英特尔重启Fab 42非为扩产 或锁定导入7纳米制程用EUV设备

　　为响应川普(Donald Trump)新政，英特尔(Intel)宣布将投入70亿美元重启位于亚历桑纳州的Fab 42晶圆厂。分析师认为，英特尔启用Fab 42的主要目的或许不在于扩大产能，而是要引进7纳米制程所需的极紫外光(EUV)设备。

　　根据EE Times报导，Fab 42启用后，会将目标瞄准7纳米制程，并可望在3~4年内创造3,000个高科技、高薪资的工作机会。尽管英特尔尚未透露将于哪个时间点开始采用EUV微影技术，IC Insights分析师认为，EUV微影将是英特尔7纳米成功的关键，因此英特尔很可能趁着重启Fab 42的机会，引进EUV设备。

　　Lineback指出，英特尔需要通过这项消息，让外界知道其先进制程并未落后于台积电或三星电子(Samsung Electronics)。尽管英特尔其他晶圆厂也会在2020年前投入7纳米制程，但Fab 42将是英特尔首个7纳米量产晶圆厂。此外，在收购Altera的业务后，Fab 42也可能被英特尔用来从事FPGA生产。

　　美国前总统欧巴马(Barack Obama)曾称Fab 42象征着美国制造的未来，但Fab 42厂房自2013年底落成后，便一直处于闲置状态，原因就在于市场没有出现足够的需求。

　　Fab 42原本是为了发展14纳米制程所打造，然而英特尔的Tick-Tock机制并未能赶上2年一次的更新周期，且其智能手机处理芯片的发展也不尽理想，再加上PC市场萎缩，以及14纳米制程良率问题，都导致Fab 42迟迟无法启用。尽管英特尔称霸了服务器市场，但服务器对于矽芯片并没有太多的需求。

　　然而有鉴于低功率运算装置的物联网相关需求将在未来3~4年内快速成长，Fab 42也有了上场的机会。不过Insight-64分析师仍强调，在PC市场不断衰退之际，安装EUV设备应才是英特尔重启Fab 42的主要目的。

　　英特尔将于2017年从14纳米步入10纳米制程。到了2020年时，Fab 42所安装的EUV曝光设备产出，就可望追赶上制程发展的脚步。

　　英特尔执行长Brian Krzanich曾在一封给员工的信中表示，Fab 42所采用的7纳米制程将是全世界最先进的半导体制程技术，并代表了摩尔定律(Moore’s Law)的未来。英特尔的7纳米制程芯片将被运用在最复杂的电脑、资料中心、传感器与其他高科技装置上，推动人工智能(AI)、先进车辆、交通服务、医疗研究等领域的发展，而这需要摩尔定律能有所提升。

　　英特尔发言人指出，投资在Fab 42晶圆厂的70亿美元经费中，有很大一部分会运用在工具及设备系统上。除了EUV微影设备外，Fab 42的7纳米制程也将需要光罩生产、检验设备、CMP、蚀刻、晶圆清洗等工具设备。分析师指出，为了掌握7纳米制程IC的优势，后端的封装、组装都需有进一步发展。