Infineon Technologies 开发了用于固态保护和配电设计的新型碳化硅 JFET 系列。这是继 2012 年推出的 1200V 4mΩ SiC JFET 系列之后的又一产品。JFET 通过反向偏置 PN 结上的电场来控制电导率,而不是 MOSFET 中使用的绝缘层上的横向电场。G1“第一代”CoolSiC JFET 具有 1.5 mΩ (750 V BDss) 和 2.3 mΩ (1200 V BDss) 的超低 R DS(ON),可显著降低导通损耗。大体通道优化的 SiC JFET 在短路
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英飞凌 SiC JFET 固态配电
半导体行业正处于性能、效率和可靠性必须同步发展的阶段。AI 基础设施、电动汽车、电源转换和通信系统的需求正在将材料推向极限。氮化镓 (GaN) 越来越受到关注,因为它可以满足这些需求。该行业已经到了这样一个地步,人们的话题不再是 GaN 是否可行,而是如何可靠、大规模地部署它。二十多年来,我专注于外延生长,见证了 GaN 从一种利基研究驱动型材料转变为电力电子领域的领先竞争者。进展是稳定的,不是一蹴而就的。现在倾向于 GaN 的公司和工程师是为下一代系统定位自己的公司。设备性能从外延开始对于 G
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GaN 可靠性 硅
高效率和高功率密度是为当今产品设计电源时的关键特性。为了实现这些目标,开发人员正在转向氮化镓 (GaN),这是一种可实现高开关频率的宽带隙半导体技术。与竞争对手的功率半导体技术相比,GaN 最大限度地减少了所需无源元件的尺寸,同时降低了栅极驱动和反向恢复损耗。此外,半导体制造商正在将其 GaN 器件封装在高度集成的行业标准封装中,从而缩小印刷电路板 (PCB) 的占地面积要求,同时简化供应链。GaN 应用在 650 V AC-DC 转换领域,变压器外形无铅 (TOLL) 封装是电源设计的有效选择。采用此封
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集成驱动器 高级保护 GaN 电源设计
引言人形机器人集成了许多子系统,包括伺服控制系统、电池管理系统 (BMS)、传感器系统、AI 系统控制等。如果要将这些系统集成到等同人类的体积内,同时保持此复杂系统平稳运行,会很难满足尺寸和散热要求。人形机器人内空间受限最大的子系统是伺服控制系统。为了实现与人类相似的运动范围,通常在整个机器人中部署大约 40 个伺服电机 (PMSM) 和控制系统。电机分布在机器人身体的不同部位,例如颈部、躯干、手臂、腿、脚趾等。该数字不包括手部的电机。为了模拟人手的自由操作,单只手即可能集成十多个微型电机。这些电机的电源
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GaN FET 人形机器人
ROHM宣称其新型SiC模块已「达到业界顶级水平」,这使得安装面积显著减少。
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SiC 功率器件 ROHM
4月22日下午,格力电器召开2025年第一次临时股东大会,相比过往历次股东大会都被安排在格力地产总部办公楼,本次股东大会首次被安排在格力电器珠海碳化硅芯片工厂举行。据悉,该工厂自2024年投产以来,其碳化硅功率芯片在家用空调中的装机量已经突破100万台。SiC材料具有高耐压、高频率、高效率等优势,能够显著提升空调的能效。搭载SiC芯片后,空调的电能转换效率得到优化,制冷制热效果增强,实现能耗降低,同时可以提升产品性能、降低能耗,增强格力空调的市场竞争力。格力该工厂是全球第二座、亚洲首座全自动化6英寸碳化硅
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格力 家用空调 SiC
_____在超宽禁带半导体领域,氧化镓器件凭借其独特性能成为研究热点。我们有幸与香港科技大学电子及计算机工程教授黄文海教授,围绕氧化镓器件的研究现状、应用前景及测试测量挑战展开深入交流。香港科技大学在氧化镓研究领域取得了显著的成果,涵盖了材料生长、器件设计、性能优化和应用开发等多个方面。通过与国际科研机构和企业的合作,港科大团队不仅推动了氧化镓技术的发展,也为相关领域的应用提供了重要的技术支持。黄文海教授的团队主要致力于氧化镓器件全链条的研究。在材料生长方面,聚焦优化晶体生长工艺,通过改进熔体生长技术,成
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香港科技大学 氧化镓器件 GaN
近日,清纯半导体和VBsemi(微碧半导体)分别推出了其第三代碳化硅(SiC)MOSFET产品平台,标志着功率半导体技术在快充效率、高功率密度应用等领域取得了重大突破。01清纯半导体推出第3代SiC MOSFET产品平台4月21日,清纯半导体官微宣布,推出第3代碳化硅(SiC)MOSFET技术平台,该平台首款主驱芯片(型号:S3M008120BK)的常温导通电阻低至8mΩ,比导通电阻系数Rsp达到2.1
mΩ·cm²,处于国际领先水平。source:清纯半导体(图为清纯半导体1、2、3代产品比电阻Rs
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清纯半导体 微碧半导体 第3代 SiC MOSFET
英飞凌科技股份公司近日推出CoolGaN™ G5中压晶体管,它是全球首款集成肖特基二极管的工业用氮化镓(GaN)功率晶体管。该产品系列通过减少不必要的死区损耗提高功率系统的性能,进一步提升整体系统效率。此外,该集成解决方案还简化了功率级设计,降低了用料成本。集成肖特基二极管的CoolGaN™ G5晶体管在硬开关应用中,由于GaN器件的有效体二极管电压(VSD )较大,基于GaN的拓扑结构可能产生较高的功率损耗。如果控制器的死区时间较长,那么这种情况就会更加严重,导致效率低于目标值。目前功率器件设
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英飞凌 肖特基二极管 工业用 GaN 晶体管
碳化硅 (SiC) 正在接管电动汽车中的三相牵引逆变器,将电池中的直流电转换为用于控制电机的交流电。但是,由于 SiC 能够处理更高的电压、更好的散热和更快的开关频率,因此也适用于更紧凑的电动机中的三相逆变器。其中包括数据中心的电子换向 (EC) 冷却风扇,这些风扇消耗了更多的电力来运行 AI 训练和推理,并在此过程中产生了更多的热量。onsemi 推出了第一代基于 SiC 的智能功率模块 (IPM),与 IGBT 相比,为这些冷却风扇带来了更高的功率密度和效率。1,200 V 模块基
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SiC 数据中心 冷却风扇 高密度电源 安森美
如今所有东西都存储在云端,但云究竟在哪里?答案是数据中心。我们对图片、视频和其他内容的无尽需求,正推动着数据中心行业蓬勃发展。国际能源署 (IEA) 指出,[1]人工智能 (AI) 行业的迅猛发展正导致数据中心电力需求激增。预计在 2022 年到 2025 年的三年间,数据中心的耗电量将翻一番以上。 这不仅增加了运营成本,还给早已不堪重负的老旧电力基础设施带来了巨大的压力,亟需大规模的投资升级。随着数据中心耗电量急剧增加,行业更迫切地需要能够高效转换电力的功率半导体。这种需求的增长一方面是为了降低运营成本
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SiC MOSFET AI数据中心 电源转换能效
碳化硅是一种众所周知的坚硬和复杂的材料。用于制造 SiC 功率半导体的晶圆生产利用制造工艺、规格和设备的密集工程来实现商业质量和成本效益。必要性与发明宽禁带半导体正在改变电力电子领域的游戏规则,使系统级效率超越硅器件的实际限制,并带来额外的技术特定优势。在碳化硅 (SiC) 的情况下,导热性、耐温能力和击穿电压与通道厚度的关系优于硅,从而简化了系统设计并确保了更高的可靠性。由于它们的简单性,SiC 的孕育使二极管领先于 MOSFET 进入市场。现在,随着技术进步收紧工艺控制、提高良率并
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SiC
新闻亮点:新款发布的具有电源路径保护功能的 48V 集成式热插拔电子保险丝简化了数据中心设计,助力设计人员达到 6kW 以上的功率水平。新型集成式氮化镓 (GaN) 功率级采用行业标准的晶体管外形无引线 (TOLL) 封装,将德州仪器的 GaN 和高性能栅极驱动器与先进的保护功能相结合。中国上海(2025 年4 月 9 日)— 德州仪器 (TI)(纳斯达克股票代码:TXN)于今日推出新款电源管理芯片,以满足现代数据中心快速增长的电源需求。随着高性能计算和人工智能 (AI) 的采用率越来越高,数据中心需要更
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安森美 (onsemi)cascode FET (碳化硅共源共栅场效应晶体管)在硬开关和软开关应用中有诸多优势,SiC JFET cascode应用指南讲解了共源共栅(cascode)结构、关键参数、独特功能和设计支持。本文为第一篇,将重点介绍Cascode结构。Cascode简介碳化硅结型场效应晶体管(SiC JFET)相比其他竞争技术具有一些显著的优势,特别是在给定芯片面积下的低导通电阻(称为RDS.A)。为了实现最低的RDS.A,需要权衡的一点是其常开特性,这意味着如果没有栅源电压,或者JFET的栅
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cascode FET SiC
Nexperia正式推出一系列性能高效、稳定可靠的工业级1200 V碳化硅(SiC) MOSFET。该系列器件在温度稳定性方面表现出色,采用创新的表面贴装 (SMD) 顶部散热封装技术X.PAK。X.PAK封装外形紧凑,尺寸仅为14 mm ×18.5 mm,巧妙融合了SMD技术在封装环节的便捷优势以及通孔技术的高效散热能力,确保优异的散热效果。此次新品发布精准满足了众多高功率(工业)应用领域对分立式SiC MOSFET不断增长的需求,该系列器件借助顶部散热技术的优势,得以实现卓越的热性
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Nexperia SiC MOSFET
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