SEMICON China 2017开幕日即3月14日，上海微电子装备(集团)股份有限公司(后简称“SMEE”)宣布，SMEE 与荷兰公司 ASML 签署战略合作备忘录(MoU)，为双方进一步的潜在合作奠定了基础。
根据这项合作备忘录，ASML 和 SMEE 将探索就 ASML 光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路研发中心(ICRD)宣布合作之后，进一步深入参与中国的IC产业的发展。
光刻机被称
关键字：
光刻机 ASML
台积电、三星与英特尔之间先进制程的战局依旧如火如荼的展开，三方比拼毫不手软。
关键字：
台积电 光刻机
关键字：片内相位测量 模拟光刻机采用特殊照明方式的高/超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切需要
关键字：
相位测量 模拟 光刻机
ASML近日宣布，两位使用TWINSCAN 光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录，即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的，两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm光刻生产能力。
关键字：
光刻机 晶圆
据内存业者透露，由于著名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺，因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间 可能会再后延12个月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38nm以上级别制程至关重要，因此预计台系内存芯片厂商制程转换的进度 会受到较大的影响。NXT:1950i 是荷兰ASML公司最新开发的沉浸式光刻机，可用于制造12英寸32nm及以上级别制程的产品.
此前曾有报道称 NXT:1950i的订货至到货日期已经被拉长到了将近12个月，
关键字：
ASML 光刻机 内存芯片
Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay，通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品，帮助imec进一步开拓沉浸式光刻技术的应用。
关键字：
ASML 光刻机
ASML日前宣布，其2010年Q2净销售达到1,069 million欧元，净收入为239 million 欧元，Q2的净订单价值1,179 million 欧元，包括了48套新系统及11套二手系统。各项数据均较2010年Q1有所提高。
ASML总裁兼CEO Eric Meurice认为，Q2销售的强劲增长证明了半导体产业近期对于光刻设备的需求，已有近20套NXT:1950i 设备运出。所有ASML的先进NXT光刻机都包括了一个或多个一体化光刻部件。对于下一代将要应用于20nm以下节点的产品，E
关键字：
ASML 光刻机
Nikon的09半导体设备销售额与08年相比下降31.7%为16亿美元。
09年亏损6,32亿美元, 相比于08年盈利8600万美元。其中半导体用光刻机销售数量下降40%及LCD用光刻机下降30%。
按路透社报道,日本尼康公司计划在2011年3月底结算的年度中, 销售半导体用光刻机48台, 相比09年的36台,及LCD用光刻机58台, 相比09年的45台。
关键字：
Nikon 光刻机
2010年全球存储器可能出现供应缺货，而且非常可能会延续下去。为什么?可能有三个原因，1)，存储器市场复苏;2)，前几年中存储器投资不足;3)，由ASML供应的光刻机交货期延长。
巴克菜投资公司的分析师 Tim Luke在近期的报告中指出，通过存储器的食物供应链看到大量的例证，认为目前存储器供应偏紧的局面将持续2010整年，甚至延伸到2011年。
据它的报告称，2010年全球NAND闪存的位增长可达70%，而2009增长为41%。2010年全球DRAM的位增长达52%。
Luke认为
关键字：
存储器 NAND 光刻机
2009年对于半导体设备制造商是不可忘怀之年。所有制造商都受到危机的影响，但是2010年半导体工业正处于恢复之中，然而设备制造商仍面临众多的挑战。
在SEMI主办的ISS会上Globalfoundries的fab2总经理 Norm Armour列出设备制造商面临的六大挑战。
1 兼并加剧
由于在有的设备类中仍有4-5家制造商，所以兼并将加剧。当然也有如光刻机，仅剩下两家，但是CVD，PVD，Etch仍显太多。
2 光刻机价格高耸
用在光刻上的投资越来越大(一台193nm浸
关键字：
半导体设备 光刻机 设备制造
在全球金融危机影响下，半导体业正进入前所未遇的严重衰退时期，半导体固定资产投资在2008年下降27.3%基础上，2009年将再下降34.1%。综合分析各大分析机构的预测数据，2009年全球半导体业年销售额的下降幅度将在15%到20%之间。
半导体设备业受灾最重
半导体产业链中设备业受到的影响相对最为严重。依Gartner公司的官方数据显示，全球半导体业固定资产投资两年来逐渐下滑，2007年为592亿美元，2008年下降了27.3%，为490亿美元，而09年将再次下降34.1%，为323亿美
关键字：
应用材料 半导体 存储器 处理器 光刻机 芯片制造 200906
KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出：“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加，电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这
关键字：
KLA-Tencor 光刻机 二次成像光刻
中芯国际正悄悄从海外进口关键设备，欲抢在今年年底试产45纳米芯片，从而进入全球半导体代工业45纳米的“俱乐部”。
消息人士对《第一财经日报》透露，29日中芯国际上海12英寸厂采购浸润式光刻机已到位，“这标志着中芯国际在量产45纳米芯片方面有了生产保障。”
天价光刻机悄悄到厂
本报获悉，这是中国大陆的第一台浸润式光刻机，该设备由荷兰ASML生产，后者是全球这一领域的第一大供应商。上述消息人士透露，由于光刻机属高精密设备，为防止震动，从机场
关键字：
中芯国际 45纳米 芯片 半导体 台积电 光刻机
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
网址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [
查看详细 ]
关于我们 -
广告服务 -
企业会员服务 -
网站地图 -
联系我们 -
征稿 -
友情链接 -
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473