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这些牛逼的台湾半导体企业 中国大陆怎么追

作者: 时间:2015-12-29 来源:IC快讯 收藏
编者按:2015紫光到处买半导体公司,企图通过美元战略买下整条产业链,紫光的做法感觉是想用金钱将台湾发展几十年的半导体产业链收归囊中,我们这里不讨论紫光的收购是否能成功,我们先来看看到底差多少。

  台积电

本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/285027.htm

  (一)公司简介

  沿革与背景

  台积电成立于1987年2月21日,是全球第一家也是全球最大的专业集成电路(IC)制造服务公司,公司经营策略为只提供客户专业集成电路之制造技术服务,而不设计、生产、或销售自有品牌产品,不与客户做商品之竞争。

  公司在北美、欧洲、日本、中国大陆、南韩、印度等地均设有子公司或办事处,产能亦来自海外子公司为WaferTech美国子公司、台积电(上海)有限公司,及新加坡合资SSMC公司之支援。

  公司首创建置资讯平台—虚拟晶圆厂(Virtual Fab),提供整套服务,客户也可从晶圆厂、封装厂、到测试厂整个供应链掌握订单进度。

  2.营业项目与产品结构

  业务范围涵盖IC制造服务及其相关项目,提供包括晶圆制造、光罩制作、晶圆测试与锡铅凸块封装及测试等客户支援服务。

  晶圆代工服务,包括一般逻辑制程技术、非挥发性嵌入式存储(Embedded Non-volatile Memory)制程、嵌入式动态随机存取存储(Embedded DRAM)制程、混合讯号/射频(Mixed Signal/ RF)制程、高压(High Voltage)制程、互补金属氧化物影像感应器(CMOS Image Sensor)、彩色滤光片(Color Filter)、微机电系统(MEMS)、硅锗(Silicon Germanium)制程等。 2015年Q3,16/20纳米占21%、28纳米营收占比27%、40/45纳米14%、65纳米占11%、90纳米占8%、0.11/0.13微米占2%、0.15/0.18微米占12%、0.25/0.35微米占5%。下游应用比重:通讯占59%、消费性电子8%、工业用25%、电脑相关8%。

  (二)产品与竞争条件

  产品与技术简介

  台积电在技术及产能均居产业领导地位,是全球第一家有能力量产40纳米以下技术的晶圆代工厂,其40纳米规模与 良率优于同业,40纳米占全球8~ 9成市占,28/20纳米生产时程至少领先同业三季以上。 先进制程发展上,于2002年,在十二厂完成十二吋支持90纳米(nm)研发试产线;2007年,公司为全球第一家导入45nm量产之晶圆代工厂。至2009年第四季,来自于65nm及其他更先进制程占营收达39%。2011年10月,完成首件采用20纳米制程技术生产的ARM Cortex-A15处理器设计定案(Tape Out)。

  台积电布局3D IC的硅穿孔(TSV)制程,以CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)制程模式生产,即将逻辑和DRAM放在硅中介层(interposer)上面,然后封装在基板上,公司要提供全套服务,包括下游封装测试。整套流程包括,整合晶圆键合(Wafer Bonding)、薄晶圆(Wafer Thinning)、基板键合(Chip on Substrate)及封测等技术,将各种逻辑和存储芯片精准叠合。

  2012年下半年起开始20nm制程技术进行试产工作,以平面制程(planar process)为基础,并采用高介电层/金属闸(High-k Metal Gate)、第五代创新应变硅(strained silicon )以及超低介电值铜导线等技术。跳过22nm制程,直接导入20nm制程技术,主因于20nm制程技术的闸密度、芯片效能与成本比,较22nm更具成本优势,台积电的微影技术也跨入下一世代,与Mapper合作无光罩多重电子束微影技术,以及与ASML合作的极紫外光(EUV)微影技术等。

  2012年10月,CoWoS测试芯片成功地整合Wide I/O介面将逻辑系统单芯片与动态随机存取存储结合于单一模组,在芯片成品制造完成之前,公司的CoWoSTM技术透过将芯片堆叠于晶圆之上(Chip on Wafer)的封装技术,提供客户前端晶圆制造服务,藉由搭配Wide I/O行动动态随机存取存储介面,使这颗整合芯片可提供优化的系统效能,更小的产品外观尺寸,并且明显改善芯片之间的传输频宽。此次合作伙伴结合SK Hynix公司提供Wide I/O动态随机存取存储、Cadence公司支援Wide I/O行动动态随机存取存储硅智财、益华(Cadence)公司与明导国际(MentorGraphics )公司提供电子设计自动化工具。

  因为嵌入式Flash MCU持续成长,且随ARM架构Cortex系列处理器发展、行动终端装置走向轻薄化,公司于2013年量产CoWos模型,以整合TSV与Silicon Interposer,并与晶圆代工业务结合。

  台积电3D IC技术进程表



  2013年4月,ARM与台积电完成首件采用16纳米FinFET制程技术生产的ARM Cortex-A57处理器产品设计定案(tape-out),双方在6个月内完成从暂存器转换阶层到产品设计定案整个流程。Cortex-A57处理器,可支援行动运算、伺服器等高阶产品。16纳米FinFET量产时间提前至2015年。

  台积电的28纳米产品线有低耗电(28LP)、高效能(28HP)、高效能低耗电(28HPL)、高效能行动运算(28HPM)、高效能精简型(HPC)五大制程。

  28纳米HKMG制程采用的是后闸极(gate-last)技术,对手提供的则是前闸极(gate-first)技术,后闸极技术能提供更佳的芯片效能。另外20纳米将于2014年1月试产,产能规划达1万片,2014年底产能预估达6万片。28纳米HKMG制程又可分为HPM、HPC两种。公司的28纳米HPM制程已获得约60个客户的tape-out,相较于同业的LP制程,在耗电相同的情况下,产品速度可提升30%。另外,公司推出28纳米HPC的低价版本,以供应中低阶智慧型手机客户。

  台积电的16/20纳米有90%的机台设备均相容,故16纳米FinFET制程的良率改善速度快,其良率已近20纳米制程。此外,16nm FinFET制程区分为“16nm FinFET(CLN16FF)”及其改良版“16nm FinFET+(CLN16FF+)”两种,已取得20个以上的设计定案(tape-out),产品包括基频、AP应用处理器、网通、绘图芯片、CPU、伺服器等,规划于2015年Q3量产。

  公司先进制程进度



  资料日期:2015年10月

  2015年台积电资本支出预估在105~110亿美元之间,主要用于8/12吋产能布建、先进制程研发,以及先进封装产能;其中,16纳米FinFET+月产能Q4将提升至5万片,2016年Q1将达8.7万片,2016年Q2则可达10万片目标,将成为公司未来营收成长主力,产品比重将逐步超越20纳米比重。公司宣布积极布局10纳米制程,规划2016年底前投产,2017年Q1出货,主要竞争对手英特尔、三星等预计最快在2017年内进入量产,三星则规划于2017下半年量产。 公司另跨足封装领域,InFo封装技术预计2016年开始挹注获利。 2015年12月,台积电向投审会申请赴南京设立16纳米制程的12吋晶圆厂,初步规划月产能为2万片,预计2018年下半年投产。

  2.重要原物料及相关供应商

  IC制造从硅晶圆开始,经过一连串制程步骤,包括光学显影、快速高温制程、化学气相沉积、离子植入、蚀刻、化学机械研磨等制程,需要原物料包括硅芯片、制程用化学原料、光阻、气体,以及研磨液、研磨垫与钻石碟等。



  3.产能状况与生产能力

  公司在台湾设有3座先进的十二吋超大型晶圆厂(fab 12、14 & 15)、4座八吋晶圆厂(fab 3, 5, 6 & 8) 和1座六吋晶圆厂(fab 2),并拥有二家海外子公司:WaferTech 美国子公司、台积电(中国),以及新加坡(与NXP合资)SSMC公司之八吋晶圆厂产能支援。全球总部以及晶圆二厂、三厂、五厂、八厂及十二厂皆位于台湾新竹科学园区;晶圆六厂及十四厂则位于台湾台南科学园区),大陆厂则位于上海松江。

  2013年台积电竹科12吋厂Fab12生产线投片,Q4于南科12吋厂Fab14以20纳米量产苹果A7处理器。台积电规划2014年底之前,20纳米及16纳米月产能达11万片,其中Fab14的P6厂采用16纳米制程FinFET技术,预计在2014年5月投产,Fab14的P7厂预计于2015年4月开始量产。18吋晶圆在新竹12厂第8期研发与试产,预计于2017年在中科15厂第5期正式量产。20纳米已于Fab 12、Fab 14开始量产,出货时间于2014年Q2,2014年Q3放量。

  2014年全年总产能1845万片相当于8吋晶圆。

  2014年Q2,竹科12 吋厂Fab12第6期、南科12吋厂Fab14第5期均进入量产,Fab14第6期将于7月量产,第7期于2014下半年装机,规画2015年开出16nm鳍式场效电晶体(FinFET)制程产能。

  2014年11月,公司扩展后段封测布局,收购Qualcomm龙潭厂,将该厂作为封测生产据点,以InFO技术拓展3D封装市场,以强化一条龙服务,提升接单能力,预计2016年上半年可量产16纳米芯片的整合扇出型(InFO)晶圆级封装。2015年,上海松江厂规划月产能增加至120千片。

  2015年2月,台积电于中科的晶圆厂投资案已通过,公司10纳米级8纳米的投资金额为7,000亿元,其中中科厂占5,500亿元,竹科研发中线与实验性产线占1,500亿元;竹科十二厂规画于2015年6月装机,10纳米制程于2016年Q4投片,2017年量产,期初月产能1万片;竹科十五厂方面,则是规画兴建3座厂房,主要为10纳米制程,至2018年三座厂房产能全部启用时,月产能可达9万片。 2015年政府开放业者赴陆独资设立12吋晶圆厂,公司选定南京浦口经济开发区作为设厂点,预计2016年动工兴建,2017年下半年进行试产。

  台积电晶圆厂产能(千片):



  资本支出

  2014年资本支出为95~100亿元,但折旧金额将年增35%。其中,95%用于提升先进制程,包括28nm扩展及布建16nm、20nm制程。 台积电董事会于2014年11月11日决议投入1,672亿元,用来建置、扩充28纳米以下先进制程及40纳米以上制程产能。 2015年资本支出原订为105~110 亿美元,8成用于提升先进制程。2015年10月,考量公司投片及生产效率提升,加上设备采购时间延至2016年,将资本支出调降至80亿美元。 2015年11月,公司透过董事会核定资本预算为1253.58亿元,将用于扩充先进制程及先进封装产能,以及兴建厂房、安装厂务系统等。

  4.新产品与新技术

  2018年量产18吋晶圆,届时导入的技术将以10纳米鳍式场效电晶体(FinFET)制程为主,希望可以导入新一代的微影技术,除极紫外光(EUV)方案外,多重电子束(Multi E-Beam)也是考虑之一。

  20纳米之产能于2014年6月起量产,公司预期2014Q3、2014Q4及2015年将贡献营收分别为10%、20%与20%以上。

  10纳米制程则预定2015年下半年进行风险试产,10纳米与16纳米相比之下,速度快20%、功耗减少45%,电晶体密度也高出2.2倍,将于2016年量产。

  16纳米制程方面,公司规画FinFET制程于2014年Q3进行试产,量产时间为2014年Q4,首批晶圆已于8月试产成功,产品为海思的64位元手机芯片Kirin 930,FinFET Plus制程则于2014年Q4试产,2015年Q1量产。

  2014年9月,台积电推出全球最低功耗及成本效益最佳的28纳米高效能精简制程(28HPC),该制程已开始量产,主要应用于智慧型手机、平板电脑等地64位元CPU ,且可将芯片尺寸缩小,功耗减少30%,速度在增加近两成。

  台积电于2014年9月25日宣布,公司以16纳米FinFET制程,为海思生产4G基地台及网通设备用的处理器。公司表示16纳米FinFET制程可改善速度与功率、降低漏电流,且解决先进系统单芯片技术微缩时产生的障碍。

  台积电于2014年9月30日与ARM(安谋)共同宣布,完成验证以ARM的big.LITTLE技术及16纳米FinFET制程的Cortex-A57与Cortex-A53处理器。2014年10月2日,携手合作研发10纳米FinFET制程,规划2015年Q4完成首颗10纳米制程64位元的ARM架构处理器设计定案。 2014年11月13日,台积电宣布已完成16纳米FinFET+制程的网通IC及手机AP试产,规划于2015年7月量产。 公司28nm制程及16nm制程皆具备成本优势,2015年推出HPC plus可大幅提升省电效能。此外10nm制程于2015年进入认证阶段,7nm制程于同年开始研发,预计2017年上半年可进入量产。

  台积电之物联网计画

  一、超低功耗平台

  利用开放创新平台的硅智财与设计流程,建置物联网生态系统。台积电于2014年下半年进行研发,其0.18微米极低漏电、90纳米超低漏电制程已进入量产,而50/40/28纳米制程也将于2015年内逐步进入量产,且提供加入RF及eFlash技术。超低功耗制程可降低操作电压近三成,物联网与穿戴式装置电池寿命可延长2倍以上。

  二、MEMS

  公司提供整合型制程,包括以晶圆级封装将CMOS影像感测器与DSP整合,以及开发CMOS MEMS取代传统以封装打线制程生产ASIC MEMS。

  (三)市场需求与销售竞争

  产业结构与供需

  IC产业链由上而下为设计、制造、封装及测试,提供晶圆制造服务包括整合元件厂(IDM)及专业晶圆代工(Foundry),其中IDM业务涵盖IC设计、制造、封装和测试整个流程;Foundry如台积电,仅从事IC制造之专业分工。

  因为先进制程需要不断投入资本并且因成本考量,IDM厂陆续将制造与后段封测等制程委外,大多IDM厂逐渐转型成Fabless(无晶圆厂)经营型态,或Fablite(轻晶圆)趋势。

  受到IDM厂委外代工的趋势,以晶圆代工产值按客户型态之比重,Fables与IDM各占7:3,自2009年起扩大到8:2,2010年IDM长期外包比重超过2成,IDM厂对12吋产能需求持续提升,也是未来主要委外的部分。

  在晶圆代工领域,全球前四大包括台积电、联电、GF(Global Foundries)和中芯国际,即占7成的营收比重,显示产业为寡占市场。

  2013年全球市场约成长4%,2014年成长约5%,Fabless产业方面,2013年成长9%,至于晶圆代工产业,将成长11%,2014年成长约9%。

  台积电预估2014年全球半导体产业将年增7%、Fabless IC设计将年增9%、晶圆代工则年增14%。

  2.销售状况

  2014年Q1台积电客户以Fabless占87%、IDM厂占13%,前5大客户为Qualcomm、NVIDIA、TI、Marvell、ADI等。

  公司28纳米市占率为100%,主要客户有Altera及Xilinx、Nvidia、AMD和Qualcomm。

  2013年上市的iPhone 5s改采A7芯片,逾五成订单由台积电负责。

  2013年客户营收比重为高通为16%、博通9%、NVIDIA 9%、MTK7%、AMD/ATI 7%、其他53%。

  2013年Q4销售区域比重为北美74%、亚洲11%、大陆5%、欧洲7%、日本3%。

  2014年Q2,公司获得Apple A8处理器代工订单。 2015年,公司获苹果扩大释出A9处理器代工订单,自6月起正式量产,并以16纳米鳍式场效电晶体加强版制程(FinFET Plus)量产,月投片量超过2万片。公司所生产的16纳米A9芯片体积为104.5mm,较三星的14纳米芯片体积稍大,但在效能测试软体测试结果显示,台积电的芯片运算功耗较三星的领先近2小时,有助公司取得iPhone A10订单。 公司争取苹果16纳米制程的A10处理器订单,已规划2016年3月开始量产投片。而10纳米制程陆续有客户导入产品设计阶段。

  晶圆代工应用市占率



  2014年Q2,公司20纳米制程用于手机,已于6月出货,而28纳米受惠FPGA、LTE手机IC、GPU、车用IC等客户订单,为营收成长动能。

  截至2014年底,台积电16纳米客户包括Avago、Freescale、LG、MTK、NVIDIA、Renesas、Xilinx等。

  3.竞争厂商

  台积电为全球第一大,就先进制程上,根据研调机构统计,2013年全球晶圆代工市占率:台积电(46%)、联电(9%)、GF(1%)及Samsung(9 %)。

  GlobalFoundries是从AMD分拆出来的,并且合并特许(Chartered)半导体后,成为全球第3大专业晶圆代工厂,GF在先进制程已追上联电。 市调机构Gartner(顾能)公告2014年全球晶圆代工市场统计,台积电因’28纳米领先同业,市占率提升至53.8%,排名市场第一。

  (四)财务相关

  主要转投资事业

  (1)晶圆代工方面,包括持股38%世界先进与SSMC,SSMC是NXP和台积电在新加坡合资的8吋晶圆厂,台积电持股40%,NXP为60%。还有转投资美国子公司-WaferTech。 2014年4月11日,公司以每股42.55元出售世界8200万股,约5%股权,总金额为34.9亿元,持股比例降至33%

  (2)创意:提供IP设计服务,持股35%。

  (3)采钰:提供CMOS影像感测芯片测试业务,并于2007年跨入LED硅基封装。2015年8月董事会通过以不超过39亿元额度,取得CMOS影像感测器厂豪威(OmniVision)在台投资公司、双方合资公司采钰(VisEra)股权,持股比重提升至98.2%。

  (4)精材:提供晶圆级芯片尺寸封装技术(WLCSP)封装。持股比重77%。

  (5)普瑞光电(BridgeLux):为美国LED磊晶大厂,于2008年投资。

  (6)茂迪:2009年12月,台积电与茂迪签署认股结盟合约,正式入股太阳能电池大厂茂迪,以认购茂迪公司私募发行之普通股新股共7,532万股,认购之总金额约62亿元(约美金1.93亿元),掌握茂迪二成持股成为该公司最大股东。

  (7)Stion:2010年6月,宣布旗下VentureTech Alliance公司投资美商Stion公司5000万美元(折合新台币约16亿元),并持有该公司约21%的股份,取得薄膜CIGS制程技术,双方并在技术授权、生产供应以及合作开发方面签订协议。

  (8)太阳能方面:2009年12月,入股结晶硅太阳能电池茂迪,成为最大股东;2010年6月,入股薄膜太阳能电池厂Stion,取得CIGS(铜铟钾硒)制程技术,Stion授权并移转其CIGS薄膜制程给台积电,同时公司提供太阳能电池模组给Stion。在太阳能领域,公司同时发展结晶硅与薄膜太阳能电池。

  (9)2011年4月,将太阳能事业独立分割为新公司-台积太阳能股份有限公司,基准日为8/1。 2015年8月,公司宣布旗下持股100%的台积太阳能,因业务发展已不具长期经济效益,于8月底结束工厂营运。

  (10)2008年投资美国LED磊晶大厂普瑞光电(BridgeLux),BridgeLux开发出氮化镓上硅(GaN-On-Silicon)之LED技术,达每瓦135流明,为硅基板LED业界第一家具商品化等级效能的厂商。

  (11)2011年4月,将LED事业独立分割为新公司-台积固态照明股份有限公司,基准日为8/1。

  2014年台积电决定将台积固态照明的94%持股售予晶电。

  (12)2008年投资设备大厂ASML,预计于2015年Q2~Q3处分ASML持股。

 (13)2015年8月董事会通过收购台湾豪威控股公司100%股权。

  由于篇幅原因,这里只介绍了上游知名的IC设计企业和中游的台积电,另外还有另一个代工厂和封测厂商,在以下的文章会分析,敬请期待。


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关键词: 半导体 芯片

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