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全面解读集成电路产业链及相关技术

作者: 时间:2017-07-04 来源:国元证券 收藏
编者按:如今集成电路已被广泛应用于所有电子设备,并推动了电子时代的到来,传媒、教育、娱乐、医疗、军工、通讯等各领域的发展均离不开性能卓越的集成电路设备,本文将会对集成电路的一些基础的流程和技术进行相关科普。

  (2)晶圆加工

本文引用地址:https://www.eepw.com.cn/article/201707/361307.htm

  晶圆加工技术是指在晶圆上制造用于电气电子设备中的的过程。该技术是一个多步骤、反复处理的过程。在实施过程中多次重复运用掺杂、沉积、光刻等工艺,最终实现将高集成度的复杂电路“印制”在半导体基质上的目的。整个晶圆加工过程一般历时六至八周,需要在高度专业化的晶圆加工厂中进行。


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  无尘车间

  1)操作类型

  晶圆加工过程与晶圆制造不同,晶圆加工领域的工厂各自遵循本公司特有的生产流程。同时,先进的加工技术逐年推陈出新,使得生产流程不断地发生着改变。但是多样化的制程工艺无外乎从属于以下四个范畴:沉积、清除、成像、电学性质改变。

  沉积是指制程中涉及生长、涂覆或将其他材料转移至晶圆上的步骤。沉积技术包括物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电化学沉积(ECD)、分子束外延(MBE)、相对先进的原子层沉积(ALD)以及其他技术。

  清除是指从晶圆上清除材料的技术。例如蚀刻工艺(湿蚀刻或干蚀刻)与化学机械研磨技术(CMP)。

  成像塑造或改变沉积的材料,一般称为光刻技术。例如,常见的光刻工艺先将晶圆表面覆盖一层化学物质——光刻胶,之后光刻机聚焦、校准并移动印有电路图的光罩,将晶圆上的选中部分曝光于短波光线下。被曝光的区域此后被显影剂溶液洗去。在蚀刻或其他制程之后,剩余的光刻胶由等离子体灰化法清除。

  电学性质改变指掺杂半导体,形成源极与漏极的步骤。该技术过去由扩散炉技术实现,现在多运用离子植入技术。掺杂过程之后晶圆接受炉内退火或更先进的快速热退火(RTA)处理。退火过程激活了植入的掺杂剂。电学性质改变目前也包括了通过紫外线制程降低low-k绝缘体材料介电常数的技术。

  高端设计复杂,所需制程步骤繁多;多层金属连接层技术用以实现大量元件间的有效连接。当代芯片加工多经历300多道制程步骤;可包含11层的金属导线层。


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  光刻原理


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  掺杂及构建CMOS单元原理

  加工好的晶圆在晶圆测试后,将进入芯片厂商,进行最后的测试。

  2)制程逻辑

  “印刻”于晶圆上的半导体元件需以金属导体连接以实现特定的电路功能。以上各种技术工艺按制程的先后顺序,可划分为前段制程(FEOL)与后段制程(BEOL)。以集成于芯片上的元件的相互连接为分水岭:FEOL指沉积金属导电层以前,于半导体基质上形成独立元件(如三极管、电容、电阻、独立的CMOS)的前半段制程;BEOL指金属层沉积后,创建金属导线,连接元件,并构成绝缘各导线的介电层的后半段制程。


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  晶圆加工制程图例

  左图体现晶圆加工前段制程与后段制程的具体内容;右图为晶圆上单个CMOS模块的纵切图,从下到上的三个部分符合芯片的三个制程:FEOL前段制程、BEOL后段制程、Packaging制程。

  (三)封装部分

  封装是半导体设备制造过程中的最后一个环节。在该环节中,微小的半导体材料模块会被臵于一个保护壳内,以防止物理损坏或化学腐蚀。集成电路芯片将通过封装“外壳”与外部电路板相连。

  封装过程后,通过封装测试的成品集成电路设备,将作为成品最终投入的下游设备的应用中去。


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  集成电路的封装

  (1)封装技术的发展演变

  追随摩尔定律,芯片集成度日益提高,单体集成电路需要日益增多的引脚与外部设备连接,以实现更复杂的逻辑控制功能;同时,随着科技进步,各类电子设备向着小型化、智能化发展,电路系统的微缩要求集成电路芯片的体量不断减小。所以,保证性能的前提下,“多引脚、小体量”的芯片封装始终是集成电路封装技术的发展方向。随着封装技术的发展,集成电路封装模式不断推陈出新。目前,各种封装技术均用于不同的市场领域。这里,按照各种工艺出现的先后顺序介绍市场上主流的一些封装技术。

  最早的集成电路封装于扁平的陶瓷管体内,由于其可靠性与较小的体量,在军事领域被应用多年。随后陶瓷管体的封装模式很快进步至塑料管体的 DIP(双列直插式封装)。


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  双列直插式封装

  在1980年代,VLSI规模集成电路的引脚数量超过了DIP封装的技术限制。PGA(插针网格阵列)封装及LCC(无引线芯片载体)封装投入生产,用以突破DIP封装的限制。


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  插针网格阵列封装(左)和无引线芯片载体封装(右)

  表面黏着式封装出现于80年代早期,并于80年代末期兴盛。用于小外形集成电路的鸥翼型封装与J-引脚封装采用优化的引脚间距,使得运用该技术的封装比等效的DIP封装占用面积少30-50%,厚度薄70%。


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  鸥翼型封装(左)和 J-引脚封装(右)

  下阶段,封装技术迎来了巨大的技术创新——表面阵列封装。该技术在封装管体的表面铺设连接节点,因此得以提供比此前封装技术更多的外部连接(此前的封装方式只在管体周围引出接点)。其中 BGA(球栅阵列)封装成为广泛应用的封装技术之一。


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  球栅阵列封装

  BGA封装技术在1970年代便已经存在。1990年代,该技术演进至FCBGA(倒装芯片球栅阵列)封装。FCBGA封装允许存在多于任何封装技术的针脚数量。在FCBGA管壳内,晶片被正面朝下倒装并通过类似于印刷电路板的基体(不通过引线),与管体球栅建立连接。因此FCBGA可以允许成阵列的输入输出信号分散连接至整个晶片表面,而非限制于芯片四周。


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  倒装芯片球栅阵列封装


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关键词: 集成电路 封装

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