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光刻机 文章 进入光刻机技术社区

台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?

  • 5月26日,台积电举办“2024年技术论坛台北站”的活动,台积电CEO魏哲家罕见的没有出席,原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的ASML总部,以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源设备供应商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通过社交媒体透露了魏哲家秘密出访的行踪。Christophe Fouquet表示他们向魏哲家介绍了最新的技术和新产品,包括High-NA EUV设备将如何实现未来
  • 关键字: 台积电  ASML  High-NA  EUV  光刻机  

350nm,俄罗斯光刻机制造完成

  • 5月25日消息,据外媒报道称,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出,该设备可确保生产350nm(0.35μm)的芯片。图片来源:塔斯社报道截图公开资料显示,350纳米尺寸芯片在当代较为落后,但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。图片来源:全球半导体观察制图目前,全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。据外媒公开消息,俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂,分别是Mikron
  • 关键字: 350nm  俄罗斯  光刻机  

俄罗斯首台光刻机问世

  • 据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试,该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出,到2026年将获得130nm的国产光刻机,下一步将是开发90nm光刻机,并继续向下迈进。此前,俄罗斯曾表示,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造。
  • 关键字: 俄罗斯  光刻机  350nm  

High-NA EUV光刻机或将成为英特尔的转机

  • 上个月英特尔晶圆代工宣布完成了业界首台High-NA EUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤,为未来工艺路线图的生产做好准备。
  • 关键字: High-NA  EUV  光刻机  英特尔  芯片  半导体  

英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装,计划明年投入研发使用

  • IT之家 4 月 19 日消息,英特尔今日宣布其已在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的 Fab D1X 研发晶圆厂完成世界首台商用 High NA(0.55NA) EUV 光刻机的组装工作,目前已进入光学系统校准阶段。▲ 图源英特尔新闻稿这台光刻机型号 TWINSCAN EXE:5000,为 ASML 的首代 High NA EUV 光刻机,价值约 3.5 亿美元(IT之家备注:当前约 25.38 亿元人民币)。就在不久前 ASML 宣布其在荷兰埃因霍温总部的另一台 High NA EUV 光刻机成功
  • 关键字: 英特尔  ASML  光刻机  

美国施压不准向中国提供光刻机维修服务!ASML再回应

  • 4月19日消息,光刻机制造商ASML的CEO公开表示,没有理由不为中国客户提供售后服务。荷兰芯片设备制造商阿斯麦(ASML)周三发布的财报显示,第一季度净预订量从去年第四季度的92亿欧元降至36亿欧元。阿斯麦首席财务官达森称,中国客户约占公司积压订单的20%。“中国的需求很强劲。其产能增加是合理的,并且符合本世纪后半段的全球需求。”“目前,没有什么能阻止我们为中国客户已经购买的产品提供服务”,温宁克称。外媒表示,阿斯麦是欧洲市值最高的科技公司,而它现在已经成为美国政府用以遏制中国芯片产业发展的靶子。近日,
  • 关键字: 光刻机  阿斯麦  

阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机,买家身份成谜

  • IT之家 4 月 18 日消息,荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻机。这台高端光刻机旨在制造比当前低 NA EUV 设备所能制造的更高密度的芯片。据路透社报道,第二台高端光刻机的出货意味着这一最新技术正逐渐被采用。然而,ASML 对买家身份讳莫如深,只能猜测其身份,路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上,英特尔已经购买了首台高数值孔径 EUV 光刻机,用于其即将推出的 14A 制程节点。正如 A
  • 关键字: ASML  光刻机  

美国:不准向中国厂商提供光刻机维修服务!ASML回应

  • 4月18日消息,ASML公开表示,将继续为中国大陆厂商提供设备维修服务。此前有消息称,美国计划向荷兰施压,试图阻止ASML在中国提供部分设备的维修服务。在业绩电话会上,ASML首席执行官温宁克回应称,“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。”光刻机是制造芯片的关键设备,中国大陆是ASML的第二大市场。因此,这种限制可能对中国的晶圆制造商产生重大影响,特别是对于维护产线稳定运行所必需的光刻机核心部件的供应和维护。之前外界担心,受限的光刻机主要是NXT:2000i及更先进的机型,而其他未受限
  • 关键字: ASML  光刻机  

半导体光刻机巨头,何去何从?

  • 3月27日消息,据外媒报道,为留住光刻机设备巨头阿斯麦(ASML)继续在荷兰发展,荷兰政府计划向ASML注入至少10亿欧元资金。本月初,荷兰当地报纸De Telegraaf揭露,ASML计划将公司搬离荷兰。报道指出,ASML已向荷兰政府提出了意向,表示将有可能在其他地方扩张或迁移,法国是选择之一。根据荷兰通讯社的消息,荷兰政府为此专门成立了一个名为“贝多芬行动”的特别工作小组,由首相马克·吕特亲自领导,旨在与ASML进行协商以解决其对荷兰当地劳动力供应、法规政策和供应链安全的担忧。最新消息指出,荷兰政府计
  • 关键字: 半导体  光刻机  ASML  

ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术

  • 3 月 27 日消息,据荷兰媒体 Bits&Chips 报道,ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻机的技术,运行效率得以提升。根据IT之家之前报道,NXE:3800E 光刻机已于本月完成安装,可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量,相较以往机型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技术 High-NA(高数值孔径) EUV 采用了更宽的光锥,这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽,会导致影响晶圆吞吐量的光损失。
  • 关键字: ASM  NXE:3800E EUV  光刻机  High-NA  

逼近极限!ASML发布第三代EUV光刻机

  • 芯片制造商需要速度。在科技日新月异的今天,芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业,ASML近日发布的第三代EUV光刻机——Twinscan NXE:3800E,无疑为全球芯片制造业带来了新的希望与机遇。更加先进的光刻机出现,不仅代表着ASML在光刻技术领域的又一次突破,更将助力芯片制造商实现2nm处理器制造的飞跃。又一“神器”出现ASML,作为全球领先的光刻机制造商,不用过多介绍。此次发布的Twinscan NXE:3800E光刻机,是ASML在EUV光刻技术领域的又一
  • 关键字: ASML  光刻机  

ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解

  • 据路透社报道,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划将公司搬离荷兰。荷兰政府紧急成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组,由首相马克·吕特亲自领导,以确保ASML继续在荷兰发展。消息还称,ASML已向荷兰政府提出了意向,表示将有可能在其他地方扩张或迁移,法国或是选择之一。针对最近“搬离荷兰”等传言,ASML发言人对媒体称他们在考虑公司的未来,但没有透露具体的想法。ASML为何要搬离荷兰?凭借先天的地理位置及海港内陆网络,荷兰一直为欧洲的交通枢纽,国家经济高度依赖国际贸易,2022年最新出口额占全国GDP之比超
  • 关键字: ASML  荷兰  EUV  佳能  光刻机  

对话ASML|与光同行,共赴"芯"辰大海

  • ASML作为半导体行业的全球供应商,在科技领域不断创新,为客户提供包括光刻机、计算光刻和量测在内的"铁三角"全景光刻解决方案。同时,公司也将人才视为追"芯"之旅的中坚力量,致力于通过挑战求精(Challenge)、合作共进(Collaborate)、关爱致远(Care)为特征的"3C文化",以及"财务、身体、心理、社交和职业发展"这五大健康维度,帮助人才解锁闪耀"芯"途。本期,优兴咨询特邀ASML中国区人力
  • 关键字: DUV  光刻机  ASML  

ASML:2023年营收超预期,明年多款光刻机不会获得对华出口许可

  • 预计 2024 年将是 ASML 过渡的一年,销售额与 2023 年相似。
  • 关键字: ASML  光刻机  

ASML 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择

  •  2 月 2 日消息,ASML 首席财务官 Roger Dassen 近日接受了荷兰当地媒体 Bits&Chips 的采访。在采访中,Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑,表示 High-NA(高数值孔径)EUV(极紫外光)光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis 之前刊发文章,认为 High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于沿用现有的 0.33NA EUV 光刻机并搭配多重曝光,引入 Hig
  • 关键字: ASML  光刻机  
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