首页 > 新闻中心 > 设计应用
0. 引子:为何此时谈 ISA 设计?过去十年,RISC‑V 的兴起把“自定义指令集”的门槛大幅拉低,新的 ISA/扩展设计者暴增。然而,“一套好 ISA 的要义是什么?”几乎没有系统的教材可循。作者结合多次 ISA/扩......
电力电子产品的销售额预计将在这十年及以后飙升。推动这一趋势的是电动汽车产量的增加和数据中心的增长,由于人工智能的采用,数据中心的电力需求更加苛刻。对于使用电力电子的每种应用,提高其效率都是有益的。收益可能包括增加行驶里程......
机器人产业正快速发展,在全球化重构与大国博弈时代,应该如何开展国际协作?如何促进机器人产业的可持续发展?以及如何保证跨境的数据安全?如何发挥人的力量?8 月9 日,在“2025 世界机器人大会”主论坛“产业发展”上有一场......
近年来,首次直接解决了EUV光刻中二次电子噪声的统计及其对缺陷概率的影响[1]。在本文中,我们将考虑一些更新的 EUV 抗蚀剂模糊模型,包括化学放大 (CAR) 和金属氧化物 (MOR) 类型。首先,让我们回顾一下推导 ......
传统上,开关模式电源(SMPS)噪声较高,无法直接用于噪声敏感型模数转换器(ADC),因此需要额外的低压差(LDO)稳压器来供电。近年来,SMPS技术取得了显著进展,特别是Silent Switcher架构和电磁干扰(E......
核心观点:对深度学习(DL)这类“存算受限”并存的主流负载,仅靠先进工艺已难复制过去“每代数倍”的红利;在12nm 这类成熟节点上,通过TDCC(Tiled Decoupled Control & Compute) 的......
据彭博社的马克·古尔曼 (Mark Gurman) 称,虽然苹果的 iPhone 已经支持发短信、拨打紧急服务电话以及通过卫星连接联系路边援助,但该公司还有更多卫星驱动的功能正在开发中。据报道,正在开发的功能包括允许应用......
虽然我国正在竞相使用与华为相关的 SiCarrier 和 Yuliangsheng 的本土工具来缩小光刻差距,但现实情况是,极紫外 (EUV) 光刻技术仍然是一个完全不同的领域。能够打印 5nm 以下芯片的机器不仅复杂,......
随着北京向半导体自力更生迈进,高端芯片制造工具不可或缺,但由 ASML 控制的光刻技术带来了最大的挑战,其用于 5 纳米以下芯片的 EUV 机器禁止出口。值得注意的是,ASML 2025 年第三季度销售额的 4......
物联网不断扩展,但工程师们仍在努力应对一系列挑战:分散的标准、对功率和空间的严格限制以及性能和成本之间的不断权衡。然而,新一波无线 SoC 正在解决这些问题。Silicon Labs 首席技术官 Daniel Coole......
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