据路透社2月24日报道,英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示,英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产,早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的两倍。Steve
Carson指出,新的High NA
EUV光刻机能以更少曝光次数完成与早期设备相同的工作,从而节省时间和成本。英特尔工厂的早期结果显示,High NA EUV
机器只需要一次曝光和“个位数”的处理步骤,即可完成早期机器需要三次曝光和约40个处
8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。帕特·基辛格表示,第二台High NA设备即将进入Intel位于美国俄勒冈州的晶圆厂,预计将支持公司新一代更强大的计算机芯片的生产。此前,Intel已于去年12月接收了全球首台High NA EUV光刻
英特尔正接收ASML第二台耗资3.5亿欧元(约3.83亿美元)的新High NA EUV设备。根据英特尔8/1财报电话会议纪录,CEO Pat Gelsinger表示,英特尔12月开始接收第一台大型设备,安装时间需要数月,预计可带来新一代更强大的电脑英文。Gelsinger在电话中指出,第二台High NA设备即将进入在奥勒冈州的厂房。由于英特尔财报会议后股价表现不佳,因此这番话并未引起注意。ASML高阶主管7月曾表示,该公司已开始出货第二台High NA设备给一位未具名客户,今年只记录第一台的收入。不过
5月26日,台积电举办“2024年技术论坛台北站”的活动,台积电CEO魏哲家罕见的没有出席,原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的ASML总部,以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源设备供应商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通过社交媒体透露了魏哲家秘密出访的行踪。Christophe Fouquet表示他们向魏哲家介绍了最新的技术和新产品,包括High-NA EUV设备将如何实现未来