Imec和ASML共同验证用于沉浸式光刻的新型照明系统

　　Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay，通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品，帮助imec进一步开拓沉浸式光刻技术的应用。