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euv设备 文章 最新资讯

SK海力士引入全球首台High-NA EUV设备

  • 据SK海力士官方消息，2025年9月3日，该公司在韩国利川M16工厂成功引进了业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High-NA EUV），并举行了设备入厂庆祝仪式。此次引进的设备为荷兰ASML公司开发的TWINSCAN EXE:5200B，是全球首款量产型High-NA EUV设备。相比现有EUV设备（NA 0.33），其光学性能（NA 0.55）提升了40%，能够绘制精密度高达1.7倍的电路图案，同时将芯片集成度提升2.9倍。这一技术突破将显著推动半导体制造向更微细化和高集成度方向发展。SK海力士自
  • 关键字： SK海力士   High-NA   EUV设备  

2010决胜年　ASML 主攻38纳米、EUV设备

  • 　　全球最大半导体微显影设备业者ASML表示，目前客户订单增加相当多，但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求，半导体业者仍持续微缩半导体制程，摩尔定律预料将持续延续。以目前ASML最先进的浸润式微显影机种来看，新一代的机种NXT 1950i 也已于2009年下半出货，未来将快速增加出货，同时深紫外光(EUV)也至少囊括5套客户订单，对ASML来说2010年将是极重要的一年。 　　ASML NXT技术平台资深经理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代机种NXT 1950i
  • 关键字： ASML   38纳米   EUV设备  

euv设备介绍

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