台湾晶圆厂选择 ASM 提供 High-k ALD工具

　　ASM International N.V. 宣布一家台湾晶圆厂为其28 纳米节点high-k 闸极介电层量产制程选择ASM的Pulsar原子层沉积技术(ALD)工具。

　　除此之外，此家晶圆厂也将与ASM针对最新世代的high-k闸极技术进行制程开发活动。 ASM 在2009年第2季将针对进阶节点开发计划提供额外的 Pulsar 制程模块。该晶圆厂在过去4年也使用ASM的ALD high-K和金属闸极设备来开发其以铪基材料为基础的high-k 闸极制程。

　　纳米节点上实现成功的high-K制程证明了ASM在制程当中整合新材料的优异能力。”ASM晶体管产品业务事业部经理Glen Wilk表示。“我们的high-K制程证明了在28纳米节点上的生产能力，我们也期望进一步的开发成果能够将这些利益延伸到未来的节点上。

　　ASM的Pulsar是第一款用于high-k 闸极量产的工具，其由45纳米节点开始采用，现在已经延伸至28纳米节点。ASM的high-k 闸极介电薄膜含氧化铪，并采用氧化铝和氧化镧高介电质覆盖层做为金属电极功函数调整之用。