在说EUV之前，让我们先了解一下什么是光刻技术。

光刻技术从基本上来说是一个投影系统，将光线投射并穿透印有电路蓝图的光罩，利用光学原理将图样打在已涂布感光****剂的硅晶片上，进行曝光。当未曝光的部分被蚀刻移除后，图样就会显露出来。

在光刻行业有一个规律，就是芯片厂在芯片上塞进的结构数量越多，芯片就越强大。进而循着这条规律，所有芯片厂的目标就是尽力缩小结构尺寸。

这时候就要说到我们今天的话题——EUV了。

EUV，中文是极紫外光刻。它是光刻技术的一种。

EUV是现在最领先的光刻技术。它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5纳米。这一技术能够让芯片工艺扩展到32nm以下。

这里提到的极紫外光。据悉，荷兰ASML公司需要以每秒5万次的频率，对液态锡的液滴****高能激光束才能得到。

EUV光刻系统有两个特点：

●可精确控制光束，其精度就好比从地球上发出的手电筒光线。可以照到放置在月球上的一枚50分欧元硬币一样。

●使用的镜片需极度平摊。假设你要制作一个像德国般大小的镜片，其最高凸起物必须低于1毫米高。

一套EUV光刻系统包含一个重达7600公斤的大型真空室，而一套EUV光刻系统有18万公斤重。

*本文参考《EUV是什么？》，芯通社综合整理

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