- 日本尼康（Nikon）为了重振业绩，将大幅转变半导体光刻机业务的战略。目前全球市占率排名第3的尼康将采用不违反对华出口管制的成熟技术设备，在2024年投放新产品，通过寻求逆势开拓中国市场，以实现卷土重来。《日经中文网》报导说，尼康预测2023财年（截至2024年3月）的合并凈利润将同比减少22%，降至350亿日元（约合台币72亿元）。半导体设备相关的精密机械业务以及相机影像业务是2大支柱，其中高档微单相机销售强劲，但精密机械业务低迷影响获利。报导说，光刻机是半导体制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利证券的调查
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- 日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”纳米压印半导体制造设备集群。计划将新型芯片制造设备的价格定为阿斯麦极紫外光刻机的十分之一左右，从而在光刻机领域取得进展。佳能首席执行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造设备售价将比阿斯麦（ASML）的极紫外光刻（EUV）设备少一位数，虽然最终的定价目前还没有敲定，但是可以预见将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条新的道路。
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- 11月6日消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）表示，自家在中国市场明年业务非常乐观。ASML中国区总裁沈波强调，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%，对明年在中国的业务也非常的乐观。沈波表示："我们2023年在中国的招聘是超过200人的，2024年预计业务的发展会继续带来很多需求，团队的扩充应该还会是一个相对比较大的规模。"按照沈波的说法，从1988年首台机器运到中国，到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。近期美
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光刻机 ASML
- 11月6日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数，”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁，上一次退
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- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出纳米压印半导体制造设备。对于 2004 年就开始探索纳米压印技术的佳能来说，新设备的推出无疑是向前迈出了一大步。佳能推出的这个设备型号是 FPA-1200NZ2C，目前可以实现最小线宽 14nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 纳米节点。佳能表示当天开始接受订单，目前已经向东芝供货。半导体行业可谓是「苦光刻机久已」，纳米压印设备的到来，让期盼已久的半导体迎来一线曙光。那么什么是纳米压印技术？这种技术距离真的能够取代光刻机吗？纳米压印走向台前想要
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- 10 月，光刻机大厂佳能（Canon）公司通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于「纳米印刷」（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人发现这种设备已经达到了 EUV 光刻机的水平，甚至将颠覆行业巨头 ASML。自从 ASML 成功取代尼康佳能，成为高端光刻机的唯一王者之后，这还是第一次传出这么震撼的消息。日本的光刻机，从称霸到被甩开，经历了什么？来自上个世纪的光鲜上世纪末
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- IT之家 10 月 18 日消息，光刻机巨头 ASML 今日公布了第三季度财务业绩，净销售额为 67 亿欧元（IT之家备注：当前约 517.91 亿元人民币），净利润为 19 亿欧元（当前约 146.87 亿元人民币），环比都稍有下降，毛利率为 51.9%。▲ 官方图片错误，最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度净预订额为 26 亿欧元（当前约 200.98 亿元人民币），其中 EUV 预订额为 5 亿欧元（当前约 38.65 亿元人民币）。ASML 预计 2023 年第四季度净
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- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。IT之家注：纳米印刷（
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- 近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。开发人员介绍，传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如
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- 近年来，光刻机行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。ASML公司作为全球光刻机行业的龙头企业，其对华出口光刻机的态度一直备受关注。然而，最近ASML公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从ASML公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术等方面进行分析。ASML公司对华出口光刻机态度的变化ASML公司在对华出口光刻机的态度上一直摇摆不定。
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- 最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造 7nm 及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需要的精密零部件太多了，每一种的技术含量都非常高，而且，要想把这些零部件组合成一台可用的机器，需要长期的技术和实践积累。光刻这个概念，有广义和狭义之分。在狭义层面，就是用光去「复印」集成电路图案，这也是我们常说的光学光刻技术，特别是紫外线光刻技术（DUV 和 EUV）。在广义层面，光刻泛指各种集成电路「复印」和「印刷」技术，这些技术中，
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- 近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。北京高能同步
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- 当下，光刻机在半导体行业的地位前所未有的重要，而且已经突破了技术和产业范畴，引发了新一波光刻机之争。从历史发展情况来看，光刻机（这里主要指用于制造集成电路前道工序的光刻机）的发展和应用经历了很多波折，总体来看，有两个值得关注的时期，一个是 ASML 依靠浸没式技术，异军突起，并将原本的行业两强甩在身后，这是技术之战，另一个是 EUV 商用化之后，先进制程（从 16nm 开始）争夺战打响，台积电、三星电子和英特尔这三家为了争夺产量有限的 EUV 而展开竞争，这是商业之争。从目前的情况来看，第三波光刻机之争正
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- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。据称，这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品，并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NS
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- IT之家 6 月 26 日消息，据日本经济新闻报道，日本经产省与荷兰经济事务和气候政策部在东京签署了半导体合作备忘录。二者将共同推进欲量产 2 nm 工艺的日本晶圆代工商 Rapidus 与荷兰光刻机巨头 ASML 的合作，并联手进行技术开发。▲ 图源：ASML报道称，ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴，采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到，EUV 光刻机在全球范围内较为短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出，如果 Ra
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光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
网址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [
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