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ASML：数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场
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2023-06-26
传俄罗斯2028年量产7nm光刻设备
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2022-10-24
辽沈地区半导体装备产业强势崛起
EDA/PCB
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2011-12-30
芯硕精密机械落户天津开发区
EDA/PCB
芯硕
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2011-08-03
挺进20nm：台积电2011年将开始在Fab12工厂装用ASML产EUV光刻设备
EDA/PCB
台积电
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光刻设备
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2010-06-28
32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增：ASML公司召回先前遭辞退员工
EDA/PCB
ASML
32nm
光刻设备
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2010-06-17
台内存芯片厂商制程转换计划传因设备交货期拖延而更变
EDA/PCB
华亚
光刻设备
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2010-01-26
EUV蓄势待发 Carl Zeiss向ASML出货EUV光学系统
EDA/PCB
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2009-09-18
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