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全面起底ASML的EUV光刻技术

  •   用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme Ultra-Violet,极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野,从7nm阶段的技术节点到今年(2019年,也是从今年开始),每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展。    高端逻辑半导体的技术节点和对应的EUV曝光技术的蓝图。  也就是说,在EUV曝光技术的开发比较顺利的情况下,5nm的量产日程时间会大约在2021年,3nm的量产时间大约在2023年。关于更先进的2nm的技术节点,还处于模糊阶段,据预测,其量产时间最快也是在2026
  • 关键字: ASML  EUV  

中国首台ASML NXT2000i正式入驻SK海力士无锡工厂

  •   12月19日晚间,中国首台ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。  据ASML证实,此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i,也即NXT2000。ASML解释道,i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的机器。所以NXT2000即NXT2000i。  据了解,无锡是SK海力士在中国的DRAM内存芯片生产基地,目前每月晶圆的产量约为14万片。  同时,SK海力士还成立了SK Hynix System IC公司,开始进军晶圆代工市场,同时增加100
  • 关键字: ASML  NXT2000i  

半导体设备厂商竞争格局生变?

  •   半导体设备供应商的排名在2016-2017年间没有发生太大的变化,但是这种格局正在发生变化。不仅Lam Research、ASML和东京电子的位次发生调转,排名第一的应用材料公司的宝座位置也岌岌可危。  自1990年以来,应用材料公司一直是半导体设备领域的市场领导者。在此之前的1989年,坐在铁王座位置上的还是日本的东京电子,该公司2016年排名第四,今年前三季度的新排名则是第二。除了位次的变化,也许更重要的是,领头羊和第二名的差距正在迅速收窄。  2016年,应用材料公司的市场份额比Lam
  • 关键字: ASML  NAND  

国产光刻机真的这么厉害吗?这些光刻机知识您得知道

  •   近日,中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着,就成了谣言——《国产光刻机伟大突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁,弯道超车》《厉害了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》……笔者帮您们捋一捋!  关于光刻机,这些知识您得知道  光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大规模集成电路——芯片。为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极
  • 关键字: 光刻机  ASML  

ASML内部“霍乱”,中国晶圆厂成为“首发受害者”

  •   11月30日晚上,荷兰费尔德霍芬的一个科技园区发生火灾,ASML的一家供应商Prodrive遭受了重创,部分厂房与仓库遭受波及。12月3日,ASML发表声明称:“Prodrive供应ASML的部分电子元件和模组,ASML初步评估至2018年底的出货计划不变,但预期部分2019年初的出货将受影响。”ASML还表示需要几周的时间详细评估该事件对公司的影响。  ASML目前已开始协助Prodrive重启生产,同时ASML也已与其他供应商接洽,以确保相关组件和材料的替代来源供应无虞。  12月作为2018年最
  • 关键字: ASML  晶圆  

点亮中国“芯”,这件专利会是国产光刻机的锦鲤吗?

  • 中美贸易大战把当今最先进的半导体产业推上了风口浪尖上,整个产业链上,国内半导体芯片的产业发展就卡在IC制造这一块上了。
  • 关键字: ASML  光刻机  

Imec与ASML联手,EUV成主流技术工具

  •   日前,有消息称,比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室,共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份,分为两个阶段:  首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产,包括最新的EUV设备准备就绪。  其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力,以便能够制造出更小型的奈米级元件,从而推动3nm以后的半导体微缩。  极紫外光(EUV)微影技术  EUV光刻也叫极紫外光刻,它以波长为10-14 nm的极紫外
  • 关键字: ASML  EUV  

荷兰的半导体产业为何如此发达?

  • 荷兰有着很好的经济基础,同时产业完善,产业起步本来就早,同时对半导体产业非常重视,注重商业的拓展和普及,而不只是在实验室弄研究。
  • 关键字: 半导体  ASML  

ASML看好中国市场 最先进光刻机将入华

  •   中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。  尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德,格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发,但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。  此前有消息指出,中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机,预计明年交付,用于7nm节点。  同时,传统的沉浸式光刻机方面,沈波称,今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT:2000i,很快会在中国市场上也见到
  • 关键字: ASML  光刻机  

迫于美国政府压力,光刻机巨头荷兰ASML被曝不再招收中国员工 ...

  •   在高科技领域,美国这一年来加强了对中国人的防范,不只限于美国本土,就连欧洲公司也受到了美国政府的压力,荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。  在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域,美国这一年来加强了对中国人的防范,不只限于美国本土,就连欧洲公司也受到了美国政府的压力,荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。  如果说半导体产业是制造工业的皇冠,那么光刻机可以说是皇冠上的明珠,因为光刻机是半导体制造中最关
  • 关键字: ASML  光刻机  

Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率,已获ASML认证

  •   业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris(纳斯达克:ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的,已在全球率先获得ASML的认证,用于NXE:3400B等产品。  随着半导体行业开始更多地使用EUV光刻技术进行先进技术制程的大批量制造(HVM),对EUV光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要严格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
  • 关键字: Entegris  EUV  ASML  

ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

  •   据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。  NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。  同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。  ASML将于本季度末开始量产Twin
  • 关键字: ASML  光刻机  

中荷半导体“芯”对比

  • 荷兰有恩智浦、ASML、飞利浦等世界领先的半导体企业,而国内半导体产业的基础目前依旧薄弱。
  • 关键字: ASML  恩智浦  

ASML载具供应商家登精密谈中国EUV的发展,面临诸多挑战

  •   载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具,并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。   我们主要研究EUV的配套技术,例如EUV的载具以及EUV的配套光罩,是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级,EUV的重要性逐渐凸显出来,而载具的研究也越发紧迫。过去几年,家登精密一直专心做一件事,那就是载具的配套研究。去年,我们的技术产品已经达到国际先进水平,这是一个值得自豪的成绩。未来,7nm工艺逐渐向5nm升级,技术的研究会越来越困难
  • 关键字: ASML  EUV  

看好中国半导体产业腾飞,ASML南京分公司近日开业

  •   据南京日报报道,8月18日,全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦(ASML)在南京的分公司正式开业。作为台积电的重要合作伙伴及上游供应商,该企业选择落户在南京江北新区研创园孵鹰大厦。   跟随台积电的步伐,ASML在南京的布局在一年前启动。去年11月考察江北新区研创园后,被园区前端的产业定位、创新的整体设计、完善的软硬件配套所吸引。今年8月,ASML南京分公司完成了750平米办公设施搭建,以及服务工程师、装机工程师、应用工程师等多职能覆盖的团队组建。谈及ASML未来对中国半导体市场前景的展望,该公司
  • 关键字: ASML  台积电  
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