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极紫外光刻机

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阿斯麦（ASML）宣布将极紫外光刻（EUV）设备的核心光源功率提升至1000 瓦，这一技术突破将直接推动先进制程芯片的生产良率提升，同时有效降低单颗芯片的制造成本，成为先进半导体制造领域的又一重要技术进展。在极紫外光刻技...

阿斯麦极紫外光刻机 2026-02-24

IMEC已成功演示利用ASML最先进的极紫外（EUV）设备，实现纳米孔径的全晶圆级制备。ASML的产品传播经理称其为“意外地出色的生物医学应用”，这可能是一项重要进展，因为纳米孔开辟了分子感测的可能性。纳米孔的特性在生物...

ASML芯片极紫外光刻机 2025-12-23

ASML 财务总监 Roger Daasen 表示，今年未来几个季度中国大陆的销量将显著回升。...

ASML 光刻机 2023-04-21

芯研所消息，ASML第一台全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻机系统已经交付给客户，和前代产品相比生产力提高了约15-20％，套刻精度提高了约30％。据了解，本次交付的TWINSCAN NXE:3600D...

ASML 极紫外光刻机 2021-07-26

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