半导体材料突围战！久日新材如何成为光刻胶赛道“破局者”？

当您寻找可靠的国产半导体材料供应商时，一家在光刻胶领域实现全产业链突破的企业正脱颖而出——久日新材（688199.SH）。这家光引发剂巨头，正以令人瞩目的速度在半导体核心材料国产化浪潮中崭露头角。

从光固化龙头到半导体材料新锐

久日新材的战略转型始于2020年。通过收购大晶信息、大晶新材等企业，强势切入半导体化学材料赛道。2024年11月，久日新材控股公司年产4500吨光刻胶项目进入试生产阶段，其中面板光刻胶4000吨、半导体光刻胶500吨，为国产光刻胶规模化供应注入强劲动力。

全产业链布局，久日新材的核心壁垒

在半导体材料国产化进程中，“卡脖子”环节常在于核心原材料。久日新材的独特优势在于构建了光刻胶全产业链自主能力。

上游原料自主可控：久日新材已掌握光刻胶核心原材料——重氮萘醌类光敏剂的生产工艺。更关键的是，其关联企业张家界久瑞生物掌控了合成光敏剂的关键天然原料五倍子及焦性没食子酸的提取技术，该原料全球无法人工合成，久瑞拥有全国最大产区资源。

中游产品矩阵完善：久日新材已成功研发30余款光刻胶配方，产品线覆盖半导体i-线光刻胶、发光二极管g-线/h-线光刻胶、面板光刻胶，覆盖半导体分立器件、集成电路、LED、显示面板等多领域。

下游供应能力提升：久日新材产品性能指标可比肩国内市场同类进口产品，部分型号已通过下游客户测试并实现吨级批量供货，订单量持续增长。

厚积薄发，技术研发与产业化协同

久日新材组建了由全球顶尖专家领衔的研发生产团队，配备先进研发测试设备，并与南开大学共建联合研究院，深度融合产学研。依托二十多年光引发剂领域的化学合成、化工生产与工艺优化经验（如独创的酸-酸缩合一步法、氯代物工艺），显著降低光刻胶及原材料生产成本并提升效率。除现有产品外，久日新材正积极开发光致产酸剂（PAG）等更高端的光刻胶关键材料，为未来进军更先进制程蓄力。

国产替代浪潮下的领军者

久日新材已清晰勾勒出其半导体化学材料发展路径：以优势业务支撑研发→突破核心原材料→实现中端光刻胶量产→逐步向高端攀登。随着徐州基地产能释放和产品线不断丰富，久日新材凭借其全产业链掌控力、技术积淀与成本优势，不仅有望在国产光刻胶市场占据有利地位，更将成为国产半导体材料供应链安全与自主进程中一股不可忽视的中坚力量。

在半导体材料国产化替代进程中，久日新材以其在光刻胶这一关键赛道的硬核突破与全链布局证明了，只有真正掌握核心技术并贯通产业链，才能在半导体材料的国产替代浪潮中行稳致远。