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据日本媒体报导，光刻机设备龙头阿斯麦（ASML）执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF World 2023表示，半导体产业需要2030年开发数值孔径0.75的超高NA EUV光...

ASML NA 2023-06-26

据外媒Tomshardware报导，一家俄罗斯研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，预计该设备可以被用于7纳米制程芯片的生产上。整个计划预计在2028年完成，而且一旦完成之后，其设备可能会比ASML的Twinsc...

7nm 光刻设备 2022-10-24

　　半导体装备制造产业是国民经济的战略性和先导性产业，10余年间，在国家增强自主创新能力和振兴东北老工业基地等战略方针的引导下，辽宁半导体装备制造产业以沈阳为中心实现了从无到有、从小到大、由弱到强的历史性转变：建成了国内...

半导体光刻设备 2011-12-30

　　天津芯硕精密机械有限公司落户签字仪式暨老厂房改造开工仪式在天津开发区举行。天津开发区(南港工业区)管委会党组书记、管委会主任何树山，工信部电子信息司副司长刁石京，芯硕半导体有限责任公司董事长刘钧，滨海新区副区长郭景平...

芯硕光刻设备 2011-08-03

　　据台积电公司负责技术研发的副总裁蒋尚义表示，2011年台积电从荷兰ASML公司订购的极紫外(EUV，波长13.5nm)光刻设备将运抵厂内，这批订购的设备将为台积电公司2013年将公司制程能力升级到20nm级别铺平道...

台积电 20nm 2010-06-28

　　据荷兰ASML公司高管透露，由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增，著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工，同时还招聘了数百名新员工，这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工，...

ASML 32nm 2010-06-17

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