- 最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造 7nm 及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需要的精密零部件太多了，每一种的技术含量都非常高，而且，要想把这些零部件组合成一台可用的机器，需要长期的技术和实践积累。光刻这个概念，有广义和狭义之分。在狭义层面，就是用光去「复印」集成电路图案，这也是我们常说的光学光刻技术，特别是紫外线光刻技术（DUV 和 EUV）。在广义层面，光刻泛指各种集成电路「复印」和「印刷」技术，这些技术中，
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光刻机
- 近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻机 高能同步辐射光源
- 当下，光刻机在半导体行业的地位前所未有的重要，而且已经突破了技术和产业范畴，引发了新一波光刻机之争。从历史发展情况来看，光刻机（这里主要指用于制造集成电路前道工序的光刻机）的发展和应用经历了很多波折，总体来看，有两个值得关注的时期，一个是 ASML 依靠浸没式技术，异军突起，并将原本的行业两强甩在身后，这是技术之战，另一个是 EUV 商用化之后，先进制程（从 16nm 开始）争夺战打响，台积电、三星电子和英特尔这三家为了争夺产量有限的 EUV 而展开竞争，这是商业之争。从目前的情况来看，第三波光刻机之争正
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光刻机
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。据称，这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品，并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NS
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尼康 光刻机
- IT之家 6 月 26 日消息，据日本经济新闻报道，日本经产省与荷兰经济事务和气候政策部在东京签署了半导体合作备忘录。二者将共同推进欲量产 2 nm 工艺的日本晶圆代工商 Rapidus 与荷兰光刻机巨头 ASML 的合作，并联手进行技术开发。▲ 图源：ASML报道称，ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴，采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到，EUV 光刻机在全球范围内较为短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出，如果 Ra
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ASML 光刻机
- 知情人士称，美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出，日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性，美光也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团，而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。自201
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1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻机
- 5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。日本当前的逻辑工艺还在28nm以上，但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺，直接搞2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、
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日本 EUV 光刻机
- 目前全球仅4家厂商，能够制造光刻机，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微电子。从技术水平来看，ASML>尼康>佳能>上海微电子。如下图所示，ASML的光刻机能够达到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微电子的在90nm以上。再给大家一个数字，这是某机构统计的，2021年全球半导体前道光刻机的销售情况，从这张表可以看出来，小米7nm的EUV光刻机，ASML全部包揽。在45-7nm的光刻机上，仅有尼康、ASML能够推出，尼康也就是打酱油，仅卖出4台，另外的
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光刻机 ASML 尼康 佳能 上海微电子
- 受消费电子市场低迷影响，半导体产业迈入下行周期，上游半导体设备也因客户去库存、调整订单受到影响。不过，光刻机龙头企业ASML发布的最新财报显示，尽管光刻机业务遭遇一定挑战，但未来产业前景仍旧向好。01EUV/DUV收入超预期增长，半导体需求结构性分化4月19日，ASML发布2023年第一季度财报，该季ASML实现了净销售额67亿欧元，毛利率为50.6%，净利润达20亿欧元。今年第一季度的新增订单金额为38亿欧元，其中16亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2023年第二季度的净销售额约为65亿~70亿欧
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ASML 光刻机
- 据台系设备厂商透露ASML近期由于客户大砍资本支出、缩减订单，最重要的是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备订单及延后拉货时间，2024全年业绩将明显承压。根据ASML的财报显示，今年一季度的净销售额为67.46亿欧元，较去年同期的35.34亿欧元大幅增加，接近翻番，较上一季度的64.3亿欧元也有增加；净利润为19.56亿欧元，较去年同期的6.95亿欧元大幅增加，较上一季度的18.17亿欧元也有增加。虽然净销售及利润同比环比均有增加，但ASML在财报中也披露了不利的消息，其一季度的净订单只有37.52亿欧元
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ASML 台积电 7nm DUV 光刻机 出口 中国
- 3月28日，商务部部长王文涛会见荷兰阿斯麦公司（ASML）全球总裁温宁克。商务部官网消息，3月23日-28日，王文涛相继会见了高通、苹果、宝马等超10家外企高管。王文涛强调，中国坚定不移推进高水平开放，愿为包括阿斯麦公司（ASML）在内的跨国公司来华发展创造良好营商环境，并提供高效服务。希望阿斯麦坚定对华贸易投资合作信心，为中荷经贸合作作出积极贡献，并共同维护全球半导体产业链供应链稳定。双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。证券时报·e公司记者留意到，上述会面距离3月8日荷兰政府发布有关即将出台的半导体
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- 半导体周要闻2023.3.13-2023.3.171. 任正非：华为三年完成了13000型号器件的替代开发近日，华为公司在深圳坂田总部举办“难题揭榜”火花奖颁奖典礼，为在解题揭榜中做出突出贡献的获奖人员代表颁奖，华为总裁任正非发表了讲话，部分参与座谈的大学发布了座谈纪要。任正非表示，在美国制裁华为这三年期间，华为完成 13000 + 型号器件的替代开发、4000 + 电路板的反复换板开发等，直到现在电路板才稳定下来，因为有了国产的零部件供应。任正非表示，华为现在还属于困难时期，但在前进的道路上并没有停步。
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莫大康 半导体 华为 光刻机 NAND
- 半导体一周要闻2023.3.13-2023.3.171. 任正非：华为三年完成了13000型号器件的替代开发近日，华为公司在深圳坂田总部举办“难题揭榜”火花奖颁奖典礼，为在解题揭榜中做出突出贡献的获奖人员代表颁奖，华为总裁任正非发表了讲话，部分参与座谈的大学发布了座谈纪要。任正非表示，在美国制裁华为这三年期间，华为完成 13000 + 型号器件的替代开发、4000 + 电路板的反复换板开发等，直到现在电路板才稳定下来，因为有了国产的零部件供应。任正非表示，华为现在还属于困难时期，但在前进的道路上并没有停步
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半导体 莫大康 华为 NAND 光刻机
- 自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开 ASML（阿斯麦）的 DUV（深紫外）和 EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL）。日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比 EUV 光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和
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光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
如您感兴趣请登录以下网站或Email:
网址:http://www.loadpoint.com.cn
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