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光刻机 文章

14nm工艺已量产华为麒麟芯片 中芯国际7nm研发多时

  • 作为国内最先进的晶圆代工厂,中芯国际SMIC去年底已经量产了14nm工艺,Q1季度14nm工艺贡献了1.3%的营收,预计到明年将贡献10%的营收。中芯国际14nm工艺一大重要进展就是成功为华为代工麒麟710A处理器,四颗A73+四颗A53八核心设计,主频2.0GHz,已经用于荣耀4T系列手机上。在14nm之外,中芯国际还有基于14nm工艺的12nm工艺改良版,此前官方表示12nm工艺比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%,目前已经启动试生产,与客户展开深入合作,进
  • 关键字: 中芯国际  7nm  光刻机  

单价超10亿元 Intel台积电三星每年需要多少EUV光刻机?

  • 作为半导体行业最重要的生产设备,光刻机实在太重要了,整个芯片生产1/3的时间及成本都耗费在光刻上,EUV光刻机更是只有荷兰ASML一家公司能产,单台售价超过10亿美元,这个生意一般人做不了。半导体工艺在7nm及以上的时候,不用EUV光刻机也能制造,就是成本有点高。目前对EUV光刻机有需求的厂商就三个——Intel、台积电、三星,其中后两家的EUV工艺已经量产,Intel的要到2021年7nm工艺上才会用到EUV光刻机。那这三家公司对EUV光刻机有多少需求?根据ASML提供的计算方式,每月4.5万片晶圆、一
  • 关键字: Intel  台积电  三星  光刻机  

光刻机制造商ASML:疫情中公司订单依然强劲

  • 据外媒报道,由于担心新型冠状病毒疫情带来的不确定性,三星和台积电的半导体设备供应商ASML宣布撤回2020年第二季度的业绩预期。不过,这家生产极紫外线(EUV)光刻设备的荷兰公司补充说,该公司的设备订单依然强劲,需求也没有变化。ASML首席执行官彼得·温宁克(Peter Wennink)说:“需求前景没有变化,今年我们没有遇到任何推迟或取消交易的情况。尽管当前形势充满挑战,但到目前为止,我们能够继续保持正常业务。”但温宁克补充说:“目前新型冠状病毒疫情将如何影响全球GDP发展、终端市场、我们的制造能力以及
  • 关键字: 光刻机  ASML  

EUV光刻机订单少了?ASML下调Q1季度营收预期 暂停股票回购

  • 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多个行业的生产、消费都受到影响了,半导体行业也不例外。ASML公司今天宣布下调Q1季度营收预期,同时暂停股票回购,不过他们没公布EUV光刻机出货量是否受影响了。今年1月份ASML公司发布了2019年Q4及全年财报,2019年交付了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前预计营收31到33亿欧元之间,毛利率46%到47%之间,研发费用约为5.5亿欧
  • 关键字: 阿斯麦  光刻机  极紫外光刻  

引入EUV技术的6nm,才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm,而这项技术也将伴随未来可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 关键字: EUV  6nm  光刻机  

90%市场被国外厂商垄断 光刻胶国产化急需提速!

  • 近年来,虽然中国在芯片设计领域有了突飞猛进的发展,涌现出了一批以华为海思为代表的优秀的芯片设计企业,但是在芯片制造领域,中国与国外仍有着不小的差距。不仅在半导体制程工艺上落后国外最先进工艺近三代,特别是在芯片制造所需的关键原材料方面,与美日欧等国差距更是巨大。即便强大如韩国三星这样的巨头,在去年7月,日本宣布限制光刻胶、氟化聚酰亚胺和高纯度氟化氢等关键原材料对韩国的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如热锅上的蚂蚁,却又无可奈何。最后还是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危机。而在美国制裁中兴
  • 关键字: CPU处理器  光刻机  光刻胶  

ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限

  • 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
  • 关键字: 光刻机  极紫外光刻  

ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限

  • 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩
  • 关键字: 光刻机  极紫外光刻  

佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年:半导体器件这样炼成

  • 半导体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。你知道吗,日本首台半导体光刻机发售已经50周年了。今日,佳能中国宣布,佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年。佳能PPC-1于1970年发售,随着数字技术的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断升级。首台日本产半导体光刻机PPC-1据悉,佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术,佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后,为了进一步扩大业务范围,佳能
  • 关键字: 佳能  光刻机  

高景深步进式光刻机等多个集成电路项目落地浙江海宁

  • 日前,浙江海宁市举行2020年1月“双招双引”项目集中签约仪式,17个项目落户海宁,总投资达24亿元。
  • 关键字: 光刻机  浙江海宁  集成电路  

弘芯半导体ASML高端光刻机进场 第三家国产14nm工艺来了

  • 12月22日,位于湖北武汉的弘芯半导体发布公告,该厂为首台高端光刻机设备进厂举行了隆重的进厂仪式,虽然官方没有公布具体信息,但可以确定是一台ASML的高端光刻机,售价也是数千万美元级别的。根据湖北媒体之前的报道,弘芯半导体制造产业园是2018年武汉单个最大投资项目,位于临空港经济技术开发区临空港大道西侧,规划用地面积636亩,建筑面积65万平方米,总投资1280亿元。该项目2017年已投入建设资金520亿元,2018年第二期项目再投资760亿元,拟建设芯片生产制造基地及配套企业。项目计划于2019年上半年
  • 关键字: 阿斯麦  光刻机  

中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 技术研发步入正轨

  • 在半导体工艺进入10nm节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了,而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机,日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题,EUV技术研发步入正轨。前不久有消息称ASML停止对中芯国际供应EUV光刻机,随后ASML公司表示不是停供,而是延期,主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。中芯国际董事长周子学日前在韩国访问,韩媒报道称周子学表态已经解决了与ASML之间就光刻机供应存在的问题,强调中芯国际在先进
  • 关键字: 光刻机  极紫外光刻  

唯一打破ASML光刻机双工台技术垄断:华卓精科拟登陆科创板

  • 近年来,随着国家的大力支持以及国内市场需求的快速增长,国产半导体产业发展迅猛,而在关键的国产半导体设备领域也有了不小的进步。比如在硅刻蚀机领域,北方华创实现了14nm设备的突破,同时也在去年实现了适用于8英寸晶圆的金属刻蚀机的研发和生产。已经登录科创板的中微半导体自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5nm制程生产线。但是在晶圆制造环节更为关键的光刻机领域,却仍与国外有着巨大的差距。目前荷兰的ASML是全球最大的光刻机制造商,占据了全球光刻机市场(按销售计)的近90%的市场份
  • 关键字: 阿斯麦  光刻机  

国家半导体大基金二期募资2041亿 国产EUV光刻机有望解决?

  • 据报道,第二期国家集成电路产业投资基金——也就是大基金,已经在10月22日注册成立,注册资本高达2041.5亿元,比第一期的1387.2亿元高出一半多,最快11月份开始投资,这次投资重点是半导体装备及材料行业。为了推动半导体行业投资,2014年国务院发布《国家集成电路产业发展推进纲要》,提出要设立国家产业投资基金。2014 年9月24日,国家财政部、国开金融、中国烟草、亦庄国投、中国移动、上海国盛、中国电子、中国电科、华芯投资等共同发起“国家集成电路产业投资基金”,这就是俗称的大基金。目前,国家
  • 关键字: 光刻机  

EUV光刻机将如何发展?

  • AI、5G应用推动芯片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,半导体设备商遂陆续推出新一代方案。AI、5G应用推动晶片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,为此,艾司摩尔(ASML)持续强化极紫外光(EUV)微影系统效能。艾司摩尔(ASML)资深市场策略总监Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自动驾驶、5G、大数据及AI等,持续推动半导体产业发展,为满足各式应用、资料传输,以及演算法需求,芯片效能不断提高的
  • 关键字: 光刻机  
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光刻机介绍

国外半导体设备 我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台, 金丝球焊机,电子束蒸发台。 溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸 精密划片机,300毫米清洗机,。 如您感兴趣请登录以下网站或Email: 网址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看详细 ]

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