- 5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm）的芯片。图片来源：塔斯社报道截图公开资料显示，350纳米尺寸芯片在当代较为落后，但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。图片来源：全球半导体观察制图目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。据外媒公开消息，俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂，分别是Mikron
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350nm 俄罗斯 光刻机
- 据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。此前，俄罗斯曾表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。
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