- 三星、SK海力士及美光确定未来会用EUV工艺，其中美光的EUV工艺内存在2024年量产。芯研所8月21日消息，CPU、GPU为代表的逻辑工艺制程进入7nm之后，EUV光刻工艺不可或缺。目前内存停留在10nm工艺级别。三星、SK海力士及美光也确定未来会用EUV工艺，其中美光的EUV工艺内存在2024年量产。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采访中确认，美光已将EUV技术纳入DRAM技术蓝图，将由10nm世代中的1γ（gamma）工艺节点开始导入。美光EUV工艺DRAM将会先在台中A3厂生产，预
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美光 EUV DRAM
- SK海力士公司在7月12日表示，本月已经开始生产10纳米8Gb LPDDR4移动DRAM —— 他们将在该内存芯片生产中应用极紫外（EUV）工艺，这是SK海力士首次在其DRAM生产中应用EUV。根据SK海力士的说法，比起前一代规格的产品，第四代在一片晶圆上产出的DRAM数量增加了约25%，成本竞争力很高。新的芯片将在今年下半年开始供应给智能手机制造商，并且还将在2022年初开始生产的DDR5芯片中应用10纳米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士发布声明，正式启用EUV光刻机闪存内存芯片，批量生产采用
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EUV DRAM
- 芯片虽小，制造难度却很大，而且芯片制造的关键设备光刻机的缺乏，更是成为限制我国高端芯片的一大难题。尤其是近两年华为事件的不断发酵，让我国半导体芯片领域的问题越加明显，那就是在芯片制造的设备上，我国依然受制于人的问题相当严重。为什么ASML加速来华？北大教授的发声很现实，国产光刻机突破在即虽然华为研发出基于5nm工艺的麒麟9000芯片，令一众对手刮目相看，但是没有台积电为其代工生产，没有属于中国自己的高端光刻机，就等同于一张“纸老虎”。作为中国大陆最先进的芯片制造企业中芯国际，因为没有高端光刻机，至今仍然没
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EUV 光刻机 ASML
- 据韩媒援引业内人士消息，三星电子已决定在美国得克萨斯州奥斯丁设立EUV半导体工厂，以满足日益增长的小型芯片需求和美国重振半导体计划。该工厂将采用5nm制程，计划于今年Q3开工，2024年投产，预计耗资180亿美元，同时也是三星电子首次在韩国之外设立EUV产线。去年，台积电去宣布将在美国建设芯片工厂，建成之后将采用5nm工艺为相关的客户代工芯片，目标是2024年投产。最新消息称，台积电管理层目前正在讨论，他们在美国的下一座芯片工厂，是否采用更先进的3nm制程工艺，为相关的客户代工芯片。
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三星 5nm EUV 芯片厂
- 本周一，外媒援引韩国产业通商资源部一份有关半导体产业发展战略文件报道称，光刻机制造商阿斯麦将投资2.12亿美元，在京畿道华城建设极紫外光刻机再制造厂和培训中心。在报道阿斯麦将在华城建设极紫外光刻机再制造厂和培训中心时，外媒还提到，虽然三星电子、SK海力士已引进了阿斯麦生产的极紫外光刻机，但他们获得的数量同台积电相比，有不小的差距。 外媒在报道中提到，阿斯麦目前已生产的极紫外光刻机，70%是卖给了台积电，留给其他厂商的就只有30%。 阿斯麦是目前全球唯一能制造极紫外光刻机的厂商，他们已推出了TWIN
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- 做为国内最大也是最先进的半导体制造公司，中芯国际在先进工艺上的进展引人关注，其中7nm及以下节点非常重要，这还牵涉到EUV光刻机。 日前有股民在互动平台上询问，称有报道指出中芯国际不用EUV光刻就攻克了类7nm工艺，要求中芯国际澄清。 对此，中芯国际表示，公司不针对传言进行评论。 从中芯国际官网的介绍来看，该公司提到的最先进工艺还是14nm，接下来的是N+1、N+2工艺，但没有指明具体的工艺节点。 中芯国际联合CEO赵海军曾表示，经过三年的积累，FinFET工艺已经取得了不错的成绩，N+1已经
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- 蓝色巨人出手就是王炸。 5月6日消息，IBM宣布造出了全球第一颗2nm工艺的半导体芯片。 核心指标方面，IBM称该2nm芯片的晶体管密度（MTr/mm2，每平方毫米多少百万颗晶体管）为333.33，几乎是台积电5nm的两倍，也比外界预估台积电3nm工艺的292.21 MTr/mm2要高。 2nm晶圆近照 换言之，在150平方毫米也就是指甲盖大小面积内，就能容纳500亿颗晶体管。 同时，IBM表示，在同样的电力消耗下，其性能比当前7nm高出45%，输出同样性能则减少75%的功耗。 实际上，I
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- 近日，中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作，有媒体报道称“除了EUV光刻机，中芯国际几乎可以买到其他所有型号的光刻机。”但是这一说法很快被ASML官方澄清，该协议与DUV光刻技术的现有协议相关。 可能很多网友看到这里有点蒙圈，这绕来绕去的到底是玩的什么文字游戏。这里先进行一个小科普，EUV和DUV到底有啥区别呢？EUV也就是“极深紫外线”的意思，而DUV是“深紫外线”的意思，通过字面就知道EUV看上去就比DUV高级，实际上也是如此。 ASML澄清与中
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- 荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）1月20日发布了2020年Q4和全年财报，这位世界光刻机霸主去年共出货了31台EUV光刻机，中国大陆由于种种原因没有买到其中任何一台。 有人说阿斯麦是唯一一个能让台积电折腰的公司，这一点也不夸张。阿斯麦所生产的光刻机，是半导体工厂生产芯片的最关键工具。毕竟，没有刀，再好的师傅也雕不出来花。 如果有任何厂商的光刻机设备需要维修，阿斯麦的工程师从登上飞机那一刻，厂商就要付给他们以小时计的美金。 曾经，某上市公司的光刻机出问题后，排了3年队才等到阿斯麦的工程师。结果阿斯麦的
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- 拜登上任在即，他会缓解紧张的中美科技局势吗？近期，全球最大光刻机制造商ASML的CEO表示，即使总统换届，两国在包括光刻机在内的半导体领域，仍将出现进一步的对抗。也有人发表看法，发展芯片，开源指令集架构RISC-V可能会让中国芯片自主「弯道超车」？ 离美国新任总统拜登的上任越来越近了。 在过去川普任职期内，中美之间的贸易战让不少科技公司都卷入其中，总部位于荷兰的光刻机制造商ASML也是其中之一。 由于美国政府的压力，其最新价值约2亿美元的光刻机已停止向中国销售。 由于川普的举动常常出其不意而且疯狂
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- 14日讯，《科创板日报》记者从ASML获悉，其公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。
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- 虽然将会有更多用于EUV光刻的光刻胶制造商。但是目前这个市场是日本公司垄断的。目前只有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，但是毫无疑问，这就是光刻技术的未来。与任何未来一样，它为一些光刻材料市场开拓者提供了在新市场中建立自己的机会。尤其是目前由两家日本公司生产使用EUV光刻机所使用的技术处理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士胶片公司。富士胶片控股公司和住友化学将在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这可能有助于减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，并使它们更加节能。这
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- 9月30日讯，此前有媒体报道，由于先进制程推进顺利和订单量扩大，台积电将加大EUV光刻机的采购力度，预计到2021年底采购量为55台左右。台积电方面回复称：公司不评论市场传闻。据了解，一台EUV光刻机售价近8亿元，55台EUV光刻机价值约440亿元。相关阅读：台积电明年底前将累计采购55台EUV光刻机：花费超440亿元出处：快科技 作者：万南芯片制程已经推进到了7nm以下，这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了，目前全世界只有荷兰ASML（阿斯麦）可以制造。来自Digitimes的报道称，台积电打算在
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EUV 光刻机 台积电
- 9月16日，中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称，“率先行动”计划第二阶段要把美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。白春礼称，从2021年到2030年未来的十年是“率先行动”计划第二阶段。对此，首先要进行体制机制改革。他称，目前已经设立了创新研究院、卓越创新中心、大科学中心和特色所四类机构，目的是根据科研性质不同进行分类定位、分类管理、分类评价、分类资源配置。“这个工作还没有完，只是进行了一部分，所以第二阶段我们争取在2025年要把四类机构全部做完，
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- 相信大家都知道，在前几天，ASML重磅官宣了一条大新闻，正式在中国宝岛台湾建设了第一家海外培训中心—亚洲培训中心，这家培训中心标配了14名培训技师，一年大约可以培养超过360名EUV光刻机操作工程师，能够让芯片生产加工企业更好的掌握和使用EUV光刻机，从而可以进一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其实ASML在台湾建设这座亚洲培训中心，最大的目的就是为了直接帮助台积电培养更多的光刻机操作工程师，因为在过去两年时间里，ASML一共售卖了57台EUV光刻机产品，其中台积电就购得了30台，占据着绝大部分的份额，
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台积电 5nm EUV
euv介绍
在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。
极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。
根据瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），这么短的波长可以提供极高 [
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