标签 掩膜技术社区

掩膜

　　MASK(掩膜)：单片机掩膜是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是：程序可靠、成本低。缺点：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货周期长。 　　在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板掩膜，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域 。查看更多>>

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三星据报道首次外包光掩模，着眼于新的 EUV 光掩模技术

EUV 光刻机 2025-09-18

光学光刻和EUV光刻中的掩膜与晶圆形貌效应

光学光刻 EUV光刻 2013-05-27

如何使用现有布局来省去缓冲器/逆变器

缓冲器 逆变器 2010-09-29

Vistec Lithography宣布与华中科技大签署战略合作伙伴协议

Vistec-Lithography 光刻 2010-04-12

德国建立32nm光刻掩膜研发项目

掩膜 AMTC 2008-09-10
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