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阿斯麦ASML全新EUV光刻机将于2021年中期发货

作者:时间:2020-10-15来源:《科创板日报》收藏

14日讯,《科创板日报》记者从获悉,其公布了路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格,这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1纳米,并计划于2021年的中期开始发货。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202010/419226.htm


关键词: ASML EUV 光刻机

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