离子注入是SiC器件制造的重要工艺之一。通过离子注入,可以实现对n型区域和p型区域导电性控制。本文简要介绍离子注入工艺及其注意事项。SiC的杂质原子扩散系数非常小,因此无法利用热扩散工艺制造施主和受主等掺杂原子的器件结构(形成pn结)。因此,SiC器件的制造采用了基于离子注入工艺的掺杂技术:在SiC中进行离子注入时,对于n型区域通常使用氮(N)或磷(P),这是容易低电阻化的施主元素,而对于p型区域则通常使用铝(Al)作为受主元素。另外,用于Al离子注入的原料通常是固体,要稳定地进行高浓度的Al离子注入,需
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三菱电机 SiC
SiC 功率器件市场规模逐年扩大,并将保持高速增长。
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SiC 功率器件
意法半导体的STGAP3S系列碳化硅 (SiC) 和 IGBT功率开关栅极驱动器集成了意法半导体最新的稳健的电隔离技术、优化的去饱和保护功能和灵活的米勒钳位架构。STGAP3S 在栅极驱动通道与低压控制和接口电路之间采用增强型电容隔离,瞬态隔离电压 (VIOTM)耐压9.6kV,共模瞬态抗扰度 (CMTI)达到 200V/ns。通过采用这种的先进的电隔离技术,STGAP3S提高了空调、工厂自动化、家电等工业电机驱动装置的可靠性。新驱动器还适合电源和能源应用,包括充电站、储能系统、功率因数校正 (PFC)、
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意法半导体 电隔离栅极驱动器 IGBT SiC MOSFET
东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)近日宣布,最新开发出一款用于车载牵引逆变器[1]的裸片[2]1200 V碳化硅(SiC)MOSFET“X5M007E120”,其创新的结构可实现低导通电阻和高可靠性。X5M007E120现已开始提供测试样品,供客户评估。当典型SiC MOSFET的体二极管在反向传导操作[3]期间双极通电时,其可靠性会因导通电阻增加而降低。东芝SiC MOSFET通过在MOSFET中嵌入SBD(肖特基势垒二极管)以弱化体二极管工作的器件结构来缓解上述问题,但如若将SBD布置在芯片上
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东芝 低导通电阻 牵引逆变器 SiC MOSFET 驱动逆变器
Littelfuse公司是一家工业技术制造公司,致力于为可持续发展、互联互通和更安全的世界提供动力。公司今日宣布推出SMFA非对称系列表面贴装瞬态抑制二极管,这是市场上首款非对称瞬态抑制解决方案,专为保护碳化硅(SiC)MOSFET栅极免受过压事件影响而设计。与传统的硅MOSFET和IGBT相比,SiC MOSFET的开关速度更快、效率更高,因此越来越受到欢迎,对稳健栅极保护的需求也越来越大。SMFA非对称系列提供了一种创新的单元件解决方案,在简化设计的同时显著提高了电路的可靠性。SMFA非对称系列是市场
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SiC MOSFET栅极保护 非对称瞬态抑制二极管 Littelfuse
电力电子设备中使用的半导体材料正从硅过渡到宽禁带(WBG)半导体,比如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等半导体在更高功率水平下具有卓越的性能,被广泛应用于汽车和工业领域中。由于工作电压高,SiC技术正被应用于电动汽车动力系统,而GaN则主要用作笔记本电脑、移动设备和其他消费设备的快速充电器。本文主要说明的是,但双脉冲测试也可应用于硅器件、MOSFET或IGBT中。为确保这些设备的可靠性,双脉冲测试(DPT)已发展成为一种行业标准技术,用于测量开启、关闭和反向恢复期的一系列重要参数。双脉冲测试系统包括示波
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202411 宽禁带 FET 测试
全球 14 家 8 英寸 SiC 晶圆厂布局。
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SiC
压缩机是汽车空调的一部分,它通过将制冷剂压缩成高温高压的气体,再流经冷凝器,节流阀和蒸发器换热,实现车内外的冷热交换。传统燃油车以发动机为动力,通过皮带带动压缩机转动。而新能源汽车脱离了发动机,以电池为动力,通过逆变电路驱动无刷直流电机,从而带动压缩机转动,实现空调的冷热交换功能。电动压缩机是电动汽车热管理的核心部件,除了可以提高车厢内的环境舒适度(制冷,制热)以外,对电驱动系统的温度控制发挥着重要作用,对电池的使用寿命、充电速度和续航里程都至关重要。图1.电动压缩机是电动汽车热管理的核心部件电动压缩机需
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压缩机 汽车空调 SiC
意法半导体(简称ST)推出第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技术。第四代技术有望在能效、功率密度和稳健性三个方面成为新的市场标杆。在满足汽车和工业市场需求的同时,意法半导体还针对电动汽车电驱系统的关键部件逆变器特别优化了第四代技术。公司计划在2027年前推出更多先进的SiC技术创新成果,履行创新承诺。意法半导体模拟、功率与分立器件、MEMS和传感器产品部(APMS)总裁Marco Cassis表示:“意法半导体承诺为市场提供尖端的碳化硅技术,推动电动汽车和高能效工业的未来发展。我们将继续在器
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STPOWER SiC MOSFET 驱动逆变器
东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)今日宣布,最新推出第3代碳化硅(SiC)肖特基势垒二极管(SBD)产品线中增添“TRSxxx120Hx系列”1200 V产品,为其面向太阳能逆变器、电动汽车充电站和开关电源等工业设备降低功耗。东芝现已开始提供该系列的十款新产品,其中包括采用TO-247-2L封装的五款产品和采用TO-247封装的五款产品。最新TRSxxx120Hxx系列为1200 V产品,其采用东芝第3代650 V SiC SBD的改进型结势垒肖特基(JBS)结构[1]。在结势垒中使用新型金属,有
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东芝 SiC 肖特基势垒二极管 工业电源
与Si材料相比,SiC半导体材料在物理特性上优势明显,比如击穿电场强度高、耐高温、热传导性好等,使其适合于制造高耐压、低损耗功率器件。本篇章带你详细了解SiC材料的物理特性。SiC作为半导体功率器件材料,具有许多优异的特性。4H-SiC与Si、GaN的物理特性对比见表1。与Si相比,4H-SiC拥有10倍的击穿电场强度,可实现高耐压。与另一种宽禁带半导体GaN相比,物理特性相似,但在p型器件导通控制和热氧化工艺形成栅极氧化膜方面存在较大差异,4H-SiC在多用途功率MOS晶体管的制备方面具有优势。此外,由
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三菱电机 SiC
SiC晶体中存在各种缺陷,对SiC器件性能有直接的影响。研究清楚各类缺陷的构成和生长机制非常重要。本文带你了解SiC的晶体缺陷及其如何影响SiC器件特性。在SiC晶体中存在各种缺陷,其中一些会影响器件的特性。SiC缺陷的主要类型包括微管、晶界、多型夹杂物、碳夹杂物等大型缺陷、以及堆垛层错(SF)、以及刃位错(TED)、螺旋位错(TSD)、基面位错(BPD)和这些复合体的混合位错。就密度而言,最近质量相对较好的SiC晶体中,微管是1〜10个/cm²,位错的密度约为10³~10⁴长达个/cm²。至今,与Si相
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三菱电机 SiC
我们采用单全桥LLC拓扑结构,以获得高效率和合理的成本。它由U60和Q60、Q62、Q70、Q72等组成。NCV4390(U60)是一种电流模式高级LLC控制器。它是FAN7688的引脚到引脚兼容设备。如果您在网站上找不到该设备,可以参考FAN7688的说明。有关该零件的更多详细信息,请参阅数据表和应用说明。由于输出电压高(250−450
Vdc),同步整流器对整流器的帮助不大传导损失。因此,我们省略了NCV4390的SR功能。NCV57000是一款具有内部电隔离功能的大电流单通道IGBT驱动器。
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车载电动汽车充电器 NVHL060N090SC1 SiC
8月29日上午,备受瞩目的2024年武汉铁人三项亚洲杯赛、2024年武汉全国铁人三项冠军杯系列赛暨U系列冠军杯赛、2024年中国·武汉铁人三项公开赛新闻发布会成功召开。发布会上,赛事组委会发布了赛事宣传片、赛事分组、竞赛距离、竞赛日程、公开赛标志、赛事奖牌等相关内容。武汉市体育局党组成员、副局长洪旭艳,江夏区人民政府党组成员、副区长梁爽出席此次发布会;武汉市社会体育指导中心副主任邱海防代表武汉市体育局发布赛事信息;江夏区文化和旅游局(体育局)局长缪璐进行江夏区文旅推介,向社会各界发出“跟着赛事游江夏”的邀
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罗姆 SiC MOSFET 极氪
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