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应用材料两名高管因窃取三星技术机密被捕

作者:时间:2010-02-08来源:驱动之家收藏

  据报道,韩国检方近日逮捕了两名美国半导体设备供应商Applied Materials高管,罪名则是这两名高管偷取三星芯片处理技术等机密并出售给了竞争对手海力士。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/105959.htm

  美国证券交易委员会的报告显示,Applied已经确认此事,并透露说其中一人是前韩国(AMK)高管、现任副总裁,另一名则是应用材料韩国子工厂的高管。

  应用材料在一封电子邮件中表示,由于韩国检方目前还未公布两人的姓名,他们也不方便透露两者的信息。作为应用材料的一大客户,三星的利益显然受到了伤害,三星表示他们将采取“适当”措施。不过三星员工也牵扯到了此案当中。

  据悉,应用材料高管向海力士泄露的信息涉及2005年三月到2009年12月的三星闪存芯片处理技术和三星芯片生产的投资计划。

  海力士也确认说旗下员工确实因为接收三星机密信息被捕,但是他们表示,海力士从来没有将此非法所得技术应用于其芯片生产当中。韩国当地媒体援引韩国检方的话说:“该案件说明芯片制造商对其竞争对手、合作伙伴的安全防范意识需进一步加强。”

  应用材料还表示:“我们对其客户、供应商、竞争对手以及其它第三方厂商的知识产权保护有着严格的规定,并将对违反规定的员工作出严肃处理。”



关键词: 应用材料 DRAM NAND

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