纽大全球450mm联盟相中SOKUDO浸润ArF微影Track技术

　　根据美国商业资讯报导，大日本SCREEN制造株式会社(Dainippon Screen Mfg.)证实，其子公司开发的SOKUDO DUO 450mm涂层/显影系统(coat/develop track system)已被总部位于奥尔巴尼市纽约州立大学(SUNY)奈米科学与工程学院(CNSE)的全球450mm联盟(G450C)相中，用于浸润式ArF微影技术和定向自组装(DSA)应用。

　　SOKUDO DUO将被嵌入位于CNSE的NanoFab Xtension内由大日本SCREEN提供的成套450mm清洗设备中。大日本SCREEN提供的450mm晶圆刷洗机、单晶圆清洗以及毫秒退火系统将部署在G450C计划安装的设备中。G450C是由纽约州州长安德鲁?库默(Andrew M. Cuomo)于2011年9月宣布设立的公私协力(public-private partnership, PPP)联盟，旨在促进该产业向新的标准450mm晶圆尺寸转型。该联盟由CNSE联合英特尔(Intel)、IBM、GLOBALFOUNDRIES、三星(Samsung)和台积电(TSMC)带头创立。

　　SOKUDO DUO拟采用与450mm浸润式ArF微影系统一致的介面，并将于2014年夏季运抵纽约州奥尔巴尼市G450C总部，届时将启动所有安装与参数特征化工作。此举极力回应并支援2013年7月纽约州发布的一份公告，该公告计划将于2015年4月向CNSE提供一套450mm晶圆ArF浸润式微影系统。值得注意的是，作为与G450C达成协议的一部分，SOKUDO也将提供450mm虚拟晶圆厂track制程支援，从而实现450mm DSA图案化测试晶圆制造用于G450C成员的开发设备。DSA图形化功能也将整合到SOKUDO DUO中，用于辅助采用浸润式ArF曝光的微影技术。

　　SOKUDO Co., Ltd.执行长兼大日本SCREEN半导体设备公司总裁须原忠浩(Tadahiro Suhara)表示：「总部位于纽约州的G450C及其成员公司是450mm晶圆转型的先驱，能够与他们并肩合作我们感到十分高兴。大日本SCREEN集团参与G450C专案的深度印证了我们在450mm半导体制造设备开发中的领导地位。尤其值得自豪的是该专案选择了SOKUDO DUO 450mm track系统，此举将巩固我们长期作为尖端track供应商的地位。」

　　CNSE制造创新副总裁兼G450C总经理Paul Farrar, Jr.,表示：「在安德鲁?库默州长的领导与宏伟愿景的指导下，纽约进一步成为产业向450mm晶圆技术实现关键转变的中心。我们非常高兴与大日本SCREEN的半导体设备公司继续合作，并对其子公司 SOKUDO Co., Ltd参与帮助向450mm晶圆技术实现重大转变表示热烈欢迎。」

　　2013年7月，在美西半导体展(SEMICON West)期间举办的SOKUDO微影技术早餐论坛上曾揭露，SOKUDO DUO依比例增大的一种450mm完整晶圆已经在大日本SCREEN制程技术中心(位于日本彦根市)的无尘室内运作一年以上。SOKUDO是首批极力支援该联盟的公司之一，其推出了各种450mm薄膜涂层的测试晶圆，包括用于实现450mm奈米压印微影图案化、DSA功能及参数特征化的黏附性涂层。

　　作为半导体设备的领导企业，大日本SCREEN和SOKUDO将继续推出世界一流的产品，为产业发展做出贡献。