- 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
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阿斯麦 极紫外光刻 EUV
- 韩国业界传出消息，指三星电子(Samsung Electronics)获高通(Qualcomm)新一代应用处理器(AP)Snapdragon 865(暂称)晶圆代工订单。2018年台积电(TSMC)抢走高通AP晶圆代工订单，如今再度回到三星手上，可望挹注三星晶圆代工事业部不少业绩。
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高通 三星电子 NVIDIA 台积电 EUV Snapdragon Exynos处理器
- IT之家5月26日消息 据《数字时报》报道，台积电首席执行官表示，该公司7nm+ EUV已开始批量生产。这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术。
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台积电 7nm+ EUV
- 在芯片代工领域，台积电和三星是实力最强劲的两大巨头。不过，最近几年，台积电的实力要更胜一筹，通过7nm工艺，台积电拿到了苹果、高通、AMD、比特大陆等多家的大订单。而三星自家最新的Exynos 9820处理器，采用的则还是8nm工艺。今天，三星在官网上带来了一个新消息，5nm EUV成功开发完成。这对三星而言，算是一个里程碑式的成就。三星表示，与7nm相比，5nm FinFET工艺功耗降低了20％，性能提高了10％。需要说明的是，三星的7nm工艺去年10月开始宣布并初步生产，今年年初实现量产。最近三星曝光
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- 在经历了二十多年的研发之后，芯片制造商在一项能够大幅度提升硅片上晶体管密度的技术上压下了重注，那就是EUV光刻。他们能够取得成功，日本东京郊区的一家名为Lasertec小公司功不可没。
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- 随着晶片功能愈趋强大，在半导体制程愈趋复杂的情况下，摩尔定律的推进已经放缓，以台积电、三星、英特尔等三大半导体厂目前采用的浸润式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技术来说，若要维持摩尔定律的制程推进速度，晶片成本会呈现等比级数般飙升。也因此，能够明显减少晶片光罩层数的极紫外光(EUV)微影技术，将可为摩尔定律延命。
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- 来自产业链的最新消息称，台积电将包揽ASML今年的30台EUV光刻机中的18台，加上之前采购的几台，台积电有望在今年3月份启动7nm EUV的量产，推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比从去年的9%提升到25%。
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- 如何向芯片设计企业推荐最合适的工艺，芯片设计企业应该怎么权衡?不久前，在珠海举行的“2018中国集成电路设计业年会(ICCAD)”期间，芯原微电子、Cadence南京子公司南京凯鼎电子科技有限公司、UMC(和舰)公司分别介绍了他们的看法。
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芯片 EUV
- 荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年业绩报告，而在当天的声明中，公司CEO彼得·维尼克(Peter Wennink)特别指出，中国对其产品的需求强劲，继续看好对中国的出口。
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- 12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产能。英特尔这次的产能扩张计划有对应14nm的，但是并不是应急用的，也有面向未来工艺的，其中俄勒冈州的D1X晶圆厂第三期工程就是其中之一，未来英特尔的7nm
EUV处理器会在这里生产。 2018年下半年英特尔忽然出现了14nm产能不足的危机，这件事已经影响了CPU、主板甚至整个PC行业的增长，官方也承认了14nm产能供应短缺，并表示已经增加了额外的15亿美元支出扩建产能。12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产
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英特尔 晶圆 EUV
- 荷兰当地时间1月23日，ASML发布了去(2018)年第四季度及全年的业绩报告。 报告指出，去年第四季度净销售额为31亿欧元，净收入为7.88亿欧元，毛利率为44.3%。 具体来看，ASML指出，DUV光刻业务中，存储客户的需求使得TWINSCAN
NXT:2000i保持着持续增长。同时ASML也提高了该产品的可靠性，据了解，上一代产品需要六个月才能达到高可靠性，而该产品仅用了两个月。 去年全年，ASML净销售额为109亿欧元，净收入为26亿欧元。 值得注意的是，ASML已与尼康签署了谅解
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EUV ASML
- 用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme
Ultra-Violet，极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野，从7nm阶段的技术节点到今年(2019年，也是从今年开始)，每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展。 高端逻辑半导体的技术节点和对应的EUV曝光技术的蓝图。 也就是说，在EUV曝光技术的开发比较顺利的情况下，5nm的量产日程时间会大约在2021年，3nm的量产时间大约在2023年。关于更先进的2nm的技术节点，还处于模糊阶段，据预测，其量产时间最快也是在2026
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- 日前，有消息称，比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室，共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份，分为两个阶段： 首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产，包括最新的EUV设备准备就绪。 其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力，以便能够制造出更小型的奈米级元件，从而推动3nm以后的半导体微缩。 极紫外光(EUV)微影技术 EUV光刻也叫极紫外光刻，它以波长为10-14 nm的极紫外
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- 继联电在2017年进行高阶主管大改组，并宣布未来经营策略将着重在成熟制程之后，格芯也在新执行长Tom Caulfield就任半年多后，于日前宣布无限期暂缓7nm制程研发，并将资源转而投入在相对成熟的制程服务上。 引入EUV工艺是半导体7nm工艺的关键转折点 众所周知，目前半导体领域，7nm工艺是一个重要节点。而7nm工艺是半导体制造工艺引入EUV技术的关键转折，这是摩尔定律可以延续到5nm以下的关键，引入EUV工艺可以大幅提升性能，缩减曝光步骤、光罩数量等制造过程，节省时间和成本。 不过引入EU
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