- 11月6日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数，”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁，上一次退
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- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出纳米压印半导体制造设备。对于 2004 年就开始探索纳米压印技术的佳能来说，新设备的推出无疑是向前迈出了一大步。佳能推出的这个设备型号是 FPA-1200NZ2C，目前可以实现最小线宽 14nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 纳米节点。佳能表示当天开始接受订单，目前已经向东芝供货。半导体行业可谓是「苦光刻机久已」，纳米压印设备的到来，让期盼已久的半导体迎来一线曙光。那么什么是纳米压印技术？这种技术距离真的能够取代光刻机吗？纳米压印走向台前想要
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纳米压印 EUV 光刻机
- 10 月，光刻机大厂佳能（Canon）公司通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于「纳米印刷」（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人发现这种设备已经达到了 EUV 光刻机的水平，甚至将颠覆行业巨头 ASML。自从 ASML 成功取代尼康佳能，成为高端光刻机的唯一王者之后，这还是第一次传出这么震撼的消息。日本的光刻机，从称霸到被甩开，经历了什么？来自上个世纪的光鲜上世纪末
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光刻机 佳能
- IT之家 10 月 18 日消息，光刻机巨头 ASML 今日公布了第三季度财务业绩，净销售额为 67 亿欧元（IT之家备注：当前约 517.91 亿元人民币），净利润为 19 亿欧元（当前约 146.87 亿元人民币），环比都稍有下降，毛利率为 51.9%。▲ 官方图片错误，最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度净预订额为 26 亿欧元（当前约 200.98 亿元人民币），其中 EUV 预订额为 5 亿欧元（当前约 38.65 亿元人民币）。ASML 预计 2023 年第四季度净
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- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。IT之家注：纳米印刷（
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- 近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。开发人员介绍，传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如
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- 近年来，光刻机行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。ASML公司作为全球光刻机行业的龙头企业，其对华出口光刻机的态度一直备受关注。然而，最近ASML公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从ASML公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术等方面进行分析。ASML公司对华出口光刻机态度的变化ASML公司在对华出口光刻机的态度上一直摇摆不定。
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- 最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造 7nm 及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需要的精密零部件太多了，每一种的技术含量都非常高，而且，要想把这些零部件组合成一台可用的机器，需要长期的技术和实践积累。光刻这个概念，有广义和狭义之分。在狭义层面，就是用光去「复印」集成电路图案，这也是我们常说的光学光刻技术，特别是紫外线光刻技术（DUV 和 EUV）。在广义层面，光刻泛指各种集成电路「复印」和「印刷」技术，这些技术中，
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光刻机
- 近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。北京高能同步
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- 当下，光刻机在半导体行业的地位前所未有的重要，而且已经突破了技术和产业范畴，引发了新一波光刻机之争。从历史发展情况来看，光刻机（这里主要指用于制造集成电路前道工序的光刻机）的发展和应用经历了很多波折，总体来看，有两个值得关注的时期，一个是 ASML 依靠浸没式技术，异军突起，并将原本的行业两强甩在身后，这是技术之战，另一个是 EUV 商用化之后，先进制程（从 16nm 开始）争夺战打响，台积电、三星电子和英特尔这三家为了争夺产量有限的 EUV 而展开竞争，这是商业之争。从目前的情况来看，第三波光刻机之争正
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光刻机
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。据称，这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品，并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NS
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- IT之家 6 月 26 日消息，据日本经济新闻报道，日本经产省与荷兰经济事务和气候政策部在东京签署了半导体合作备忘录。二者将共同推进欲量产 2 nm 工艺的日本晶圆代工商 Rapidus 与荷兰光刻机巨头 ASML 的合作，并联手进行技术开发。▲ 图源：ASML报道称，ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴，采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到，EUV 光刻机在全球范围内较为短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出，如果 Ra
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- 知情人士称，美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出，日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性，美光也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团，而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。自201
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1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻机
- 5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。日本当前的逻辑工艺还在28nm以上，但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺，直接搞2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、
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日本 EUV 光刻机
- 目前全球仅4家厂商，能够制造光刻机，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微电子。从技术水平来看，ASML>尼康>佳能>上海微电子。如下图所示，ASML的光刻机能够达到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微电子的在90nm以上。再给大家一个数字，这是某机构统计的，2021年全球半导体前道光刻机的销售情况，从这张表可以看出来，小米7nm的EUV光刻机，ASML全部包揽。在45-7nm的光刻机上，仅有尼康、ASML能够推出，尼康也就是打酱油，仅卖出4台，另外的
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光刻机 ASML 尼康 佳能 上海微电子
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
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