6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。英特尔此前已经订购了最新的高NA EUV设备，第一台设备已于12月底运往俄勒冈州的一家工厂。目前尚不清楚ASML最大的EUV客户台积电何时会收到设备。据悉，这些机器每台造价3.5亿欧元（3.8亿美元），重量相当于两架空中客车A
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ASML 光刻机 高NA EUV
据市场消息，目前，ASML High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。当地时间6月3日，全球最大的半导体设备制造商阿斯麦（ASML）宣布，携手比利时微电子研究中心（IMEC），在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab），并由双方共同运营。推动摩尔定律关键因素：High NA EUV技术据业界信息，High NA EUV技术是
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6月6日消息，荷兰光刻机制造商ASML今年将向台积电交付其最新款光刻机。据公司发言人莫尼克·莫尔斯（Monique Mols）透露，首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen）在近期的分析师电话会议中表示，包括台积电和英特尔在内的ASML两大客户都将在今年年底前拿到高数值孔径极紫外线（high-NA EUV）光刻机。英特尔已经下单购买了这款最新的光刻机，并于去年12月底将第一台机器运至其位于俄勒冈州的工厂。目前尚不清楚台积电何时会收到这些设备。台积电代表表示，公司一直与供应商保持密切合作，但拒绝对此事
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5月26日，台积电举办“2024年技术论坛台北站”的活动，台积电CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的ASML总部，以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源设备供应商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通过社交媒体透露了魏哲家秘密出访的行踪。Christophe Fouquet表示他们向魏哲家介绍了最新的技术和新产品，包括High-NA EUV设备将如何实现未来
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5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm）的芯片。图片来源：塔斯社报道截图公开资料显示，350纳米尺寸芯片在当代较为落后，但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。图片来源：全球半导体观察制图目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。据外媒公开消息，俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂，分别是Mikron
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据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。此前，俄罗斯曾表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。
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上个月英特尔晶圆代工宣布完成了业界首台High-NA EUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤，为未来工艺路线图的生产做好准备。
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IT之家 4 月 19 日消息，英特尔今日宣布其已在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的 Fab D1X 研发晶圆厂完成世界首台商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻机的组装工作，目前已进入光学系统校准阶段。▲ 图源英特尔新闻稿这台光刻机型号 TWINSCAN EXE:5000，为 ASML 的首代 High NA EUV 光刻机，价值约 3.5 亿美元（IT之家备注：当前约 25.38 亿元人民币）。就在不久前 ASML 宣布其在荷兰埃因霍温总部的另一台 High NA EUV 光刻机成功
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4月19日消息，光刻机制造商ASML的CEO公开表示，没有理由不为中国客户提供售后服务。荷兰芯片设备制造商阿斯麦（ASML）周三发布的财报显示，第一季度净预订量从去年第四季度的92亿欧元降至36亿欧元。阿斯麦首席财务官达森称，中国客户约占公司积压订单的20%。“中国的需求很强劲。其产能增加是合理的，并且符合本世纪后半段的全球需求。”“目前，没有什么能阻止我们为中国客户已经购买的产品提供服务”，温宁克称。外媒表示，阿斯麦是欧洲市值最高的科技公司，而它现在已经成为美国政府用以遏制中国芯片产业发展的靶子。近日，
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IT之家 4 月 18 日消息，荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻机。这台高端光刻机旨在制造比当前低 NA EUV 设备所能制造的更高密度的芯片。据路透社报道，第二台高端光刻机的出货意味着这一最新技术正逐渐被采用。然而，ASML 对买家身份讳莫如深，只能猜测其身份，路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上，英特尔已经购买了首台高数值孔径 EUV 光刻机，用于其即将推出的 14A 制程节点。正如 A
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4月18日消息，ASML公开表示，将继续为中国大陆厂商提供设备维修服务。此前有消息称，美国计划向荷兰施压，试图阻止ASML在中国提供部分设备的维修服务。在业绩电话会上，ASML首席执行官温宁克回应称，“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。”光刻机是制造芯片的关键设备，中国大陆是ASML的第二大市场。因此，这种限制可能对中国的晶圆制造商产生重大影响，特别是对于维护产线稳定运行所必需的光刻机核心部件的供应和维护。之前外界担心，受限的光刻机主要是NXT:2000i及更先进的机型，而其他未受限
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3月27日消息，据外媒报道，为留住光刻机设备巨头阿斯麦（ASML）继续在荷兰发展，荷兰政府计划向ASML注入至少10亿欧元资金。本月初，荷兰当地报纸De Telegraaf揭露，ASML计划将公司搬离荷兰。报道指出，ASML已向荷兰政府提出了意向，表示将有可能在其他地方扩张或迁移，法国是选择之一。根据荷兰通讯社的消息，荷兰政府为此专门成立了一个名为“贝多芬行动”的特别工作小组，由首相马克·吕特亲自领导，旨在与ASML进行协商以解决其对荷兰当地劳动力供应、法规政策和供应链安全的担忧。最新消息指出，荷兰政府计
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3 月 27 日消息，据荷兰媒体 Bits&Chips 报道，ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻机的技术，运行效率得以提升。根据IT之家之前报道，NXE:3800E 光刻机已于本月完成安装，可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量，相较以往机型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技术 High-NA（高数值孔径） EUV 采用了更宽的光锥，这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽，会导致影响晶圆吞吐量的光损失。
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芯片制造商需要速度。在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，ASML近日发布的第三代EUV光刻机——Twinscan NXE：3800E，无疑为全球芯片制造业带来了新的希望与机遇。更加先进的光刻机出现，不仅代表着ASML在光刻技术领域的又一次突破，更将助力芯片制造商实现2nm处理器制造的飞跃。又一“神器”出现ASML，作为全球领先的光刻机制造商，不用过多介绍。此次发布的Twinscan NXE：3800E光刻机，是ASML在EUV光刻技术领域的又一
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ASML 光刻机
据路透社报道，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划将公司搬离荷兰。荷兰政府紧急成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组，由首相马克·吕特亲自领导，以确保ASML继续在荷兰发展。消息还称，ASML已向荷兰政府提出了意向，表示将有可能在其他地方扩张或迁移，法国或是选择之一。针对最近“搬离荷兰”等传言，ASML发言人对媒体称他们在考虑公司的未来，但没有透露具体的想法。ASML为何要搬离荷兰？凭借先天的地理位置及海港内陆网络，荷兰一直为欧洲的交通枢纽，国家经济高度依赖国际贸易，2022年最新出口额占全国GDP之比超
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光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
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