EEPW
技术应用
光刻Top 利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术,在工件表面制取精密、微细和复杂薄层图形的化学加工方法。光刻原理虽然在19世纪初就为人们所知,但长期以来由于缺乏优良的光致抗蚀剂而未得到应用。直到20世纪50年代,美国制成高分辨率和优异抗蚀性能的柯达光致抗蚀剂(KPR)之后,光刻技术才迅速发展起来,并开始用在半导体工业方面。光刻是制造高级半导体器件和大规模集成电路的关键工艺之一,并已用于刻划光栅、线纹尺和度盘等的精密线纹。查看更多>>
AI催生“芯片通胀”:2D NAND价格失控,300%涨幅背后的行业博弈
2nm芯片成本暴涨20%:最贵的安卓芯,最难的旗舰年
国产晶圆最大并购案:中芯国际406亿交易的“产线经济学”
中国AI史上最大融资:DeepSeek背后的野心与变局
华为提前布局AI眼镜市场,为何敢对屏幕说“不”
2026-05-19 AI 芯片 2D NAND HBM
2026-05-19 容器技术 嵌入式系统
2026-05-19 CPFC 化合物半导体 光子技术
2026-05-19 ASML 塔塔电子
2026-05-19 爱发科 江丰电子 亦庄国投
2026-05-19 蓝牙 ULL
2026-05-19 英特尔 笔记本
2026-05-19 台积电
2026-05-19 车载芯片 车载SoC
2026-05-19 闪存 高带宽闪存 HBF HBM
光刻 光刻机 光刻设备