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光刻

光刻Top 　　利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术，在工件表面制取精密、微细和复杂薄层图形的化学加工方法。光刻原理虽然在19世纪初就为人们所知，但长期以来由于缺乏优良的光致抗蚀剂而未得到应用。直到20世纪50年代，美国制成高分辨率和优异抗蚀性能的柯达光致抗蚀剂(KPR)之后，光刻技术才迅速发展起来，并开始用在半导体工业方面。光刻是制造高级半导体器件和大规模集成电路的关键工艺之一，并已用于刻划光栅、线纹尺和度盘等的精密线纹。查看更多>>

  • 光刻资讯

ASML报告2025年销售额为327亿欧元

ASML 光刻 2026-02-02

据中国中小企业在国内推动下赢得1.1亿元人民币光刻工具合同

光刻 中国 2025-12-30

日本开发10纳米印记技术，有望解决极紫外（EUV）瓶颈问题

光刻 日本 2025-12-29

美国智库指出DUVi存在漏洞，中国正推动利用多模式技术开发先进芯片

DUVi 光刻 2025-12-23

据报道，中国利用较旧的ASML组件制造EUV原型机，Eyes 2028芯片制造

ASML EUV 2025-12-19

中国陕西8英寸硅光子学平台正式上线

硅 光刻 2025-11-20
  • 光刻专栏

仅次于光刻、我国半导体制造核心技术突破，核力创芯首批氢离子注入性能优化芯片产品交付

光刻 2024-09-11

High NA EUV主要部件已经启动，达成“第一道光”里程碑！

光刻 2024-03-05

鼎龙股份多项光刻胶相关重大项目获立项，将获得1.6亿元资金支持

光刻 2023-11-17

华为公开EUV光刻新专利，解决相干光无法匀光问题

光刻 2022-11-23

EUV光刻，最终胜出！

光刻 2022-08-26

【科普】什么是EUV光刻？

EUV 光刻 2019-06-17
光刻论坛
04-28  集成电路的制造
wayaj|浏览：2907|回复：3| wayaj 2020-05-01 15:35:09
06-22  EUV光刻技术，想了解的可以下载看看
fellow|浏览：2710|回复：1| wys415622 2011-07-29 12:09:37
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