新闻中心

EEPW首页 > 嵌入式系统 > 业界动态 > Cannon Lake仍未正式面市 英特尔再推10nm Ice Lake所为何来

Cannon Lake仍未正式面市 英特尔再推10nm Ice Lake所为何来

作者:时间:2017-08-17来源:DIGITIMES收藏

  (Intel)计划于8月21日推出其第8代Core处理器,并在其官网上宣布,正在开发下一代处理器平台“Ice ”,并称采用领导级10纳米+制程技术,这将成为第2款10纳米制程处理器家族,但由于英特尔首款10纳米Core架构“Cannon ”都还没正式详细介绍,英特尔就在官网再透露第2款10纳米芯片平台,也让外界感到意外。另外,由此观察,为何英特尔在桌上型电脑(DT)及NB处理器平台发展上制程采用将分道扬镳,也令外界感到疑惑。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201708/363168.htm

  根据科技网站AnandTech及PC World报导,对英特尔来说,在中央处理器(CPU)架构上先对外说明超过一代以上的平台产品线的举动有些罕见,且英特尔还称Ice 为即将发表的第8代Coffee Lake处理器的继任产品线,这对于采14纳米制程的Coffee Lake及10纳米制程的Cannon Lake最终的产品定位,似乎形成了一些混淆性,是否Ice Lake会成为英特尔第9代Core家族首个成员,外界分析认为可能会、也可能不会。

  因如今英特尔已放弃过往的“tick-tock”模式,且开始将处理器进行小部分微调的重新设计结合至制程本身,因此如今英特尔下一代芯片的命名已变得无关紧要。

  有鉴于英特尔在2017年美国消费性电子大展(CES 2017)上,已展示其基于后Kaby Lake设计、采10纳米制程的Cannon Lake,之后英特尔也证实其第8代DT处理器Coffee Lake将于21日发布,因此Ice Lake似乎准备跟随Coffee Lake及Cannon Lake脚步,以基于10纳米+的单一架构接替这两个架构。

  英特尔在14纳米上共有3个制程,分别是14纳米、14纳米+及14纳米++,另也将有3个10纳米制程,分别是10纳米、10纳米+及10纳米++。其中在DT领域,Core处理器将遵循14纳米、14纳米+及14纳米++路径发展,因而可见Skylake到Kaby Lake到Coffee Lake的发展。

  在NB领域,则从14纳米到14纳米+再到14纳米++与10纳米,在此情况下,除了上述Skylake到Kaby Lake到Coffee Lake的发展外,在Coffee Lake世代推出期间英特尔也将面向NB市场推出Cannon Lake,在此之后的下一个制程节点势必为10纳米+,此即最新宣布的Ice Lake。

  在此不免感到困惑的是,为何英特尔在DT及NB芯片平台制程技术发展上会分道扬镳,NB领域会分出14纳米++及10纳米,DT领域就不发展10纳米而选择直攻10纳米+,报导分析认为,这与英特尔制程技术及朝更新微影节点迈进的能力有关。

  英特尔原先预测在2016年底可进入10纳米制程,时间点为其推出14纳米制程后2年,不过在管理步入其10纳米版本所需技术上却面临困境。简单来说,英特尔首代10纳米需要小型处理器以确保高良率,英特尔似乎是将较小尺寸的晶粒大小植入10纳米Cannon Lake中,而将较大的35W+芯片植入14纳米++的Coffee Lake中。

  因此,如果英特尔在DT处理器发展上,停留在14纳米++制程技术稍微久一点,将有助英特尔有更多时间进一步开发其10纳米制程技术,借由先从事其他大型芯片技术的制造,如现场可程式逻辑闸阵列(FPGA)或MIC架构,引导英特尔为其更大型芯片制造迈向10纳米+制程节点。

  从制造的角度看,英特尔在其14纳米制程上一直采用多重显影技术,业界也正在关注何时将会步入采用极紫外光(EUV)微影技术的阶段,关键在于EUV技术将有助缩短面市时间,以及可让制程变得更为容易,而目前也有几家晶圆制造业者正在等待英特尔先投入采用EUV技术。若EUV技术尚未准备就绪,英特尔将不得不更深入投资于多重显影技术,但这不仅会提高成本、也会降低良率,以及大幅增加晶圆制造所需时间。

  有鉴于英特尔将Ice Lake定位为后第8代Core架构,Ice Lake可能会在2018年或是2019年问世,但确切时间点将取决于英特尔10+纳米制程技术进展以及更大芯片的进展率,至于FPGA、MIC及客制化晶圆合作伙伴等其他市场部门,也都有投入部分10纳米的动作。



关键词: 英特尔 Lake

评论


相关推荐

技术专区

关闭