亿元出处：快科技 作者：万南芯片制程已经推进到了7nm以下，这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了，目前全世界只有荷兰ASML（阿斯麦）可以制造。来自Digitimes的报道称，台积电打算在
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- 9月16日，中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称，“率先行动”计划第二阶段要把美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。白春礼称，从2021年到2030年未来的十年是“率先行动”计划第二阶段。对此，首先要进行体制机制改革。他称，目前已经设立了创新研究院、卓越创新中心、大科学中心和特色所四类机构，目的是根据科研性质不同进行分类定位、分类管理、分类评价、分类资源配置。“这个工作还没有完，只是进行了一部分，所以第二阶段我们争取在2025年要把四类机构全部做完，
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- 相信大家都知道，在前几天，ASML重磅官宣了一条大新闻，正式在中国宝岛台湾建设了第一家海外培训中心—亚洲培训中心，这家培训中心标配了14名培训技师，一年大约可以培养超过360名EUV光刻机操作工程师，能够让芯片生产加工企业更好的掌握和使用EUV光刻机，从而可以进一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其实ASML在台湾建设这座亚洲培训中心，最大的目的就是为了直接帮助台积电培养更多的光刻机操作工程师，因为在过去两年时间里，ASML一共售卖了57台EUV光刻机产品，其中台积电就购得了30台，占据着绝大部分的份额，
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台积电 5nm EUV
- 24日，台积电举办了第26届技术研讨会，并披露了旗下最新工艺制程情况。按照台积电的说法，5nm工艺规划了两代，分别是N5和N5P。其中N5确定引入EUV（极紫外光刻）技术，并且已经在大规模量产之中。相较于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，逻辑器件密度是之前的1.8倍。N5P作为改良版，仍在开发中，规划2021年量产，相较于第一代5nm，功耗进一步降低10%、性能提升5%，据称面向高性能计算平台做了优化。据手头资料，台积电的5nm有望应用在苹果A14芯片（包括Apple Silicon PC处
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台积电 5nm EUV
- 台积电在高端制程技术上冲锋陷阵，已经成为光刻机龙头 ASML 在 EUV 机台上的最大采购客户，累计已经购买了 30 台 EUV 设备。日前，ASML 继在韩国成立 EUV 技术培训中心后，也在台积电先进制程的重镇台湾台南，成立 EUV 技术培训中心。一台EUV系统需要50个工程师操作一台造价逾一亿欧元的精密 EUV 系统，重量高达 180&nbs
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- 日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能够处理7nm和更先进工艺的设备，EUV技术已经被广泛认为是突破摩尔定律瓶颈的关键因素之一。Yen援引统计数据显示，截至2019年第四季度，ASML当年共售出53台EUV NXE：3400系列EUV光刻机，使用EUV机器制造的芯片产量已经达到1000万片。他说，EUV已经成为制造7nm、5nm和3nm逻辑集成电
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- 2020年因为全球经济的问题，本来电子行业会下滑，但是晶圆代工场合不降反升，台积电Q1季度营收大涨了30%，牢牢坐稳了全球晶圆代工一哥的位置。由于华为、苹果等公司的7nm及5nm工艺需求大，台积电目前正在疯狂增加EUV产能。台积电2018年量产了7nm工艺，不过第一代7nm没有EUV工艺加持，2019年的7nm EUV工艺才由华为的麒麟990 5G处理器首发，而今年的5nm工艺则会全面上马EUV工艺。根据台积电之前公布的数据，7nm及7nm EUV工艺目前每月的产能达到了11万片晶圆/月，而5nm工艺的月
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- 随着时间迈入2020年中，以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发，实际上麒麟1020和苹果A14芯片就是基于台积电5nm工艺，表现相较7nm将会更上一层楼。很明显在7nm时代，三星是落后于台积电的，不过这家巨头似乎想在5nm时代弯道超车，近日据媒体报道，三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线，将应用先进的极紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技术，拿7nmEUV工艺对比，三星5nmE
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三星 5nm EUV
- 台积电上周发布了3月及Q1季度财报,营收同比大涨了42%,淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了,ASML的EUV光刻机已经断货,要延期交付,好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。根据ASML之前的报告,3月底他们下调了1季度营收预期到24-25亿美元,差不多减少了1/4左右的营收,毛利率也下滑到了45-46%之间。此外,ASML的EUV光刻机也因为种种原因断货了,虽然订单没有取消,但是交付要延期了,三星、台积电今年都不太容易快速扩张EUV产能。不过台积电在这次危机中更有优势地位,他们包
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- 据ZDnet报道，三星宣布，已成功将EUV技术应用于DRAM的生产中。
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三星 EUV DRAM
- 当前在芯片制造中最先进的EUV（极紫外光刻）工艺被三星率先用到了DRAM内存颗粒的生产中。这家韩国巨头今日宣布，已经出货100万第一代10nm EUV级（D1x）DDR4 DRAM模组，并完成全球客户评估，这为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。得益于EUV技术，可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤，并进一步提升产能。三星表示，将从第四代10nm级（D1a）DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV，明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片，预计会使12
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euv介绍
在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。
极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。
根据瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），这么短的波长可以提供极高 [
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