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350nm,俄罗斯光刻机制造完成

作者: 时间:2024-05-27 来源:全球半导体观察 收藏

5月25日消息,据外媒报道称,首台已经制造完成并正在进行测试。联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出,该设备可确保生产(0.35μm)的芯片。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202405/459251.htm


图片来源:塔斯社报道截图

公开资料显示,350纳米尺寸芯片在当代较为落后,但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该的研制成功对于未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。


图片来源:全球半导体观察制图

目前,全球的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。

据外媒公开消息,俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂,分别是Mikron和Angstrem公司,前者提供65-250nm芯片制造能力,后者(2019年破产重组)提供90-250nm芯片制造,拥有8英寸晶圆厂,两家都以提供军用、航天和工业领域芯片产品为主。因此,预计新的国产光刻机设备将会供应到两家企业当中。

俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。之前俄罗斯表示,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造。




关键词: 350nm 俄罗斯 光刻机

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