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高通骁龙6系芯片:下半年升级为10nm工艺

作者:时间:2018-02-28来源:快科技收藏

  2月26日,联发科在MWC2018上发布了Helio P60,它基于台积电12nmFinFET工艺打造,采用4颗Cortex A73大核+4颗Cortex A53小核组成,CPU最高频率为2.0GHz,GPU为Mali-G72 MP3,频率为800MHz。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201802/376198.htm

  它最高支持8GB LPDDR4X内存,闪存最高支持UFS 2.1。

  从规格不难看出,联发科Helio P60定位中端,其对标的是骁龙6系芯片。不过对于来说,联发科似乎并没有对其构成威胁。

  据业内人士@草Grass草透露,2018年下半年骁龙6系以上芯片全线升级为工艺制程,并开始向4系渗透,对联发科形成全面包围之势。

  这次升级,不仅使高通骁龙6系芯片性能有所提升,功耗、发热控制也会更加优秀,届时对联发科Helio P60带来不小的压力。

  根据此前曝光的消息,高通下一代中端芯片骁龙670将采用工艺制程,其CPU内核将会以big.LITTLE架构的形式呈现。

  它有2颗高端定制Cortes A-75内核,用Kryo 300 Gol架构搭建;还有6颗低端定制Cortex A-55内核,用Kryo 300 Silver架构搭建。低端内核最高时钟速度约为1.7GHz,高端内核可达2.6GHz。

高通骁龙6系芯片下半年升级为10nm工艺


关键词: 高通 10nm

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