首页 > 新闻中心 > EDA/PCB > 制程/工艺
据韩媒报道，韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，对其中国半导体工厂进行技术提升改造。这被外界解读为，随着半导体市场的复苏以及中国高性能半导体制造能力提升，一些韩国芯片企业准备采取一切......
HIGH NA 无疑是打赢下一场比赛的重要筹码。......
生产 2nm 芯片的成本比 3nm 高出 50%。......
12 月中旬，韩国总统尹锡悦与荷兰首相马克·吕特发表联合声明，双方构建「半导体同盟」。双方一致认为，两国在全球半导体供应链中有着特殊的互补关系，并重申构建覆盖政府、企业、高校的半导体同盟的决心。为此，双方商定新设经贸部门......
随着代工厂开发越来越先进的工艺节点以满足消费者的需求，当今先进处理器上的晶体管数量达到数百亿，这与 1970 年代中期只有几千个晶体管的处理器相去甚远。过去几十年中，影响半导体行业最深远的技术就是晶体管的稳步发展。在半导......
美国开启了新一轮芯片调查。......
1月8日消息，据报道，日本熊本放送消息，台积电日本熊本新厂建筑工程在上个月末已完成，预定年内投产，目前处于设备移入进机阶段。另外，该厂开幕式预计在2月24日举行。公开资料显示，台积电日本子公司主要股东包括持股71%的台积......
英特尔（intel）近日宣布，已经接收市场首套具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，预计在未来两到三年内用于 intel 18A 工艺技术之后的制程节点。 相较之下，台积电则采......
TSMC 不急于采用ASML的High-NA EUV进行大规模生产。本周，英特尔开始收到其第一台ASML的0.55数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻工具，它将用于学习如何使用这项技术，然后在未来几年内将这些机......
第一块石墨烯半导体，向超高速计算机迈进了一步。2013年12月20日，沃兹米兹·斯特鲁宾斯基博士在位于波兰华沙的电子材料技术研究所（ITME）的实验室展示了石墨烯样品。沃兹米兹·斯特鲁宾斯基博士发明了一种基于外延生长的新......
43.2%在阅读
23.2%在互动
