首页  资讯  商机   下载  拆解   高校  招聘   杂志  会展  EETV  百科   问答  电路图  工程师手册   Datasheet  100例   活动中心  E周刊阅读   样片申请
EEPW首页 >> 主题列表 >> 光刻

光刻 文章

ASML的上半年订单落空 预期下半年有望回复

  •   按全球第一大光刻设备供应商ASML公司的预估,其Q1的销售额将从08年Q4的4.94亿欧元下降到1.84亿欧元,而去年同期为9.19亿欧元,下降达80%。   ASML预计Q2的销售额在2.1-2.3亿欧元间,因为受工艺制程的进一步缩小推动,产业可能会在今年下半年开始复苏,订单回归到4.0-5.0亿欧元。新的工艺制程会要求购买新的或者升级现有的设备。   如08年仅只有各领域的领先者在购买设备,主要集中在如闪存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客户。预计2009年会加速工艺制
  • 关键字: ASML  光刻  DRAM  

2009年中国国际半导体技术研讨会成功在上海举办

  •   由SEMI、ECS及中国高科技专家组共同举办的中国国际半导体技术研讨会成功于3月19-20日在上海召开。诺贝尔物理学奖得主、IBM院士Georg Bednorz、Intel资深院士Robert Chau、IMEC CEO Gilbert Declerck、Praxair CTO Ray Roberge为大会作主题演讲,为550名与会的国内外半导体产业界人士介绍国际最前沿的纳米技术、微电子技术的发展趋势。本次研讨会的成功召开为提升中国半导体产业的技术水平,将国际最先进的技术与理念引进中国起到了积极的推动
  • 关键字: Intel  半导体  光刻  薄膜  CMP  

赛斯纯气体公司宣布在中国引入对光刻设备检验的微污染物检验服务

  •   赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界领导者和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上, 正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统, 用于对在中国的光刻和测量设备提供检验。
  • 关键字: 赛斯  测量  光刻  

世界最大光刻设备企业阿斯麦将裁员10%

  •   世界最大的光刻设备制造商阿斯麦(ASML)18日宣布,由于全球经济下滑,芯片制造设备需求锐减,该公司计划在半年内裁员1000人,占全球员工总数10%以上。   总部位于荷兰南部城市费尔德霍芬的阿斯麦公司当天发布声明说,裁员计划主要涉及总部和美国的部分生产厂,此外美国的一个培训中心将关闭。裁减对象将主要为临时工。   阿斯麦总裁埃里克·穆里斯说,受半导体产品需求下降、存储器价格低迷和客户资金周转困难的三重夹击,近一段时间国际市场光刻设备需求锐减,“其跌速和跌幅前所未有&rd
  • 关键字: 光刻  

IC业在拐点生存

  • 分析了IC业的众多特点,例如从90nm向65nm、45nm、32nm、22nm等拐点演进的困难,以及ESL、DFM拐点,制造是设计的拐点,FPGA与ASIC之间的拐点等热门问题。
  • 关键字: EDA  65nm  45nm  22nm  光刻  处理器  FPGA  ASIC  200808  

EUV掩膜版清洗—Intel的解决之道

  •   对于极紫外(EUV)光刻技术而言,掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟,而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射膜的污染问题最为关键。自然界中普遍存在的碳和氧元素对于EUV光线具有极强的吸收能力。在Texas州Austin召开的表面预处理和清洗会议上,针对EUV掩膜版清洗方面遇到的问题和挑战,Intel Corp. (Santa Clara, Calif.)的Ted Liang主持召开了一次内部讨论,并在会上向与会的同仁报告了在这一领域Intel和Dai Nippon Printin
  • 关键字: 光刻  EUV  掩膜  CMOS  

道康宁电子部推出XR-1541电子束光刻胶

  •   全球材料、应用技术及服务综合供应商美国道康宁公司电子部(Dow Corning Electronics)的硅晶片光刻解决方案事业部今日宣布正式开始供应Dow Corning® XR-1541电子束光刻胶,该产品是专为实现下一代、直写光刻工艺技术开发所设计。这一新型先进的旋涂式光刻胶产品系列是以电子束(electron beam)取代传统光源产生微影图案,可提供图形定义小至6纳米的无掩模光刻技术能力。   可用于各种高纯度、半导体等级配方的XR-1541电子束光刻胶,是由甲基异丁基酮(meth
  • 关键字: 道康宁  硅晶片  光刻  
共52条 4/4 |‹ « 1 2 3 4

光刻介绍

光刻   利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术,在工件表面制取精密、微细和复杂薄层图形的化学加工方法。光刻原理虽然在19世纪初就为人们所知,但长期以来由于缺乏优良的光致抗蚀剂而未得到应用。直到20世纪50年代,美国制成高分辨率和优异抗蚀性能的柯达光致抗蚀剂(KPR)之后,光刻技术才迅速发展起来,并开始用在半导体工业方面。光刻是制造高级半导体器件和大规模集成电路的关键工艺之一,并已用于刻划光栅、 [ 查看详细 ]

相关主题

热门主题

FPGA    DSP    MCU    示波器    步进电机    Zigbee    LabVIEW    Arduino    RFID    NFC    STM32    Protel    GPS    MSP430    Multisim    滤波器    CAN总线    开关电源    单片机    PCB    USB    ARM    CPLD    连接器    MEMS    CMOS    MIPS    EMC    EDA    ROM    陀螺仪    VHDL    比较器    Verilog    稳压电源    RAM    AVR    传感器    可控硅    IGBT    嵌入式开发    逆变器    Quartus    RS-232    Cyclone    电位器    电机控制    蓝牙    PLC    PWM    汽车电子    转换器    电源管理    信号放大器    树莓派    linux   
关于我们 - 广告服务 - 企业会员服务 - 网站地图 - 联系我们 - 征稿 - 友情链接 - 手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
备案 京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案:1101082052    京公网安备11010802012473