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光刻机 文章

ASML看好中国市场 最先进光刻机将入华

  •   中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。  尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德,格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发,但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。  此前有消息指出,中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机,预计明年交付,用于7nm节点。  同时,传统的沉浸式光刻机方面,沈波称,今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT:2000i,很快会在中国市场上也见到
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迫于美国政府压力,光刻机巨头荷兰ASML被曝不再招收中国员工 ...

  •   在高科技领域,美国这一年来加强了对中国人的防范,不只限于美国本土,就连欧洲公司也受到了美国政府的压力,荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。  在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域,美国这一年来加强了对中国人的防范,不只限于美国本土,就连欧洲公司也受到了美国政府的压力,荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。  如果说半导体产业是制造工业的皇冠,那么光刻机可以说是皇冠上的明珠,因为光刻机是半导体制造中最关
  • 关键字: ASML  光刻机  

ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

  •   据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。  NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。  同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。  ASML将于本季度末开始量产Twin
  • 关键字: ASML  光刻机  

华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈向14nm

  •   中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机,未来可用于生产7nm工艺芯片,长江存储也迎来了自己的第一台光刻机,同样来自ASML,不过是193nm沉浸式,用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,7200万美元一台。  据集微网报道, 5月21日上午,在上海浦东新区康桥工业园南区,华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目(“华虹六厂”)实现首台工艺设备光刻机搬入。  这台光刻机的型号是NXT 1980Di,依然是荷兰ASML提
  • 关键字: 华虹  光刻机  

探秘中国通信芯片那些事:行业中流砥柱

  • 中美经贸关系开始缓和,未来在高科技领域的合作将更多,竞争也将更加激烈。
  • 关键字: 芯片,光刻机  

价值7200万美元,长江存储首台光刻机运抵武汉

  •   长江存储的首台光刻机已于今天中午运抵武汉天河机场,设备相关的海关、商检及边防口岸的相关手续办理完成后,即可运至长江存储的工厂。据集微网独家消息,这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机,售价7200万美元,用于14nm~20nm工艺。这也从侧面透露了长江存储3D NAND闪存芯片的工艺制程。这是长江存储的第一台光刻机,陆续还会有多台运抵。  图:ASML的光刻机安全降落武汉天河机场,正在卸货中  在今年的4月5日,长江存储首批400万美元的精密仪器开始进场安装,标志着国家存储器基地从厂房建设阶段进
  • 关键字: 长江存储  光刻机  

这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背

  • 真正的核心技术靠化缘是要不来的。我们还有多少亟待攻克的关键核心技术,差距在哪,需要从哪些方面突破?
  • 关键字: 光刻机  

上海微电子采购Bumotec机床 加速中国光刻机研发

  •   去年,一台价值1.06亿元设备经空运从荷兰飞抵厦门,由于该设备价值高,而且对保存和运输有着很高的要求——保存温度必须保持在23摄氏度恒温状态下,为了避免影响设备的精度,在运输中也对稳定性有极高的要求。因此,机场海关以机坪查验的方式对该货物实行全程机边监管,待货物装入特制温控气垫车后移至海关的机坪视频监控探头之下,在完成紧急查验后当晚就放行。   没错,这台设备就是荷兰ASML的光刻机。铁流猜测,这台设备很有可能是厦门当地政府与台湾联华电子合资的晶圆厂从荷兰ASML采购的。
  • 关键字: Bumotec  光刻机  

半导体厂商无不识君 聊一聊隐形大佬ASML

  • ASML是集合了西方光学应用科学与半导体尖端制造设备技术于一体的科技庞然大物,它的影响力是任何一个国家在半导体领域都无法忽视的。
  • 关键字: ASML  光刻机  

光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光刻实现突破

  •   SEMICON China 2017开幕日即3月14日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(后简称“SMEE”)宣布,SMEE 与荷兰公司 ASML 签署战略合作备忘录(MoU),为双方进一步的潜在合作奠定了基础。   根据这项合作备忘录,ASML 和 SMEE 将探索就 ASML 光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路研发中心(ICRD)宣布合作之后,进一步深入参与中国的IC产业的发展。   光刻机被称
  • 关键字: 光刻机  ASML   

耗费巨资购买EUV光刻机 台积电有何打算?

  • 台积电、三星与英特尔之间先进制程的战局依旧如火如荼的展开,三方比拼毫不手软。
  • 关键字: 台积电  光刻机  

片内相位测量工具模拟光刻机

  • 关键字:片内相位测量 模拟光刻机采用特殊照明方式的高/超高数值孔径(NA)的193nm光刻机和相位移掩膜版(PSM),使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增,而业界又迫切需要
  • 关键字: 相位测量  模拟  光刻机    

ASML TWINSCAN系统实现新的里程碑

  •   ASML近日宣布,两位使用TWINSCAN 光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录,即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的,两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm光刻生产能力。  
  • 关键字: 光刻机  晶圆  

沉浸式光刻机供货紧缺 台系内存芯片厂制程升级受阻

  •   据内存业者透露,由于著名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺,因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间 可能会再后延12个月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38nm以上级别制程至关重要,因此预计台系内存芯片厂商制程转换的进度 会受到较大的影响。NXT:1950i 是荷兰ASML公司最新开发的沉浸式光刻机,可用于制造12英寸32nm及以上级别制程的产品.   此前曾有报道称 NXT:1950i的订货至到货日期已经被拉长到了将近12个月,
  • 关键字: ASML  光刻机  内存芯片  

Imec和ASML共同验证用于沉浸式光刻的新型照明系统

  •   Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay,通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月,imec使用的ASML XT:1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品,帮助imec进一步开拓沉浸式光刻技术的应用。
  • 关键字: ASML  光刻机  
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光刻机介绍

国外半导体设备 我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台, 金丝球焊机,电子束蒸发台。 溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸 精密划片机,300毫米清洗机,。 如您感兴趣请登录以下网站或Email: 网址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看详细 ]

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