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光刻
前英特尔CEO加入光刻技术初创公司
英特尔
EUV
ASML
xLight
LPP
FEL
光刻
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2025-04-15
ASML官网显示:支持7nm高端DUV光刻机仍可出口
EDA/PCB
ASML
芯片制造
DUV
光刻
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2023-07-03
事关EUV光刻技术,中国厂商公布新专利
EDA/PCB
EUV
光刻
华为
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2022-11-27
包括光刻!美国禁运6项关键技术
EDA/PCB
光刻
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2020-10-26
台积电公布3纳米光刻规划及未来路线
台积电
3纳米
光刻
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2020-08-26
Intel/台积电/ASML齐捧EUV光刻:捍卫摩尔定律
Intel
台积电
ASML
EUV
光刻
摩尔定律
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2020-07-02
泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破
EDA/PCB
EUV
光刻
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2020-02-28
日韩决裂,半导体谁最受伤?
日韩贸易战
半导体
光刻
DRAM
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2019-08-25
首次加入EUV极紫外光刻!台积电二代7nm+工艺已量产
光刻
台积电
7nm
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2019-05-27
芯片是如何被制造出来的?芯片光刻流程详解
EDA/PCB
芯片,光刻
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2019-02-20
我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备?
EDA/PCB
光刻
芯片
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2018-12-03
基于模型的建议:光刻友好设计成功的导航
EDA/PCB
模型
光刻
DRC
MBH
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2017-06-13
“合肥造”光刻设备将打破国外垄断
模拟技术
光刻
芯片
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2016-11-03
晶圆制造人才告急,校企联动与在职培训缺一不可
EDA/PCB
晶圆
OPC
RET
光刻
201407
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2014-06-26
Molecular Imprints 将为半导体大批量制造提供先进光刻设备
EDA/PCB
半导体
光刻
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2012-09-25
SEMI:2013年全球光刻掩膜板市场预计可达33.5亿美元规模
EDA/PCB
光刻
掩膜板
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2012-08-05
2012-2013年中国半导体分立器件行业进入壁垒分析
EDA/PCB
半导体
光刻
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2012-05-28
SUSS MicroTec收购Tamarack Scientific公司
EDA/PCB
Tamarack
光刻
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2012-04-10
可弯曲式光电技术大跃进
电源与新能源
光电
纳米
光刻
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2011-10-25
李长春在吉林华微调研时称模拟器件行业很有前途
模拟技术
华微
模拟器件
光刻
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2011-09-07
2011韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元
EDA/PCB
半导体
光刻
LCD
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2011-08-31
DRAM成本削减及节省步伐从2012年开始将放缓
网络与存储
DRAM
光刻
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2011-07-10
MIT研究显示电子束光刻可达9纳米精度
EDA/PCB
光刻
EUV
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2011-07-06
芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
EDA/PCB
芯片制造
光刻
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2011-03-03
HamaTech接到几十份MaskTrack Pro设备订单
EDA/PCB
HamaTech
光刻
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2010-12-24
ASML公布其Q3业绩
EDA/PCB
ASML
光刻
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2010-10-15
Sokudo早餐会上论光刻技术趋势
EDA/PCB
ASML
22nm
光刻
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2010-07-20
Global Foundries宣布2015年将在15nm制程节点正式启用EUV光刻技术
EDA/PCB
GlobalFoundries
15nm
光刻
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2010-07-16
Intel展示新材料 极紫外光刻走向实用
EDA/PCB
Intel
光刻
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2010-06-17
美科学家设计出简便快速的纳米电线制造方法
EDA/PCB
纳米
光刻
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2010-06-17
SUSS MicroTec推出面向LED市场的专用光刻系统
EDA/PCB
LED
光刻
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2010-06-10
新型高科技芯片有望使海水变成淡水
EDA/PCB
芯片
光刻
腐蚀
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2010-05-07
IMEC让前TSMC欧洲总裁来加强IC业务
EDA/PCB
IMEC
光刻
CMOS
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2010-05-07
IC设备国产化多点突破二手市场寻求整合
EDA/PCB
半导体设备
芯片制造
光刻
刻蚀
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2010-04-21
张忠谋公开台积电20nm制程技术部分细节
EDA/PCB
台积电
光刻
28nm
22nm
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2010-04-19
未来三年内存价格将持续攀升
网络与存储
ASML
光刻
内存芯片
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2010-04-16
ASML第一季订单量继续增长
EDA/PCB
ASML
光刻
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2010-04-13
Vistec Lithography宣布与华中科技大签署战略合作伙伴协议
EDA/PCB
Vistec-Lithography
光刻
掩膜
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2010-04-12
DRAMeXchange:未来三年内存价格将持续攀升
网络与存储
内存芯片
光刻
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2010-03-31
IBM宣布旗下芯片厂将停用PFOS/PFOA两种有毒化合物
EDA/PCB
IBM
光刻
蚀刻
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2010-03-08
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