- 知情人士称，美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出，日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性，美光也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团，而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。自201
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1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻机
- 5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。日本当前的逻辑工艺还在28nm以上，但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺，直接搞2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、
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日本 EUV 光刻机
- 目前全球仅4家厂商，能够制造光刻机，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微电子。从技术水平来看，ASML>尼康>佳能>上海微电子。如下图所示，ASML的光刻机能够达到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微电子的在90nm以上。再给大家一个数字，这是某机构统计的，2021年全球半导体前道光刻机的销售情况，从这张表可以看出来，小米7nm的EUV光刻机，ASML全部包揽。在45-7nm的光刻机上，仅有尼康、ASML能够推出，尼康也就是打酱油，仅卖出4台，另外的
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光刻机 ASML 尼康 佳能 上海微电子
- 受消费电子市场低迷影响，半导体产业迈入下行周期，上游半导体设备也因客户去库存、调整订单受到影响。不过，光刻机龙头企业ASML发布的最新财报显示，尽管光刻机业务遭遇一定挑战，但未来产业前景仍旧向好。01EUV/DUV收入超预期增长，半导体需求结构性分化4月19日，ASML发布2023年第一季度财报，该季ASML实现了净销售额67亿欧元，毛利率为50.6%，净利润达20亿欧元。今年第一季度的新增订单金额为38亿欧元，其中16亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2023年第二季度的净销售额约为65亿~70亿欧
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ASML 光刻机
- 据台系设备厂商透露ASML近期由于客户大砍资本支出、缩减订单，最重要的是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备订单及延后拉货时间，2024全年业绩将明显承压。根据ASML的财报显示，今年一季度的净销售额为67.46亿欧元，较去年同期的35.34亿欧元大幅增加，接近翻番，较上一季度的64.3亿欧元也有增加；净利润为19.56亿欧元，较去年同期的6.95亿欧元大幅增加，较上一季度的18.17亿欧元也有增加。虽然净销售及利润同比环比均有增加，但ASML在财报中也披露了不利的消息，其一季度的净订单只有37.52亿欧元
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ASML 台积电 7nm DUV 光刻机 出口 中国
- 3月28日，商务部部长王文涛会见荷兰阿斯麦公司（ASML）全球总裁温宁克。商务部官网消息，3月23日-28日，王文涛相继会见了高通、苹果、宝马等超10家外企高管。王文涛强调，中国坚定不移推进高水平开放，愿为包括阿斯麦公司（ASML）在内的跨国公司来华发展创造良好营商环境，并提供高效服务。希望阿斯麦坚定对华贸易投资合作信心，为中荷经贸合作作出积极贡献，并共同维护全球半导体产业链供应链稳定。双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。证券时报·e公司记者留意到，上述会面距离3月8日荷兰政府发布有关即将出台的半导体
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阿斯麦 ASML 光刻机
- 半导体周要闻2023.3.13-2023.3.171. 任正非：华为三年完成了13000型号器件的替代开发近日，华为公司在深圳坂田总部举办“难题揭榜”火花奖颁奖典礼，为在解题揭榜中做出突出贡献的获奖人员代表颁奖，华为总裁任正非发表了讲话，部分参与座谈的大学发布了座谈纪要。任正非表示，在美国制裁华为这三年期间，华为完成 13000 + 型号器件的替代开发、4000 + 电路板的反复换板开发等，直到现在电路板才稳定下来，因为有了国产的零部件供应。任正非表示，华为现在还属于困难时期，但在前进的道路上并没有停步。
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莫大康 半导体 华为 光刻机 NAND
- 半导体一周要闻2023.3.13-2023.3.171. 任正非：华为三年完成了13000型号器件的替代开发近日，华为公司在深圳坂田总部举办“难题揭榜”火花奖颁奖典礼，为在解题揭榜中做出突出贡献的获奖人员代表颁奖，华为总裁任正非发表了讲话，部分参与座谈的大学发布了座谈纪要。任正非表示，在美国制裁华为这三年期间，华为完成 13000 + 型号器件的替代开发、4000 + 电路板的反复换板开发等，直到现在电路板才稳定下来，因为有了国产的零部件供应。任正非表示，华为现在还属于困难时期，但在前进的道路上并没有停步
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半导体 莫大康 华为 NAND 光刻机
- 自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开 ASML（阿斯麦）的 DUV（深紫外）和 EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL）。日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比 EUV 光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和
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光刻机
- 3 月 8 日，ASML 发表声明回应荷兰政府即将出台的半导体设备出口管制措施。ASML 称，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，ASML 将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统。ASML 强调，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行记者会上，有媒体提问，据报道，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷议会致函称，出于国家安全考虑，荷兰将于今年夏天之前对其芯片出口实施限制性措施。中方对此有何评论？外交部发言人毛
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光刻机 EUV DUV
- IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日发售了面向前道工序的半导体光刻机新产品 —— i 线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现 0.5μm（微米）高解像力与 50×50mm 大视场曝光。据介绍，新产品“FPA-5550iX”能够同时实现 50×50mm 大视场及 0.5μm 高解像力曝光，在不断趋向高精尖化的全画幅 CMOS 传感器制造领域中，使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。同时，通过充分利用高解像力与大视场的优势，“FPA-5550iX”也可应用于头戴式
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佳能 光刻机
- 众所周知，当前全球只有ASML一家能够生产EUV光刻机，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有ASML能够生产光刻机，不会有第二家。原因在于ASML把EUV光刻机的路堵住了，这条路别人是走不通的。ASML与全球众多的供应链，形成了捆绑关系，像蔡司等与ASML形成了利益共同体，EUV光刻机中，蔡司等厂商至关重要，掌握核心科技，缺少这些供应链，其它厂商不可能制造出EUV光刻机。所以，目前众多的其它光刻机企业，并不打算走EUV光刻机这条路，在另寻它路。同样的，国产光刻机基本上也走不通EUV这条路，只能另寻他路，而
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ASML EUV 光刻机
- 日前，ASML又正式官宣，2023年营收预计增长25%，预计国内市场营收将会稳定在22亿欧元。数据显示，一台DUV光刻机的售价大约在2000万美元，22亿欧元大约可以购买超100台DUV光刻机，这意味着ASML预计今年向国内出货超100台DUV光刻机。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻机产能将会达到600台，EUV光刻机产能达到90台，这意味着未来一段时间内，DUV光刻机仍是主力出货设备。对此，就有外媒表示美国急不急？首先，光刻机是生产制造芯片的必要设备，也是美掌握为数不多的卡脖子设备，一旦光
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DUV 光刻机 ASML
- IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要测量的对准测量点也越来越多。如果在半导体光刻机中对数量众多的测量点进行对准测量的话，测量本身会非常耗时，进而就会降低半导体光刻机的生产效率。为此，半导体制造领域引进了晶圆测量机，将半导体光刻机的对准测量功能分离出来，以此来确保生产的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半导体制造用晶圆测量机“MS-001”，该
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佳能 光刻机
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
网址:http://www.loadpoint.com.cn
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