说到光刻机大家难免会想到三个厂商，荷兰的ASML公司、尼康和佳能。而光刻机就是制造芯片的核心装备。现如今光刻机领域的核心地位就是荷兰的ASML，他与台积电合作，共同突破了沉浸式DUV光刻机，也正因为此动作，才奠定了ASML在光刻机领域的核心地位。后续ASML又推出了更加高端的EUV光刻机，而且还是独家垄断生产。这就进一步使得ASML成为行业的巨头。随着科技的不断发展，市场就要越来越追求高性能以及高要求，ASLM造成的长时间垄断，导致其他同行没有办法发展。在他自身无法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
关键字：
光刻机 ASML DUV EUV
最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但三星仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（EUV），用于生产最新的12nm级内存芯片，而三星目前仅有40台EUV光刻机。
关键字：
三星 EUV 光刻机
IT之家 12 月 7 日消息，据台湾地区经济日报报道，光刻机巨头 ASML 将扩大在台湾地区的投资。ASML 台湾地区新工厂预计将在明年 7 月动工，是该公司在当地的最大投资，并计划把欧洲供应链带到台湾地区。台媒指出，ASML 带来的欧洲供应链将会落地林口工一研发中心、桃园龟山两处，未来不排除以相同模式陆续在新竹、台中、台南落地。此外，ASML 带来的主要为设备维修及组装。数据显示，2022 年第三季度，ASML 实现了净销售额 58 亿欧元（约 425.72 亿元人民币），毛利率为
关键字：
光刻机 ASML
12 月 4 日消息，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及 OLED 面板原材料，经过三年的努力，韩国实现了光刻
关键字：
三星 光刻机 光刻胶
都知道光刻机单台成本非常的贵，但是你知道有多贵吗？一台数亿美元的光刻机让我们看到了一款硬件设备的价格极限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒体采访时透露，他们正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备，而高NA EUV光刻机系统的单台造价将在300亿到350亿欧元之间，约合人民币2195到2561亿元。这个价格什么概念，一搜顶级航母的价格差不多在100亿美元左右，而这台硬件设备可以买三艘顶级航母，而ASML目前在售的双工件台EUV光刻机不过数亿美元，作为下一代产品身价
关键字：
光刻机 ASML EUV
（中国上海，2022年11月4日）—— 今年，半导体行业的领先供应商ASML将以“光刻未来，携手同行”为主题继续亮相第五届中国国际进口博览会（以下简称“进博会”）技术装备展区4.1展馆A0-01展台。届时，ASML将首次通过“元宇宙”平台，带来沉浸式的光刻体验，彰显前沿科技，推动行业发展。 “今年是ASML第四次参展进博会，我们希望借助进博会的平台不断地展现开放共赢、合作发展的理念。”ASML全球高级副总裁、中国区总裁沈波表示，“ASML一直秉持开放与专注，以‘开放式创新’和对光刻技术的专注，持
关键字：
ASML 进博会 光刻机
本周美光宣布，采用全球最先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证，并做好了量产准备。 1β工艺可将能效提高约15％，存储密度提升35％以上，单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。 一个值得关注的点是，美光称，1β绕过了EUV（极紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。 这意味着相较于三星、SK海力士，美光需要更复杂的设计方案。毕竟，DRAM的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力，各公司目
关键字：
美光 DRAM 内存芯片 光刻机 EUV
在先进工艺上，台积电今年底量产3nm工艺，2025年则是量产2nm工艺，这一代会开始使用GAA晶体管，放弃现在的FinFET晶体管技术。 再往后呢？2nm之后是1.4nm工艺，Intel、台积电及三星这三大芯片厂商也在冲刺，其中三星首个宣布2027年量产1.4nm工艺，台积电没说时间点，预计也是在2027年左右。 1.4nm之后就是1nm工艺了，这个节点曾经被认为是摩尔定律的物理极限，是无法实现的，但是现在芯片厂商也已经在攻关中。 台积电已经启动了先导计划，传闻中的1nm晶圆厂将落户新竹科技园下
关键字：
光刻机 台积电 摩尔定律 1nm
2028年实现光刻机自研，可支持7nm芯片制造！俄罗斯真有这个能耐？在芯片规则不断的升级之下，各个国家不再相信基于美技术体系的国际产业链，而中、俄是产业被限制最严重的国家，因此在技术的自研上反应也是最强烈的，在中企相继传出好消息之后，俄科学院也官宣了好消息。根据海外传来的消息，俄科学院IPF RAS已经全力参与光刻设备的研发，后续将会有整套的半导体设备诞生，并且其还高调宣称：“自研的光刻机将在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量产！”这就让人纳闷了，目前俄国依靠自主化的产业链，就连90nm工艺都无
关键字：
光刻机 俄罗斯
近期，全球半导体龙头设备企业阿斯麦（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度财报，阿斯麦方面，最新一季度销售额和利润均超出市场预期，其新的净预订额也创下了纪录。此外阿斯麦CEO Peter Wennink表示，ASML有望继续向中国出货非EUV光刻机；泛林方面，当季公司营收创下历史新高，官方表示，2023年晶圆厂设备支出将下滑。ASML：有望继续向中国出货非EUV光刻机10月19日，光刻机大厂阿斯麦公布了2022年第三季度财报。数据显示，ASML第三季度净营收同比增长10%至58亿欧元，超出此前业界预
关键字：
ASML EUV 光刻机 泛林
芯研所9月26日消息，近日美国开发和商业化原子精密制造技术公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系统——ZyvexLitho1TM。它没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式。实现了0.768nm的原子级精密图案和亚纳米级分辨率芯片的制造，远超EVU光刻机的精度。目前，5nm级及以下的尖端半导体制程必须采用EUV光刻机，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻机，售价或将高达4亿美元。但想要实现1nm以下更先进
关键字：
光刻机 美国
被美国给打醒！俄罗斯想造光刻机，全新的技术，对标了ASML的EUV谁都知道，俄罗斯已经被美国全面打压了。俄罗斯的晶片需求量并不大，每年的进口量，也就是一亿美元左右，大部分的晶圆厂，都不会和美国竞争。但俄罗斯的一亿美金，在俄罗斯来说，就是一个天文数字。俄罗斯将会做什么？前段时间，有消息说俄罗斯准备重新做一台光刻机。他的目标很明确，就是要用ASML的最新光刻机，去挑战目前最尖端的EUV（UV）。当然，ASML也不可能战胜ASML，因为ASML的EUV光刻机，都是全世界的人帮忙做的，俄罗斯这边，根本就没有人去做
关键字：
光刻机 俄罗斯
集微网消息，据日经新闻报道，尼康公司日前提出半导体光刻设备新的业务发展目标，即到 2026 年 3 月为止的财年，将光刻机年出货量较目前的三年平均水平提高一倍以上。报道称，尼康将积极开拓除英特尔以外的其他客户，特别是日本本土和中国地区客户，计划将英特尔在光刻机设备营收中所占比重从 80% 降低到 50%。尼康还将推出适应 3D 堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力，目前，该公司平均每年售出 16 台 ArF 光刻机（含二手翻新）。
关键字：
尼康 光刻机 半导体
在俄罗斯开始对乌克兰的特别军事行动之后，西方国家开始对俄罗斯施加各种各样的制裁。俄罗斯当前面临严峻的商业环境和政治环境，许多信息产业的科技人才纷纷出走，寻找更加安全且有保障的就业环境。根据美媒1日的报道，乌克兰战争爆发以来已经多7万多名IT技术专家从俄罗斯离开，一些国家向俄罗斯的专业技术人才招手，充实自己的高新技术产业的发展。俄罗斯大量信息技术人才流失的情况已经得到俄罗斯电子通讯协会方面的承认，该协会上周向俄罗斯杜马委员会递交的报告之中指出，当前俄罗斯已经流失了5万到7万人的科技人才。尽管当前俄罗斯的人才
关键字：
俄罗斯 光刻机 芯片
全球半导体市场从产能紧张已经转向过剩，部分领域跌价跌得厉害，比如显卡、内存及SSD等，这一波芯片价格下滑也会影响厂商的生产计划，结果就是ASML一度供不应求的EUV光刻机卖不动了，今年出货量减少15台。ASML昨天发布了2022年Q2季度财报，当季净销售额为54.31亿欧元，好于市场预期的52.6亿欧元，上年同期为40.20亿欧元，同比增长35%。净利润为14.11亿欧元，上年同期为10.38亿欧元，同比增长36%。虽然业绩大涨，但是ASML对全年的预期更加悲观，从之前预期增长20%下调到了增长10%，其
关键字：
半导体 ASML 光刻机
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
网址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [
查看详细 ]
关于我们 -
广告服务 -
企业会员服务 -
网站地图 -
联系我们 -
征稿 -
友情链接 -
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473