在前段时间，台积电创始人张忠谋在即将退休的时候却意外表示，其实中国台湾地区的企业本来就不应该死守，假如价钱够好把台积电卖掉也无妨。
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台积电 EUV
韩国三星电子2017财年(截至2017年12月)合并营业利润创下历史新高，但其危机感正在加剧。三星1月31日发布的财报显示，营业利润同比增长83%，其中仅半导体业务盈利就增至上年的2.6倍，约合3.5万亿日元，显著依赖市场行情，因此危机感增强。3大主要部门面临着半导体增长放缓等课题。三星能否在新经营团队的领导下，将智能手机和电视机的自主技术培育成新的收益源? 2018财年将成为试金石。
三星整体的营业利润为53.65万亿韩元，时隔4年再创历史新高。其中，半导体部门的服务器和智能手机存储销量坚挺，
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三星 EUV
EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过，根据日前在美国加州举办的ISS 2018上所发布的分析显示，实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战。
极紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点。 不过，根据日前在美国加州举办的年度产业策略研讨会(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所发布的分析显示，实现5nm芯片所需的光阻剂(photoresist)仍存在挑战。
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EUV 7nm
晶圆代工之战，7nm制程预料由台积电胜出，4nm之战仍在激烈厮杀。 Android Authority报道称，三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备，又投入研发能取代「鳍式场效晶体管」(FinFET)的新技术，目前看来似乎较占上风。
Android Authority报导，制程不断微缩，传统微影技术来到极限，无法解决更精密的曝光显像需求，必须改用波长更短的EUV， 才能准确刻蚀电路图。 5nm以下制程，EUV是必备工具。 三星明年生产7nm时，就会率先采用EUV，这有如让三星在6nm以下的竞
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4nm EUV
一时之间，仿佛EUV成为了衡量中国半导体设备产业发展水平的标杆，没有EUV就无法实现半导体强国之梦？
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EUV 5nm
近日，TRUMPF公司CTO及股东Peter Leibinger在谈到令人着迷的激光创新时重点提及极紫外光刻，也就是我们常说的EUV。他认为，EUV令人着迷的原因是其极富挑战性及对世界的重要影响。
Peter Leibinger
“如果我们无法实现EUV突破，摩尔定律将失效” Peter Leibinger表示：“其影响范围不仅仅是芯片行业，智能手机产业乃至整个电子装备产业都将改变运作方式。”
什么是EUV?
极紫外光刻(Ex
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TRUMPF EUV
新的光刻工具将在5nm需要，但薄膜，阻抗和正常运行时间仍然存在问题。
Momentum正在应用于极紫外(EUV)光刻技术，但这个谈及很久的技术可以用于批量生产之前，仍然有一些主要的挑战要解决。
EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了，EUV已经遇到了一些延迟，将技术从一个节点推向下一个阶段。
如今，GlobalFoundries，英特尔，三星和台积电相互竞争，将EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
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EUV
Brewer Science, Inc. 很荣幸宣布参加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司将与业界同仁交流台湾半导体制造趋势的见解，内容涵盖前端和后端的材料，以及次世代制造的流程步骤。 今日的消费性电子产品、网络、高效能运算 (HPC) 和汽车应用皆依赖封装为小型尺寸的半导体装置，其提供更多效能与功能，同时产热更少且操作时更省电。透过摩尔定律推动前端流程开发，领先的代工和整合组件制造商(IDM
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晶圆 EUV
台积电(2330)南京厂今日上午正式举行进机典礼，由董事长张忠谋亲自主持，大陆中央及地方贵宾云集，显示对台积电南京投资案重视。
海思及联发科将是首批客户
张忠谋表示，大陆集成电路在中国制造，台积电可助一臂之力。 南京厂预计2018年下半年量产，陆媒预估中国海思及联发科(2454)将是首批客户。
工程师已陆续由台湾进驻
今年上半年台积电工程师已经陆续由台湾进驻南京厂协助建厂事宜，8月16奈米大型机台陆续透过华航包机，由台湾运往南京禄口机场，而南京市政府为了迎接重量级贵宾，加快浦口
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台积电 EUV
晶圆代工龙头台积电将在今年10月23日盛大举办「台积公司30周年庆」论坛，以及于国家音乐厅举办音乐会。 台积电30周年庆活动将由当天下午举行的半导体论坛揭开序幕，由董事长张忠谋亲自主持，将邀请包括高通、博通、辉达(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、苹果等重量级客户及合作伙伴， 与张忠谋一起畅谈半导体产业未来10年展望。
台积电今年欢度30周年，活动当天将盛大举办「台积公司30周年庆」论坛，由董事长张忠谋亲自主持，与谈人包括了NVIDIA执行长黄仁勋、高通执行长Steve Mollenko
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台积电 EUV
对于7nm制程工艺，三星和台积电两大晶圆代工领域巨头都早已入手布局以便争抢IC设计业者们的订单。
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7nm EUV
今天，KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*检测产品线。自从1978年公司推出第一台检测系统以来，KLA-Tencor一直是图案光罩检测的主要供应商，新的FlashScan产品线宣告公司进入专用空白光罩的检验市场。光罩坯件制造商需要针对空白光罩的检测系统，用于工艺开发和批量生产过程中的缺陷检测，此外，光罩制造商(“光罩厂”)为了进行光罩原料检测，设备监控和进程控制也需要购买该检测系统。 FlashScan系统可以检查针对光学或极紫外(EUV)光刻的空白光罩。
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KLA-Tencor EUV
张忠谋曾比喻说：“三星是一只700磅的大猩猩”，表示它十分强悍。然而在现阶段的代工业中三星尚是“新进者”，需要时间的积累。
01、引言
据IC Insight公布的今年Q2数据，三星半导体依158亿美元，同比增长46.5%，超过英特尔而居首。
全球半导体三足鼎立，英特尔、台积电、三星各霸一方，近期内此种态势恐怕难以有大的改变，但是一定会此消彼长，无论哪家在各自领域內都面临成长的烦恼。
然而在三家之中三星谋求改变的势头最猛，而台积电
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三星 EUV
全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 公布最新2017第二季财报。ASML表示，由于不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段，EUV光刻机目前第二季已累积27台订单总计28亿欧元。
ASML 第二季营收净额 (net sales)21亿欧元，毛利率(gross margin)为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。
ASML预估2017第三季营收净额(net sales)约为22亿欧元，毛
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ASML EUV
全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦(ASML)近日公布2017第二季财报。ASML第二季营收净额21亿欧元，毛利率为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。
预估2017第三季营收净额约为22亿欧元，毛利率约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收成长可达25%。
ASML总裁暨执行长温彼得指出:“ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的
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EUV ASML
euv介绍
在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。
极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。
EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。
根据瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），这么短的波长可以提供极高 [
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