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光刻 文章

未来三年内存价格将持续攀升

  •   DRAMeXchange传来噩耗称内存芯片的价格在未来三年内将持续走高。这家市场分析公司将内存产业的兴衰周期定为3年左右,据该公司的分析师表示,2001-2003年,内存业者一直处在亏损期,而2004-2006年则恢复为持续盈利的状态,2007-2009年间则再度出现亏损期,因此他们预计从2010年开始,在全球经济危机缓和,Windows7日渐流行等因素的影响下,内存业者将再度扭亏为盈,进入新的一轮三年盈利期。   不过内存业者仍然面临另外一个重要的难题,他们要将制程水品提升到50nm以上级别则一般
  • 关键字: ASML  光刻  内存芯片  

ASML第一季订单量继续增长

  •   荷兰半导体设备生产商ASML的订单状况显示今年第一季情况继续好转,投资者将详细审视该公司业绩,以寻找芯片行业结构性复苏的迹象。   分析师将该公司的订单情况视作英特尔和台积电等大型芯片生产商业绩预估的风向标。   根据路透调查,第一季半导体光刻设备订单料为43笔,多于前一季的40笔。   ASML是全球最大的光刻设备生产商,其竞争对手包括日本的Nikon和佳能。   分析师预计ASML第一季净利为9,900万欧元(1.324亿美元),营收为7.13亿欧元。15位分析师的营收预估范围为5.90亿
  • 关键字: ASML  光刻  

Vistec Lithography宣布与华中科技大签署战略合作伙伴协议

  •   电子束光刻系统的知名厂商Vistec Lithography公司近日宣布他们与中国武汉华中科技大学光电工程学院签署了战略合作伙伴协议。武汉华中科技大学是大陆国家级重点院校之一,而 Vistec Lithography则是电子束光刻设备的领先厂商,按协议规定,两家将在纳米光刻技术研究和教学领域开展合作。   这次合作的核心是Vistec公司提供给华中科技大学的EBPG5000pES电子束光刻系统,装备这套系统之后,华中科技大学在教学,科研以及对外合作方面的实力将如虎添翼。华中科技大学称:“
  • 关键字: Vistec-Lithography  光刻  掩膜  

DRAMeXchange:未来三年内存价格将持续攀升

  •   DRAMeXchange传来噩耗称内存芯片的价格在未来三年内将持续走高。这家市场分析公司将内存产业的兴衰周期定为3年左右,据该公司的分析师表 示,2001-2003年,内存业者一直处在亏损期,而2004-2006年则恢复为持续盈利的状态,2007-2009年间则再度出现亏损期,因此他们 预计从2010年开始,在全球经济危机缓和,Windows7日渐流行等因素的影响下,内存业者将再度扭亏为盈,进入新的一轮三年盈利期。   不过内存业者仍然面临另外一个重要的难题,他们要将制程水品提升到50nm以上级别则
  • 关键字: 内存芯片  光刻  

IBM宣布旗下芯片厂将停用PFOS/PFOA两种有毒化合物

  •   IBM公司近日宣布其名下的芯片制造厂中将停止使用全氟辛烷磺酰基化合物(PFOS)和全氟辛酸(PFOA)两种有毒有害化合物。多年前,在欧盟以及其它 一些国家的环保部门出台限制使用这两种化合物的法规之后,美国环保署也出台了限制在消费级产品的生产过程中使用这两种化合物的法规,这两种化合物一般用于 防污和防潮处理。   不过在半导体制造产业中,仍允许使用这两种化合物,半导体制造的光刻和蚀刻工步需要少量使用这两种化合物。经过10多年的努力,IBM终于找到了这两种有毒化合物的替代用品。   IBM公司主管微电
  • 关键字: IBM  光刻  蚀刻  

Intel欲将193nm沉浸式光刻技术延用至11nm制程节点

  •   在本月21日举办的LithoVision2010大会上,Intel公司公布了其未来几年的光刻技术发展计划,按这份惊人的计划显示,Intel计划将 193nm波长沉浸式光刻技术延用至11nm制程节点,这表明他们再次后延了其极紫外光刻(EUV)技术的启用日期。   Intel实验室中的EUV曝光设备   根据会上Intel展示的光刻技术发展路线图显示,目前Intel 45nm制程工艺中使用的仍是193nm干式光刻技术,而32nm制程工艺则使用的是193nm沉浸式光刻技术,沉浸式光刻工具方面,Int
  • 关键字: Intel  光刻  11nm  

三项半导体新技术投入使用的时间将后延至2015-2016年

  •   半导体技术市场权威分析公司IC Insights近日发布的报告显示,按照他们的估计,450mm技术以及极紫外光刻技术(EUV)投入实用的时间点将再度后延。   据IC Insights预计,基于450mm技术的芯片厂需要到2015-2016年左右才有望开始实用化建设--比预期的时间点后延了两年左右。另外,预计16nm级别制程技术中也不会应用EUV光刻技术,这项技术会被后延到2015年,在13nm级别的工艺制程中投入实用。   另外一项较新的半导体制造技术,可用于制造3D堆叠式芯片的硅通孔技术(TS
  • 关键字: EUV  光刻  450mm  

北美半导体设备订单出货保持平稳增长 订单出货比微跌至1.06

  •   SEMI日前公布了2009年11月份北美半导体设备制造商订单出货比报告。按三个月移动平均额统计,11月份北美半导体设备制造商订单额为7.905亿美元,订单出货比为1.06。订单出货比为1.06意味着该月每出货价值100美元的产品可获得价值106美元的订单。   报告显示,11月份7.905亿美元的订单额较10月份7.563亿美元最终额增长4.5%,较2008年11月份的7.838亿美元最终额增长1%。   与此同时,2009年11月份北美半导体设备制造商出货额为7.437亿美元,较10月份6.94
  • 关键字: 光刻  半导体设备  

2012年前内存芯片厂商的重点将不会放在产能拓展方面

  •   据iSuppli公司分析,由于全球内存芯片厂商在2005-2007年间已经耗费了大量资本进行设备投资和产能扩展,因此现有的产能已经可以满足2012年的市场需求,这便意味着在未来两年之内全球内存芯片厂商的主要精力将不会放在产能拓展方面。   ”2005-2007年间,内存芯片厂商共花费了500亿美元的资金来采购新的制造设备和建设新的芯片厂,这笔花费已经占到同期整个内存产业营收的55%左右。“iSuppli公司的高级内存分析师Mike Howard表示:”由于向这
  • 关键字: 内存芯片  光刻  制造设备  

中国32nm技术脚步渐近

  •   32nm离我们还有多远?技术难点该如何突破?材料与设备要扮演何种角色?10月28日于北京举办的先进半导体技术研讨会即围绕“32nm技术发展与挑战”这一主题进行了探讨。   32nm节点挑战无限   “45nm已进入量产,32nm甚至更小的22nm所面临的挑战已摆在我们面前。”中芯国际资深研发副总裁季明华博士在主题演讲时说,“总体来说,有四个方面值得我们注意。首先是CMOS逻辑器件如何与存储器件更还的集成在一起;其次是SOC技术的巨大挑战,
  • 关键字: Cymer  32nm  光刻  

光刻巨头ASML四季度来首次盈利

  •   随着芯片厂商设备订单的恢复,欧洲最大的半导体设备制造商ASML报出了2930万美元的净利润,为四个季度来首次盈利。   ASML在今天的声明中表示该公司第三季度净利润为1970万欧元(2930万美元),即每股5欧分,低于去年同期7330万欧元的利润水平。不过这超过了彭博社调查7位分析师所得出的1060万欧元的市场预期。   该公司首席执行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示,ASML的设备可以让芯片客户生产出尺寸更小的芯片,随着客户在设备投资上恢复投入,该公司本季度销售额将
  • 关键字: ASML  光刻  半导体设备  

Mapper Lithography获资助 大力开发无掩模光刻设备

  •   半导体设备供应商Mapper Lithography BV公司日前获得荷兰经济事务部名为SenterNoven的机构达1000万欧元(合1470万美元)的补贴。   Mapper公司将利用此笔资金开发试用版设备。公司表示目前正在设计一款无掩模光刻设备的开发。这款设备将含有超过10000道平行电子束,从而将会在晶圆上直接形成图样,降低普通光刻设备上由于采用掩模版而带来的高昂成本。   Mapper将联合股东各方Catena,Technolution,Multin Hittech,Demcon,Del
  • 关键字: Mapper  半导体设备  光刻  

生存在矛盾之中

  •   在全球金融危机影响下,由于市场的萎缩导致大部分企业都不甚景气,向来红火的半导体业也感觉压力深重。在探讨未来如何发展之中,发现各种矛盾丛生,似乎很难作出决断。   投入多产出少,能持久吗?   SanDisk CEO Eli Harari于近期阐述了自己对于NAND闪存技术未来发展的几点看法,认为NAND闪存产业正处在十字路口,未来的产能需要和产品需求两者之间脱节,也即每年投资巨大, 然而由于ASP下降导致销售额没有相应的增大,利润越来越薄,目前糟糕的NAND闪存产业模式使得制造厂商对于建新厂已逐渐
  • 关键字: SanDisk  NAND  光刻  模拟电路  存储器  

消息称Canon步进光刻部门将裁员700人

  •   有消息称,日本Canon计划裁去步进式光刻部门的700名员工。   这些职位多数都在日本,其中一些员工将转至Canon其他部门,据悉700名员工约占步进光刻部门的30%。   Canon是全球第三的步进光刻设备供应商,排在ASML和Nikon之后,市场份额约为11%。   市场研究公司Gartner预测,2009年步进光刻市场将是艰难的一年,市场销售额预计将减少54%。   Canon预计2012年之前,步进光刻部门不会盈利。
  • 关键字: Canon  光刻  

光刻仪公司延期交货 台积电制程研发恐受影响

  •   据报道,台积电的光刻仪供应商Mapper公司已经将300mm光刻设备交货日延期近三个月之久。Mapper的多束e-beam光刻仪原计划于今年第一 季度装备台积电300mm工厂,不过由于技术上的原因Mapper公司拖延了交货日期,此举可能对台积电的制程研发进度造成一定的影响。   台积电CEO蔡力行曾称台积电已在与合作伙伴联合开发22nm及更高规格制程用多束e-beam光刻技术(multiple electron-beam (e-beam) maskless lithography equip
  • 关键字: 台积电  光刻  
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光刻介绍

光刻   利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术,在工件表面制取精密、微细和复杂薄层图形的化学加工方法。光刻原理虽然在19世纪初就为人们所知,但长期以来由于缺乏优良的光致抗蚀剂而未得到应用。直到20世纪50年代,美国制成高分辨率和优异抗蚀性能的柯达光致抗蚀剂(KPR)之后,光刻技术才迅速发展起来,并开始用在半导体工业方面。光刻是制造高级半导体器件和大规模集成电路的关键工艺之一,并已用于刻划光栅、 [ 查看详细 ]

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