- 11 月 12 日消息,消息源 Jukanlosreve 昨日(11 月 11 日)在 X 平台发布推文,曝料称高通第二代骁龙 8 至尊版芯片在 GeekBench 6 单核成绩突破 4000 分,多核性能比初代骁龙 8 至尊版提升 20%。援引消息源信息,高通第二代骁龙 8 至尊版芯片(高通骁龙 8Gen 5)将混合使用三星的 SF2 代工和台积电的 N3P 工艺。消息源还透露高通第二代骁龙 8 至尊版芯片和联发科天玑 9500 芯片均支持可扩展矩阵扩展(Scalable Matrix Extensio
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高通 骁龙 单核 多核 三星 SF2 代工 台积电的 N3P 工艺
- IT之家 10 月 12 日消息,Eliyan 公司于 10 月 9 日发布博文,宣布在美国加州成功交付首批 NuLink™-2.0 芯粒互连 PHY,该芯片采用 3nm 工艺制造。这项技术不仅实现了 64Gbps / bump 的行业最高性能,还在多芯粒架构中提供了卓越的带宽和低功耗解决方案,标志着半导体互连领域的一次重大突破。IT之家注:芯粒互连 PHY 是一种用于连接多个芯片小块(chiplet)的物理层接口,旨在实现高带宽、低延迟和低功耗的数据传输。Eliyan 的芯片互连 P
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芯片 芯片设计 工艺
- 多年来持续试跨越芯片制造工艺代差的华为公司29日表示,通过系统的设计和工程建设能解决算力与分析能力的问题,从而消除在芯片上的代差。未来芯片创新不应只在单点的芯片工艺上,而是应该在系统架构上,要用空间、带宽、能源来换取芯片工艺上的缺陷。据《快科技》报导,在今天的数据大会上,华为常务董事张平安就芯片技术发展发言指出,「通过系统的设计和工程建设可以解决我们整体数字中心的能力、算力和分析能力问题,可以消除我们在芯片上的代差。」张平安说,「在华为看来,AI数据中心耗能非常大,人工智能耗能更多,需要数能结合。」在这之
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工艺 华为 系统设计 芯片代差
- 近日,台积电业务发展高级副总裁张晓强博士在接受采访时被问到,如何看待“摩尔定律已死”的说法,而他的回答非常直接:“很简单,不在乎。只要我们能继续推动工艺进步,我就不在乎摩尔定律是活着,还是死了。”在张晓强看来,台积电的优势在于,每年都能投产一种新的制程工艺,为客户改进性能、功耗和面积 (PPA)指标进。比如说最近十年来,苹果一直是台积电的头号客户,而苹果A/M系列处理器的演进,正好反映了台积电工艺的变化。此外,AMD Instinct MI300X / MI300A、NVIDIA H100/B200/GB
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台积电 摩尔定律 工艺
- 英特尔周三表示,其名为Intel 3的3nm级工艺技术已在两个工厂进入大批量生产,并提供了有关新生产节点的一些额外细节。新工艺带来了更高的性能和更高的晶体管密度,并支持1.2V的电压,适用于超高性能应用。该节点针对的是英特尔自己的产品以及代工客户。它还将在未来几年内发展。英特尔代工技术开发副总裁Walid Hafez表示:“我们的英特尔3正在俄勒冈州和爱尔兰的工厂进行大批量生产,包括最近推出的Xeon 6'Sierra Forest'和'Granite Rapids'处理器
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Intel 3 3nm 工艺
- 此前有报道称,明年谷歌可能会改变策略,在用于Pixel
10系列的Tensor
G5上更换代工厂,改用台积电代工,至少在制造工艺上能与高通和联发科的SoC处于同一水平线。为了更好地进行过渡,谷歌将扩大在中国台湾地区的研发中心。随后泄露的数据库信息表明,谷歌已经开始与台积电展开合作,将Tensor
G5的样品发送出去做验证。据Wccftech报道,谷歌与台积电已达成了一项协议,后者将为Pixel系列产品线生产完全定制的Tensor G系列芯片。谷歌希望新款SoC不再受到良品率的困扰,而Tenso
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谷歌 台积电 Tensor G5 3nm 工艺
- IT之家 6 月 19 日消息,名为 Flow Computing 的芬兰公司宣布新的研究成果,成功研发出全新的芯片,可以让 CPU 性能翻倍,而且可以通过软件优化性能提高最多 100 倍。Flow Computing 演示了全新的并行处理单元(PPU),该公司联合创始人兼首席执行官 Timo Valtonen 认为这项技术有着广泛的应用前景:“CPU 是计算中最薄弱的环节。它无法胜任自己的任务,这一点需要改变。”该芯片技术涉及一个配套芯片,不产生额外功耗或者更多热量的情况下,能实时优化处理任务
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CPU 工艺 荷兰
- 6月17日,据台媒《工商时报》报道,在产能供不应求的情况下,台积电将针对3nm/5nm先进制程和先进封装执行价格调涨。其中,3nm代工报价涨幅或在5%以上,而2025年度先进封装报价也将上涨10~20%。
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台积电 制程 封装 3nm 5nm 英伟达 CoWoS
- 近日,三星电子对外表示,8nm版本的eMRAM开发已基本完成,正按计划逐步推进制程升级。资料显示,eMRAM是一种基于磁性原理的、非易失性的新型存储技术,属于面向嵌入式领域的MRAM(磁阻存储器)。与传统DRAM相比,eMRAM具备更快存取速度与更高耐用性,不需要像DRAM一样刷新数据,同时写入速度是NAND的1000倍数。基于上述特性,业界看好eMRAM未来前景,尤其是在对性能、能效以及耐用性较高的场景中,eMRAM被寄予厚望。三星电子是eMRAM主要生产商之一,致力于推动eMRAM在汽车领域的应用。三
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- 在 HBM4 内存带来的几大变化中,最直接的变化之一就是内存接口的宽度。随着第四代内存标准从已经很宽的 1024 位接口升级到超宽的 2048 位接口,HBM4 内存堆栈将不会像以前一样正常工作;芯片制造商需要采用比现在更先进的封装方法,以适应更宽的内存。作为
2024 年欧洲技术研讨会演讲的一部分,台积电提供了一些有关其将为 HBM4
制造的基础模具的新细节,这些模具将使用逻辑工艺制造。由于台积电计划采用其 N12 和 N5 工艺的变体来完成这项任务,该公司有望在 HBM4
制造工艺中占据有
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台积电 12nm 5nm 工艺 HBM4 基础芯片
- 5 月 10 日消息,韩媒 ZDNet Korea 援引业内人士的话称,三星电子的 AI 推理芯片 Mach-1 即将以 MPW(多项目晶圆)的方式进行原型试产,有望基于三星自家的 4nm 工艺。这位业内人士还表示,不排除 Mach-1 采用 5nm 工艺的可能。三星已为 Mach-1 定下了时间表:今年下半年量产、今年底交付芯片、明年一季度交付基于该芯片的推理服务器。同时三星也已获得了 Naver 至高 1 万亿韩元(当前约 52.8 亿元人民币)的预订单。虽然三星电子目前能提供 3nm 代工,但在 M
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三星 AI Mach-1 原型试产 4nm 工艺
- 几个月前,台积电发布了 2023
年年报,但显然,文件中包含的关键信息被遗漏了。在深入探讨之前,我们先来谈谈台积电的 A14,或者说被许多分析师称为技术革命的
A14。台积电宣布,该公司终于进入了"Angstrom 14 时代",开始开发其最先进的 A14 工艺。目前,台积电的 3 纳米工艺正处于开始广泛采用的阶段。因此,1.4 纳米工艺在进入市场之前还有很长的路要走,很可能会在 2 纳米和 1.8 纳米节点之后出现,这意味着你可以预期它至少会在未来五年甚至更长的时间内出现。著
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台积电 Angstrom 14 1.4纳米 工艺
- 4 月 11 日消息,Meta 公司于 2023 年 5 月推出定制芯片 MTIA v1 芯片之后,近日发布新闻稿,介绍了新款 MTIA 芯片的细节。MTIA v1 芯片采用 7nm 工艺,而新款 MTIA 芯片采用 5nm 工艺,采用更大的物理设计(拥有更多的处理核心),功耗也从 25W 提升到了 90W,时钟频率也从 800MHz 提高到了 1.35GHz。Meta 公司表示目前已经在 16 个数据中心使用新款 MTIA 芯片,与 MTIA v1 相比,整体性能提高了 3 倍。但 Meta 只主动表示
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- 关于英特尔Gaudi 3的“中国特供版” AI 芯片有了新进展。4月15日消息,芯片巨头英特尔(Intel)日前在官网发布一份24页的“Gaudi 3 AI加速器白皮书”中披露,英特尔将推出Gaudi 3在中国发售的两款“特供版”AI 芯片产品。英特尔Gaudi 3 AI芯片(图片来源:Intel官网)具体包括两种硬件形态加速卡:一款型号为HL-328的OAM兼容夹层卡(Mezzanine Card),预计将于今年6月24日推出;另一款是型号为HL-388的PCle加速卡,预计将于今年9月24日推出。而基
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英特尔 5nm AI
- 4月11日消息,根据产业链消息,台积电的2纳米和1.4纳米工艺已经取得了新的进展。据了解,台积电的2纳米和1.4纳米芯片的量产时间已经确定。2纳米工艺的试产将于2024年下半年开始,而小规模量产将在2025年第二季度进行。值得一提的是,台积电在亚利桑那州的工厂也将参与2纳米工艺的生产。到了2027年,台积电将开始推进1.4纳米工艺节点,这一工艺被正式命名为"A14"。按照目前的情况,台积电最新的工艺制程很可能会由苹果率先采用。按照台积电的量产时间表,iPhone 17 Pro将成为首批
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